【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ａは−（ＣＲ²₂）_m−、Ｂは−（ＣＲ⁵₂）_n−を示し、Ｒ²、Ｒ⁵は水素原子又はアルキル基、Ｒ²同士又はＲ⁵同士が互いに結合して環を形成してもよい。ｍ、ｎは１又は２、Ｒ⁶はアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アリール基、ハロゲン原子、又はシアノ基、Ｒ³はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基であり、酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい。ｐは０〜４の整数。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。 （もっと読む）

【課題】分子量が小さなポリマーやオリゴマーの混入が極めて低いフォトレジスト用樹脂を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明のフォトレジスト用樹脂の製造方法は、少なくとも単量体を含有する溶液を滴下重合する工程を有するフォトレジスト用樹脂の製造方法であって、Ｔ₁（℃）に保持した反応容器に前記溶液を滴下し、前記溶液中に含有する全単量体の１５重量％以上、１００重量％以下が滴下終了した時点で、反応容器の温度を下記Ｔ₂（℃）まで降温する工程を有することを特徴とする。
Ｔ₂（℃）：（Ｔ₁−５０）（℃）以上、（Ｔ₁−５）（℃）以下 （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクターでのレジストパターン製造用レジスト組成物の提供。
【解決手段】構造単位（ａａ）と、構造単位（ａ１−１）又は構造単位（ａ１−２）の構造単位（ａｂ）とを有する樹脂（Ａ１）；構造単位（ａａ）を有さず、樹脂（Ａ１）が有する構造単位（ａｂ）と同一の構造単位（ａｂ）を有する樹脂（Ａ２）；酸発生剤を含有し、かつ「０．８＜α／β＜１．２、αは樹脂（Ａ１）の全構造単位に対する樹脂（Ａ１）中の構造単位（ａｂ）のモル％；βは樹脂（Ａ２）の全構造単位に対する樹脂（Ａ２）中の構造単位（ａｂ）と同一の構造単位のモル％」の関係を満たすレジスト組成物。
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【課題】活性光線又は放射線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れが改良され、現像欠陥の少なく、解像力、孤立ＤＯＦ、ＰＥＢ温度依存性など諸性能に優れたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】特定の酸分解性繰り返し単位及び特定の非酸分解性繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】可視光波長領域３８０〜７８０ｎｍにおける高い透明性、並びに高温高湿信頼性に優れ、更に高い光透過性を得るために屈折率を向上させた硬化物が得られる感光性樹脂組成物、感光性樹脂ワニス、感光性樹脂フィルム、及びこれらの感光性樹脂硬化物、並びにその硬化物よりなる可視光導光路を提供すること。
【解決手段】Ａ）アクリル重合体、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）ヒンダードフェノール系酸化防止剤を含む感光性樹脂組成物であって、（Ａ）アクリル重合体が、少なくともベンジルメタクリレートをモノマーとして重合した重合体である感光性樹脂組成物、感光性樹脂ワニス、感光性樹脂フィルム、及びこれらの感光性樹脂硬化物、並びにその硬化物よりなる可視光導光路。 （もっと読む）

【課題】 コレステリック反射フィルムの選択反射の波長領域を容易に拡大し、かつ、生産性に優れた重合性液晶組成物提供し、併せて、当該重合性液晶組成物をを用いた外観の優れたコレステリック反射フィルム及び反射型偏光板を提供する。
【解決手段】 ａ）重合性官能基を１つのみ有し、かつ、トラン骨格を有する液晶化合物を１種又は２種以上含有し、ｂ）重合性官能基を１つのみ有し、トラン骨格を含まない液晶化合物を１種又は２種以上含有し、ｃ）重合性官能基を２つ以上有する液晶化合物を１種又は２種以上含有し、ｄ）重合性官能基を１つ以上有するキラル化合物を１種又は２種以上含有し、ｅ）重合開始剤を１種又は２種以上含有することを特徴とする重合性液晶組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイル、パターン倒れ、スカムの諸性能が改善され、かつ液浸液の後退接触角ならびに水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる基を少なくとも１つ含有する含フッ素化合物、および（Ｆ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。（ｘ）アルカリ可溶性基、（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、（ｚ）酸の作用により分解する基。 （もっと読む）

【課題】パターン形成時にブリッジが発生しにくく、高い解像性を与えることができるネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、（Ａ）アルカリ可溶性であり、酸の作用によりアルカリ不溶性となるベースポリマー、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性成分を含有するネガ型レジスト組成物であって、前記ベースポリマーは、少なくとも、フェノール性水酸基を側鎖に有するアクリレート単位及びエポキシシクロヘキシル基を有するアクリレートの繰り返し単位を含み、ポリマー間で酸架橋性を有する重量平均分子量が１，０００〜１０，０００である高分子化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度、密集パターンおよび孤立ラインの高解像性、十分な露光余裕度、良好なラインウィズスラフネス、良好なブリッジマージン、孤立スペースの高解像性を同時に満足する感活性光線または感放射線樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）炭素数５から８の単環の酸解離性シクロアルキル（メタ）クリレート単位と置換スチレン単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、炭素数３以上の炭化水素基を置換基を芳香環に有する構造のスルホン酸を発生する化合物を含有することを特徴とする、感活性光線または感放射線樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】硬化樹脂層の架橋密度を大きくすることが可能であり、硬度が高く、微細化された顔料の顔料分散性に優れ、ポストベークおよび配向膜形成等の画素形成後の工程において顔料が溶出することのないカルボキシル基およびアミノ基含有重合体、カラーフィルター用熱硬化性インクジェットインク組成物およびカラーフィルターを提供する。
【解決手段】カルボキシル基およびアミノ基含有重合体は、下記式１の構造で表され、数平均分子量が３０００〜５００００であり、下記式１中のｋ、ｍ、ｎのモル分率がそれぞれ、ｋが５〜２０ｍｏｌ％、ｍが６０〜９０ｍｏｌ％、ｎが５〜２０ｍｏｌ％である。


（式１中のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^４はそれぞれ水素原子もしくはメチル基であり、Ｒ^３は炭素数６〜１２の環状炭化水素基であり、Ｒ^５は炭素数１〜８のアルキレン基であり、Ｒ^６およびＲ^７は炭素数１〜３のアルキル基である。） （もっと読む）