本発明は、基板にめっき処理を行ったり、基板を処理液に浸漬させて処理を行ったりするのに好適な基板処理装置に関する。本発明の処理装置（１）は、基板（Ｗ）の出し入れを行うロード・アンロードエリア（１００）と、基板を洗浄する洗浄エリア（２００）と、基板のめっき処理を行うめっき処理エリア（３００）とを有し、ロード・アンロードエリア（１００）には、ドライ仕様の複数のハンド（１３７，１３９）を有する基板搬送ロボット（１３０）と、基板収納カセットを搭載するロードポート（１１０）と、基板をフェースアップからフェースダウンに切換るドライ仕様の反転機（１５０）が配置されている。
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【課題】 フィルタープレス型脱水機による汚泥の脱水処理におけるフィルターケーキの剥離性を向上すると共に、フィルタープレス型脱水機による汚泥の脱水乾燥処理の処理効率を大幅に向上する方法を提供する。
【解決手段】 本発明の一態様は、フィルタープレスと、フィルタープレス内を減圧状態にするための減圧装置と、フィルタープレス内の汚泥を加熱する手段とを有するフィルタープレス型脱水機によって汚泥を脱水処理する方法において、カレンダー加工を施した織布をフィルタープレス用の濾布として使用することを特徴とする方法に関する。 （もっと読む）

【課題】吐出弁の代りにゲートを用いても、ポンプに軸流ポンプを用いた場合でもサージングを抑制できるポンプ機場のポンプ運転方法及びポンプ運転装置を提供すること。
【解決手段】ポンプ吸込水槽に連通する水路にポンプ設置孔の下端開口を連通し、ポンプ設置孔にポンプを設置した構成のポンプ機場のポンプ運転方法において、ポンプをポンプ吸込水槽の水位が非常ポンプ停止設定水位以下にならない所定の回転速度Ｄまで通常に始動し、その後定格回転速度ＥまでＡに示すようにサージングの問題が発生しない範囲の増速率で速度を増速するか、又はＢに示すように水路特性に合わせて、サージングの問題が発生しない予め設定したある回転速度毎の最適増速率で増速するか、又はＣに示すように所定量増速し、その回転速度で過渡現象が収まるまで待ち、該過渡現象が収まったら回転速度を再び所定量増速し、これを繰り返す。 （もっと読む）

より効率がよく、コンパクトな、６０〜７０°Ｃ程度の温水を熱源とする吸収冷凍機を提供する。再生器Ｇ、凝縮器Ｃ、吸収器Ａ、蒸発器Ｅ、補助再生器ＧＸ及び補助吸収器ＡＸを備えた吸収冷凍機において、前記Ｇからの濃溶液を、ＧＸで加熱してさらに濃縮し、Ａからの希溶液をＡＸで冷却しながら、ＧＸからの冷媒蒸気を吸収させる構成にすると共に、ＧＸからＡへ導かれる濃溶液と、ＡＸからＧに送られる希溶液との間で熱交換をする低温側熱交換器ＸＬを設け、さらに、前記ＸＬを出てＧに送られる希溶液を、ＧからＧＸに導かれる濃溶液で加熱する高温側熱交換器ＸＨを設けた。
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【課題】設置スペースをとらず、効率よくスラリーの洗浄脱水のできる装置を提供する。
【解決手段】少なくとも一部が濾布２２によって画定される濾室２０、濾室に対して外側から圧力をかけて該濾室を圧縮する加圧室２４を備えるフィルタープレス１２と、濾室内に、スラリーＳを所定圧力で供給して当該スラリーの濾過を行うスラリー加圧供給手段１４と、濾室２０内に、洗浄水Ｗを上記所定圧力よりも高い圧力で供給し、濾室内の濾過残渣を洗浄する洗浄水加圧供給手段５４と、濾室２０を圧縮して濾室内の濾過残渣を圧搾するため、加圧室に圧搾水Ｗを供給する圧搾水供給手段４４とを有する。 （もっと読む）

【課題】 導電性特殊電極を用いた電解処理を利用して、水媒体、特に難生分解性の水媒体を効率よく処理することができる方法及び装置を提供する。
【解決手段】 本発明の一態様は、水媒体の処理方法であって、水媒体を、導電性特殊電極を用いた電気分解工程にかけ、次に、水処理工程にかけることを特徴とする水媒体の処理方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 試料の評価を行う電子線装置の性能を向上させる。
【解決手段】 電子銃１１から放出された電子線を電子ビームに成形して試料面上に照射する照射光学系１０と、試料から放出された二次電子を検出系に結像する写像投影光学系３０とを備えている。写像投影光学系には二次電子の像を光信号に変換するシンチレータ及び光学部材３４を設け、光学部材の真空側を平面３４１としかつ該平面に上記シンチレータを設け、光学部材の大気側を曲面３４２とし、シンチレータにより形成された光信号を曲面を通して大気側に取り出す。 （もっと読む）

【課題】高分子炭化水素原料中の炭素を含む残渣やその他の可燃物などを燃焼し、その燃焼熱を利用し、生成ガスと燃焼ガスを分別回収することで、より効率のよい高分子炭化水素の利用システムを提供する。
【解決手段】本発明に係るシステムは、高分子炭化水素等を利用することができる。このシステムは、高分子炭化水素の熱分解、ガス化、および改質を行い、有価ガスまたは有価油分を生成する流動層熱分解ガス化炉１２と、熱分解ガス化炉１２で発生する炭素を含む残渣を含んだ可燃物を燃焼する流動層燃焼炉１０とを備えている。燃焼炉１０の燃焼熱を熱分解ガス化炉１２に供給し、熱分解ガス化炉１２で生成される有価ガスまたは有価油分と、燃焼炉１０で発生する燃焼ガスとを分別回収する。流動媒体を熱分解ガス化炉１２から燃焼炉１０に上記残渣とともに移動させ、流動媒体を燃焼炉１０から熱分解ガス化炉１２に移動させて顕熱を移動させる。 （もっと読む）

【課題】 研磨対象物の被研磨面への薬液の均一な供給と研磨対象物の面内における研磨速度の均一性を両立することができる研磨装置を提供する。
【解決手段】 研磨装置３０は、研磨面３２と、ウェハＷを保持するトップリング３６と、研磨面３２とトップリング３６に保持されたウェハＷとを相対移動させるモータ４６，５６と、トップリング３６に保持されたウェハＷを研磨面３２に対して押圧する上下動機構５４とを備えている。この研磨装置３０においては、ウェハＷを研磨面３２に対して押圧する圧力と、研磨面３２とウェハＷとの相対速度との積に研磨速度が比例しない非プレストン領域内の条件下で研磨を行う。 （もっと読む）

【課題】半導体製造や液晶製造などの先端産業における原材料、半製品、製品の基材や基板表面の汚染を防止するための清浄気体の調製方法を提供する。
【解決手段】本発明は、基材又は基板表面の汚染を防止するための方法であって、クリーンルーム内の気体を、吸着手段および／または吸収手段と、除塵手段とに通すことによって、非メタン炭化水素濃度が０．２ｐｐｍ以下且つ微粒子濃度クラスが１０以下の清浄気体を調整し、得られた清浄空気を基材又は基板の表面と接触させることを特徴とする方法を提供する。 （もっと読む）