感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板

【課題】エッジフュージョン（端面融着）がなく、かつタック性及び経時での性能安定性に優れ、フィルム化が容易で、高精細な永久パターン（保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなど）を効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、前記感光性積層体を用いた永久パターン形成方法、及び前記永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、エラストマー、及び熱架橋剤を含み、前記バインダーが、酸性基とエチレン性不飽和結合とを側鎖に有する高分子化合物を含む感光性組成物等である。前記バインダーが、酸性基と、ヘテロ環を含んでもよい芳香族基と、エチレン性不飽和結合とを側鎖に有する高分子化合物を含む態様、などが好ましい。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、エラストマー、及び熱架橋剤を含み、前記バインダーが、酸性基とエチレン性不飽和結合とを側鎖に有する高分子化合物を含むことを特徴とする感光性組成物。
【請求項２】
バインダーが、酸性基と、ヘテロ環を含んでもよい芳香族基と、エチレン性不飽和結合とを側鎖に有する高分子化合物を含む請求項１に記載の感光性組成物。
【請求項３】
高分子化合物の酸基が、カルボキシル基であり、前記カルボキシル基の前記高分子化合物における含有量が、１．０〜４．０ｍｅｑ／ｇである請求項１から２のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項４】
高分子化合物が、下記構造式（Ｉ）で表される構造単位を２０ｍｏｌ％以上含有する請求項１から３のいずれかに記載の感光性組成物。
【化１】

ただし、前記構造式（Ｉ）中、Ｒ_１、Ｒ_２、及びＲ_３は水素原子又は１価の有機基を表す。Ｌは有機基を表し、なくてもよい。Ａｒは芳香族基を表す。
【請求項５】
エラストマーが、スチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、ポリエステル系エラストマー、ポリアミド系エラストマー、アクリル系エラストマー、及びシリコーン系エラストマーから選択される少なくとも１種である請求項１から４のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項６】
エラストマーの含有量が、バインダー１００質量部に対して、２〜５０質量部である請求項１から５のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項７】
支持体と、該支持体上に請求項１から６のいずれかに記載の感光性組成物からなる感光層を有することを特徴とする感光性フィルム。
【請求項８】
長尺状であり、ロール状に巻かれてなる請求項７に記載の感光性フィルム。
【請求項９】
基体上に、請求項１から６のいずれかに記載の感光性組成物からなる感光層を有することを特徴とする感光性積層体。
【請求項１０】
感光層が、請求項７から８のいずれかに記載の感光性フィルムにより形成された請求項９に記載の感光性積層体。
【請求項１１】
請求項９から１０のいずれかに記載の感光性積層体における感光層に対して露光を行うことを含むことを特徴とする永久パターン形成方法。
【請求項１２】
露光が、３５０〜４１５ｎｍの波長のレーザ光を用いて行われる請求項１１に記載の永久パターン形成方法。
【請求項１３】
請求項１１から１２のいずれかに記載の永久パターン形成方法により永久パターンが形成されることを特徴とするプリント基板。

【図２５】