【課題】緊急時に容易に目的地まで搬送して冠水部に投入できると共に、冠水部に投入した排水ポンプの没水深さを容易に深くできる可搬式排水ポンプ装置を提供すること。
【解決手段】台車本体１１に車輪２０Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄを取り付けてなる台車１０と、台車本体１１に積載される排水ポンプ５０とを具備する。一側辺側の２つの車輪２０Ｃ，Ｄを浮体構造にすることで可搬式排水ポンプ装置を水陸両用にすると共に、没水させた可搬式排水ポンプ装置を車輪２０Ｃ，Ｄを中心にして傾けて排水ポンプ５０を深く没水させる。 （もっと読む）

【課題】真空ポンプ装置のモータ駆動用制御装置に使用されている半導体パワースイッチング素子や電解コンデンサ等の電子部品の寿命状態や交換時期を適切に予測できる機能を有する真空ポンプ装置を提供すること。
【解決手段】真空ポンプ装置において、モータ駆動用制御装置４に使用している所定の電子部品の表面温度を常時或いは定期的に計測する温度センサ２３〜２６と、モータ駆動用制御装置４の運転時間を計測する積算時間計測手段と、温度センサ２３〜２６及び積算時間計測手段で計測した結果を記憶する記憶手段とを設け、温度計測対象となっている電子部品について、所定の温度レベル状態が維持されていた時間を各温度レベル毎に記憶手段に記録する機能を具備すると共に、該記憶手段に記録された各温度レベル毎の運転時間から当該電子部品の寿命度合い予測する機能を具備する。 （もっと読む）

【課題】膜厚および屈折率の複雑な解析をすることなく、エリプソメトリーを利用して速やかに研磨終点を検出することができる研磨終点検出方法および研磨装置を提供する。
【解決手段】本発明の被研磨物の研磨終点を検出する方法は、被研磨物の表面に光を照射し、被研磨物からの反射光を受光し、反射光のＰ偏光とＳ偏光の位相差Δ、およびＰ偏光とＳ偏光の振幅比ψを取得し、振幅比ψおよび位相差Δを変数とした座標系に、取得された振幅比ψおよび位相差Δから決定される座標をプロットし、プロットされた座標の軌跡の変化に基づいて研磨終点を検出する。 （もっと読む）

【課題】雷によるサージ、ノイズ等の発生や、各種センサの寿命によって、一方の制御基板が機能しなくなった場合でも、他方の制御基板により、給水能力を低下させずに、制御基板のバックアップができ、また、同時に制御基板が故障しないように工夫したことで、確実にバックアップができる給水装置を提供する。
【解決手段】複数のポンプ３と、対応するポンプ３の回転周波数を可変制御する複数のインバータＩＮＶと、複数のインバータＩＮＶを制御する複数の制御基板ＣＮとを備え、一方の制御基板に異常が発生した場合に、他方の制御基板が一方の制御基板をバックアップすることで運転を継続することができる給水装置１であって、一方の制御基板から複数のインバータＩＮＶを経て他方の制御基板までの間を、通信線により直列に接続し、通信線上に、通信をＯＮ／ＯＦＦするスイッチＳＷ１を設けた。 （もっと読む）

【課題】シンプルかつ本来の性質を具備する先行待機運転に適した揚液ポンプ及び揚液ポンプシステムを提供すること。
【解決手段】揚液ポンプ１０は、ポンプ本体３０と、固定パイプ２０と、空気流入機構２８とを備える。ポンプ本体３０は、羽根車３１と、羽根車３１を回転させる電動機３３と、羽根車３１を回転方向周りで覆うように囲む羽根車ケーシング３４とを有する。固定パイプ２０は、ポンプ本体３０が出し入れ可能に収容される筒状のコラムパイプ２１と、コラムパイプ２１の下端に取り付けられて羽根車３１に向けて上方に液体を流す吸込管２５とを有する。固定パイプ２０は、羽根車ケーシング３４に対して、鉛直下方に下方隙間１１を形成し、水平方向外側に下方隙間１１を介して羽根車ケーシング３４内と連通する側方隙間１２を形成する。空気流入機構２８は側方隙間１２に空気を供給する。 （もっと読む）

【課題】珪弗化水素酸を含む弗素含有排水を処理して、弗素を、純度９７％以上かつ平均粒径５〜１００μｍの合成蛍石として回収する。
【解決手段】珪弗化水素酸を含む弗素含有排水から弗素を合成蛍石として回収する合成蛍石回収方法であって、珪弗化水素酸を含む弗素含有排水とナトリウム化合物を混合して珪弗化水素酸を分解させ、不溶性シリカと弗化ナトリウム水溶液との混合物が主体のシリカスラリーを生成する中和分解工程と、中和分解工程で生成したシリカスラリーから不溶性シリカを分離してシリカ分離水を得る分離工程と、シリカ分離水に対してカルシウム化合物を供給して、純度が９７％以上、かつ平均粒径５〜１００μｍの弗化カルシウムを生成する晶析工程を有する。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置に故障が発生した場合、特に重大な故障でない限り、装置全体を停止させることなく、基板に対する一部の処理を継続して、基板を洗浄・回収したり、装置内の基板を容易に外部に排出したりすることで、基板が処理不能となるリスクを低減できるようにする。
【解決手段】研磨部３、洗浄部４及び搬送機構７，２２を有する基板処理装置の運転方法であって、研磨部３、洗浄部４及び搬送機構７，２２のいずれかで異常を検知した際に、異常を検知した場所及び基板の基板処理装置内の位置によって基板を分類し、異常検知後における基板に対する処理を分類した基板毎に変えて行う。 （もっと読む）

【課題】塵芥による排水ポンプの吸込口の閉塞を防止し、且つ、低水位まで運転することが可能な可搬式排水ポンプ設備、及びその運転方法を提供すること。
【解決手段】排水ポンプを備えた可搬式排水ポンプ設備において、フロート１１に吊下支持された排水ポンプ１４の吸込口１６に弾性を有するメッシュ状体からなる筒体３３を複数本、それぞれ一端を排水ポンプ１４のポンプ吸込口１６側に取付けると共に、他端を自由端として設け、筒体３３を通して排水ポンプ１４の吸込口１６に水が吸い込まれるように構成した。 （もっと読む）

【課題】基板を保持するトップリングの外周部に設けられ基板の外周縁を保持するリテーナリングの研磨面に対する追従性を高め、所望のリテーナリング面圧を研磨面に与えることができる研磨装置を提供する。
【解決手段】研磨面１０１ａを有した研磨テーブル１００と、圧力流体が供給される圧力室を有し、前記圧力室に圧力流体を供給することで流体圧により基板を研磨面１０１ａに押圧するトップリング本体２と、トップリング本体２の外周部に設けられるとともにトップリング本体２とは独立して上下動可能に設けられ、研磨面１０１ａを押圧するリテーナリング３とを備え、基板の研磨中に基板からリテーナリング３に加わる横方向の力を受ける支点Ｏを基板の中心部の上方に位置させるようにした。 （もっと読む）

【課題】被研磨面の表面にスクラッチを生じさせることなく、被研磨物の表面に形成された研磨対象膜の表面に生じる段差（凹凸）を効果的に解消し、余剰な研磨対象膜を平坦に研磨して除去することができ、しかも生産性を高めることができるようにする。
【解決手段】被研磨物の半径よりも直径の小さい研磨部の研磨パッドを被研磨物の被研磨面に第１押圧力で押圧しつつ、研磨パッドと被研磨物を第１相対速度で相対運動させて研磨対象膜の第１段研磨を行い、研磨対象膜表面の段差が解消されて該表面が平坦になった時点で前記第１段研磨を終了し、被研磨物の直径よりも直径の大きい研磨部の研磨パッドを被研磨物の被研磨面に第１押圧力より大きな第２押圧力で押圧しつつ、研磨パッドと被研磨物を第１相対速度よりも遅い第２相対速度で相対運動させて研磨対象膜の第２段研磨を行う。 （もっと読む）