【課題】ジアルコール体の副生を抑えつつ、炭素−炭素二重結合を有するラクトン化合物を製造できる方法を提供する。
【解決手段】式（１）の化合物を水素化ホウ素ナトリウムで還元し、式（２）のラクトン化合物、式（３）のラクトン化合物を製造する方法において、水素化ホウ素ナトリウムの使用量が式（１）の化合物に対して０．５〜０．９倍モルの範囲である（式中、Ｒ^１〜Ｒ^６は、それぞれ水素原子、メチル基またはエチル基であり；Ａ^１およびＡ^２は、ともに水素原子である、もしくは連結して−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または−Ｏ−を形成する）。
【化１】
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【課題】レジストパターン形成時の露光マージン（ＥＬ）に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）及び式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ²は、フッ素原子を有する炭化水素基；Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、２価の飽和炭化水素基；Ｒ^ｆ１及びＲ^ｆ２は、互いに独立に、フッ素原子又はフッ化アルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）及び式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ａ¹⁴は、脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹は、式（ａ−ｇ１）で表される基；ｓは０〜２の整数；Ａ^１０は脂肪族炭化水素基；Ａ^１１は、単結合又は脂肪族炭化水素基、但し、ｓ＝０の時、Ａ^１１は単結合ではない；Ｘ^１０は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基又はオキシカルボニルオキシ基；環ＷＲ^２は、置換基を有していてもよいラクトン環基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、それぞれ、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１及びＬ^２は、２価の飽和炭化水素基を表し、該基中のメチレン基は、酸素原子等で置き換わっていてもよい；環Ｗは脂環式炭化水素を表し、該脂環式炭化水素中のメチレン基は、酸素原子等で置き換わっていてもよく、該脂環式炭化水素中の水素原子は、ヒドロキシル基、アルキル基等で置換されていてもよい；ｓは０〜３の整数；Ｒ^１は脂肪族炭化水素基を表し、該基中のメチレン基は、酸素原子等で置き換わっていてもよい；Ｒ^２〜Ｒ^４は、それぞれ、水素原子、アルキル基又は脂環式炭化水素基等を表す；Ｚ^＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】新規化合物、高分子化合物、レジスト組成物、酸発生剤及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式（１−１）で表される化合物［式中、Ｒ^１、Ｒ^３はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基であり、Ａは２価の連結基であり、Ｒ^２、Ｒ^４はそれぞれ独立に、水酸基、置換基を有していてもよい炭化水素基、又は式（１−ａｎ１）、（１−ａｎ２）又は（１−ａｎ３）で表される基である。n０は０又は１である。Ｙ¹は単結合又は−ＳＯ_２−であり、Ｒ^５はフッ素原子で置換されていてもよい、炭素数１〜１０の１価の炭化水素基、炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基、又は炭素数３〜２０の環状の部分構造を有する１価の炭化水素基である。Ｍ^＋は有機カチオン又は金属カチオンである］。
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【課題】レジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、新規な高分子化合物、及び該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、一般式（ａ０）で表される構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ０）を含有することを特徴とするレジスト組成物［式中、Ａは２価の連結基であり、Ｒ^１は水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の炭化水素基である］。[化１]
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【課題】副作用の少ない、安全でかつ高い免疫抑制効果を示す薬剤を提供すること。
【解決手段】一般式（Ｉ）で示される化合物、その塩、そのＮ−オキシド体、その溶媒和物、またはそれらのプロドラッグ、ならびにそれらを含有してなる薬剤。


［式中、環Ａ、環Ｄは置換基を有していてもよい環状基、Ｅ、Ｇは結合手、主鎖の原子数１〜８のスペーサー、Ｌは水素原子、置換基、Ｘは置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよい少なくとも１個の窒素原子を含む複素環、ｎは０〜３を表し、ｎが２以上のとき複数の環Ａは同じでも異なっていてもよい。］
一般式（Ｉ）で示される化合物はＳ１Ｐ受容体（特にＥＤＧ−１および／またはＥＤＧ−６）結合能を有し、移植に対する拒絶反応、自己免疫性疾患、アレルギー性疾患等の予防および／または治療に有用である。 （もっと読む）

【課題】感度、解像性といった基本特性だけではなく、ＭＥＥＦ性能をも十分に満足する感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】［Ａ］下記式（１）で表される酸発生剤及び［Ｂ］（ｂ１）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する構造単位を有する重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。


（式（１）中、Ｒ^１は１価の有機基である。Ｙは炭素数１〜１５の２価の有機基である。但し、炭素数１〜１５の２価の有機基が有する水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。Ａ^＋は有機カチオンである。） （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンを有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉ)で表される塩。［Ｑ^１及びＱ^２はフッ素原子又はＣ_１-６ペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１及びＬ^２はＣ_１-１７アルキレン基を表し、該アルキレン基に含まれる−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。環Ｗ^１はＣ_３-３６飽和炭化水素環を表す。Ｒ^２は水酸基、Ｃ_１-６アルキル基又はＣ_１-６アルコキシ基を表す。環Ｗ^２はＣ_４-３６飽和炭化水素環を表し、前記飽和炭化水素環に含まれる−ＣＨ_２−は、−ＣＯ−又は−Ｏ−で置き換わっていてもよい。但し、前記飽和炭化水素環に含まれる−ＣＨ_２−の少なくとも１つは−ＣＯ−に置き換わる。Ｒ^３はＣ_１-６アルキル基、Ｃ_１-６アルコキシ基又はＣ_１-６アルコキシカルボニル基を表す。Ｚ^＋は、有機対イオンを表す。］
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