【課題】セルロースを使用せずとも耐熱性に優れ、且つ層間剪断特性等の機械的特性の高温耐久性に優れた湿式摩擦材を提供することを目的とする。
【解決手段】繊維材料、無機フィラー、摩擦調整剤等の成分から成る湿式摩擦材において、繊維材料として、高度にフィブリル化したアラミドパルプをある特定の条件範囲でプラズマ処理したものを使用することにより、層間剪断特性などの機械的特性に優れた湿式摩擦材が得られる。 （もっと読む）

【課題】低比誘電率の絶縁膜材料を用いた被研磨体を研磨する場合においても、低比誘電率の絶縁膜研磨速度を大きくすることができる研磨用組成物を提供する。
【解決手段】半導体デバイスの製造方法において、有機シロキサン構造を有する比誘電率が３．０以下の絶縁膜にバリアメタル層を介して埋め込み配線を形成してなる被研磨体の前記絶縁膜を化学的機械的に研磨するために用いる研磨用組成物に、一次粒子径が１０〜８０ｎｍのシリカ粒子と、ベンゾトリアゾール誘導体と、１〜１０質量％の無機塩とを含有させ、ｐＨを８〜１１の範囲とする。 （もっと読む）

【課題】運搬・貯蔵等には高濃度研磨液材料を用い、実際の研磨を行う場合には、これに希釈剤等を加えて金属用研磨液を容易に調製することができる金属用研磨液の製造方法を提供する。
【解決手段】酸化剤と、酸化金属溶解剤と、保護膜形成剤と、該保護膜形成剤の溶解補助剤と、水とを含有してなる金属用研磨液を製造する方法であって、
酸化剤を含む第１の構成要素、
酸化金属溶解剤、保護膜形成剤及び該保護膜形成剤の溶解補助剤からなる成分群のうちの少なくとも一成分を含む第２の構成要素、及び
希釈剤
を混合する混合工程を含む金属用研磨液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 マトリクス材料中で偏析などが生じにくく、均一に分散し得る金属酸化物複合粒子を製造する方法、該方法により得られる金属酸化物複合粒子および該金属酸化物複合粒子を含む摩擦材を提供する。
【解決手段】
溶媒中において、無機粒子および／または有機粒子の存在下に、加水分解性金属化合物を加水分解、縮合させて金属酸化物ゾルを形成し、得られたゾルを乾燥、加熱、粉砕処理することを特徴とする金属酸化物複合粒子の製造方法、該方法により得られることを特徴とする金属酸化物複合粒子、および該金属酸化物複合粒子を含むことを特徴とする摩擦材である。 （もっと読む）

【課題】特に、半導体装置の研磨に好適に用いられ、研磨速度が大きく、エロージョンが小さく、分散安定性に優れる水系分散体を提供する。
【解決手段】イオン交換水に、研磨粒子（ヒュームド法アルミナ粒子）と、例えば、シラン系カップリング剤及びアルミニウム系カップリング剤により処理された有機粒子であって、研磨粒子を凝集させることができる凝集促進粒子と、酸化剤（過硫酸アンモニウム等）等を加えて撹拌して得る。 （もっと読む）

【課題】研磨フィラメントに有用なポリシロキサン類の開発。
【解決手段】（ａ）複数の研磨粒子、および（ｂ）前記複数の研磨粒子を接着する結合系であって、結合剤および式（Ａ）：式中、R, R', R¹, R², R³, R⁴, R⁵およびR⁶は同じであっても異なってもよく、アルキル、ビニル、クロロアルキル、アミノアルキル、エポキシ、フルオロラルキル、クロロ、フルオロまたはヒドロキシであってもよく、ｎは500以上のポリキサンを含有する結合系を含む研磨フィラメント。
（もっと読む）

【課題】メモリーハードディスク基板表面のナノスクラッチを低減可能なメモリーハードディスク基板用研磨液組成物を提供する。
【解決手段】本発明のメモリーハードディスク基板用研磨液組成物は、水、コロイダルシリカ、ゲル化抑制剤、並びに、無機酸及び有機ホスホン酸の少なくとも一方を含み、前記ゲル化抑制剤は、窒素原子を含まない有機酸であり、前記ゲル化抑制剤のゲル化抑制能が、（Ｖ２−Ｖ１）≦１０００の関係を示すメモリーハードディスク基板用研磨液組成物である。前記Ｖ１は、２０重量％のコロイダルシリカ及び０．１重量％のゲル化抑制剤を含み、硫酸によってｐＨ１．５に調整した溶液の２５℃における粘度（ｍＰａ・ｓ）を示し、前記Ｖ２は、前記溶液を８０℃で２４時間放置した後の２５℃における粘度（ｍＰａ・ｓ）を示す。 （もっと読む）

【課題】工業的に有用な研磨速度を維持しつつ、高い研磨選択性を有する研磨用組成物、とりわけ半導体装置を製造する工程において、オーバー研磨を行ってもエロージョンの発生を抑制するＣＭＰ工程に好適に用いられる研磨用組成物を提供する。さらに該組成物を含むスラリー、該スラリーを用いた半導体装置の製造方法も提供する。
【解決手段】アミド基を有する水溶性樹脂（Ａ）を含有する樹脂エマルションを含む研磨用組成物は、高い研磨速度と高い研磨選択性を有する。とりわけ半導体装置を製造する工程においては、オーバー研磨を行ってもエロージョンの発生を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】基板表面のうねり、中でも、基板外周部表面のうねりを低減できるメモリーハードディスク基板用研磨液組成物の提供を目的とする。
【解決手段】本発明のメモリーハードディスク基板用研磨液組成物は、水系媒体及びシリカ粒子を含み、積載荷重９．３ｋＰａの摩擦測定試験において前記研磨液組成物を用いて測定される被研磨基板と研磨パッドとの動的摩擦係数の平均値が０．３５以下であり、かつ、前記動的摩擦係数の振幅が０．０２７以下であるメモリーハードディスク基板用研磨液組成物である。 （もっと読む）

【課題】生産性を損なわずに磁気ディスク基板の表面粗さを低減できる磁気ディスク基板用研磨液組成物と、これを用いた磁気ディスク基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気ディスク基板用研磨液組成物は、水と、シリカ粒子と、酸、酸の塩及び酸化剤から選ばれる少なくとも１つとを含有する磁気ディスク基板用研磨液組成物であって、前記シリカ粒子は、透過型電子顕微鏡観察による測定で得られた該シリカ粒子の最大径を直径とする円の面積を該シリカ粒子の投影面積で除して１００を乗じた値が１００〜１３０の範囲である磁気ディスク基板用研磨液組成物である。 （もっと読む）