【課題】高感度、高解像度のフォトレジスト材料を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される環状化合物。


式中、Ｒは、環状アルコキシカルボニルアルコキシカルボニル基等を表し、Ｒ^１は環状アルコキシカルボニルアルコキシ基等を表す。 （もっと読む）

【課題】重合性の液晶組成物を構成した場合他の液晶化合物と優れた溶解性を有し、前記重合性の液晶組成物を硬化させた場合に優れた耐熱性、機械強度及び大きな屈折率異方性を示す重合性化合物を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）


で表わされる重合性化合物、具体的には例えば下記構造の化合物で例示される。


当該化合物を構成部材とする液晶組成物、更に、当該液晶組成物を用いた光学異方体、又は液晶デバイスを提供する。本願発明の重合性化合物は、他の液晶化合物との優れた溶解性を有することから重合性組成物の構成部材として有用である。又、本願発明の重合性化合物を含有する重合性成物は、液晶相温度範囲が広く当該重合性組成物を用いた光学異方体は、耐熱性が高く、偏向板、位相差板等の用途に有用である。 （もっと読む）

【課題】
優れた解像度及び形状を有するパターンを形成することができる化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を得るための化合物を提供すること。
【解決手段】
下記式（Ｉ）で表される化合物。
【化１】


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子、フッ素原子、又はフッ素原子で置換されていてもよい直鎖状若しくは分岐状の炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は、互いに独立に、水素原子、又は直鎖状若しくは分岐状の炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ^４は、炭素数１〜８の２価の炭化水素基を表す。Ｒ^５は、単結合、炭素数１〜４の２価の炭化水素基又はカルボニル基を表す。Ｒ^６は、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

ホスフィンオキシド前触媒を供給し、そしてホスフィンオキシド前触媒を還元して、ホスフィンを生成し；ホスフィン及び反応体からホスホニウムイリド前駆体を形成し；ホスホニウムイリド前駆体からホスホニウムイリドを生成し；ホスホニウムイリド前駆体をアルデヒド、ケトン、又は、エステルと反応させて、オレフィン及びホスフィンオキシドを形成し、その後、サイクルに再び入る工程を含む、ホスフィンを使用する触媒的ウィッティヒ方法。本発明はまた、ホスフィンにおける触媒的な光延反応に関する。
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本発明は式（１）又は（１Ａ）（式中、Ｒ_１及びＲ_２はメチルであるか又は一緒になって−（ＣＨ_２）_５−であり；且つｎは２又は３である）の新規なオリゴ官能性光開始剤に関し、（１Ａ）の溶媒は水又は有機溶媒であり；またそれらの光重合性組成物、特にインクでの使用に関する。
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【課題】１価のインジウムを触媒として用いてアセタールをアリル化するホモアリルエーテルの製造方法を提供する。
【解決手段】式(1)


（式中、Ｒ^１は水素原子、炭化水素基、クロロ基、アルコキシ基、又は置換基を有するシリル基；Ｒ^３は水素原子又は脂肪族炭化水素基）で表され、ホウ素を含むアリル化剤によってアセタールをアリル化するホモアリルエーテルの製造方法であって、アセタールに対し１〜５０mol%のＩｎＯＴｆを触媒として用いる。 （もっと読む）

【課題】強度的に優れ、カラムリアクターとしての機能を安定して発揮できるカラムリアクター及びその製造方法を提供すること目的としている。
【解決手段】エポキシ樹脂と、硬化剤と、金属補足能を有する化合物と、反応誘起相分離性能及びポロゲンとなる機能を有する重合溶液と、を含む混合溶液を、成形型内に注入し、成形型内で注入された混合溶液のエポキシ樹脂を重合させて、得られた重合物中から前記重合溶液を除去して金属補足能を有する化合物が組み込まれたエポキシ樹脂系ポリマーモノリスを得たのち、金属補足能を有する化合物が組み込まれたエポキシ樹脂系モノリス成形体に触媒金属イオンを含む溶液を含浸させ、その後、触媒金属イオンを還元してエポキシ樹脂系モノリスの骨格表面に触媒金属を析出させて、カラム状をしたエポキシ樹脂系ポリマーモノリスの骨格表面に触媒金属が担持されているカラムリアクターを得るようにした。 （もっと読む）

【課題】縮合反応を良好に進行させると共に、縮合反応の終了後にはフルオラス縮合剤に由来するフッ素成分を粗反応物から簡易に分離できる方法を提供する。
【解決手段】N-アルキル-2-ハロピリジニウム塩におけるアルキル基をパーフルオロ炭化水素基に置換してなる化合物であって、前記パーフルオロ炭化水素基中のフッ素量が前記化合物の分子量の４０〜６０重量％を占めるものであるフルオラス縮合剤。 （もっと読む）

共有結合性有機骨格として配列した、複数のセグメントと複数の連結基とを含む、構造化有機薄膜であって、構造化有機薄膜は、複数セグメントの厚さの構造化有機薄膜とすることができる。
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【課題】高感度及び高解像度のフォトレジスト材料を提供する。
【解決手段】カリックスレゾルシナレン化合物と酸解離性溶解抑制基を有する化合物とを１〜３種の塩基性有機化合物を縮合剤として縮合し下記式（４）で表される化合物を合成し、これを高感度及び高解像度のフォトレジスト組成物に使用する。
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