【課題】本発明は、赤外線透過性部材を直接的に、かつ間接的に加熱できエネルギー効率のよい熱処理用石英ガラス治具を提供すること。
【解決手段】赤外線透過性部材の熱処理用石英ガラス治具であって、該熱処理用石英ガラス治具が赤外線の反射率の高い白色部と黒色石英ガラスとからなることを特徴とする熱処理用石英ガラス治具。 （もっと読む）

【課題】大型、高寸法精度、高耐久性の、シリカを主な構成成分とするシリカ容器を、安価な比較的低品位のシリカ粉体を主原料として、投入エネルギー量を少なく、低コストで製造するためのシリカ容器の製造方法、及び、このようなシリカ容器を提供する。
【解決手段】シリカを主な構成成分とし、回転対称性を有するシリカ容器の製造方法であって、少なくとも、シリカを主な構成成分とし、回転対称性を有するシリカ基体５１を形成し、シリカ基体５１の内表面上に、シリカゾルからゾル−ゲル法によって透明シリカガラス層５６を形成するシリカ容器７１の製造方法。 （もっと読む）

【課題】大口径のウエハーに対応可能な大型の処理槽であっても製作が容易であり、処理槽内に蓄えられる処理薬液による水圧にも耐え、薬液の量を削減できかつ効率よく薬液を大面積のウエハー表面に流れるような構造を有する石英ガラス製ウエハー処理槽及びその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体ウエハーを処理薬液に浸漬処理する為に使われる石英ガラス製ウエハー処理槽であって、
上方及び前後方向に開口する半円筒形底壁及び該半円筒形底壁の相対向する一対の側端線から上方に延長する相対向する一対の側壁を設けてなる樋状部材と、
該樋状部材の前端面に設けられた前壁と、
該樋状部材の後端面に設けられた後壁と、を含む処理槽本体を有し、かつ
前記半円筒形底壁の内面半径Ｒが前記処理対象ウエハーの半径ｒを超える大きさであると共に前記側壁の高さＨが前記半円筒形底壁の内面半径Ｒよりも大であるようにした。 （もっと読む）

【課題】低コスト、高寸法精度、高耐久性のシリカ容器及びその製造方法を提供する。
【解決手段】（１）シリカ粒子である第一原料粉、非晶質シリカからなり平均粒径が小さい第二原料粉、主成分がシリカであり、Ａｌ元素及び／又はＯＨ基を含有するか、結晶核材を含有する第三原料粉、及び、高純度結晶質シリカである第四原料粉の準備、（２）第一及び第二原料粉を含有する基体形成用混合スラリーの作製、（３）基体形成用混合スラリーを鋳込み型枠の中に導入、（４）鋳込み型枠内の基体形成用混合スラリーを加熱脱水して基体を仮成形、（５）基体の焼成、（６）基体の内側から第三原料粉を散布して供給しながら溶融し、基体の内表面上に中間層を形成、（７）中間層が形成された基体の内側から第四原料粉を散布して供給しながら溶融し、中間層の内表面上に内側層を形成、の各工程を有し、（５）と、（６）（７）とのいずれかを先に行うシリカ容器の製造方法。 （もっと読む）

【課題】現状のＡｒＦリソグラフィー用露光装置に好適なレーザー光誘起による熱収差発生を抑えた高品質のシリカガラス部材を提供する。
【解決手段】紫外線照射によって発生する熱収差を低減した紫外線光学用シリカガラス部材であって、波長２００ｎｍ以下の紫外光をシリカガラス部材中に透過させた時、シリカガラス部材内部で熱エネルギーに変換されて生じる光の減衰量が光路長１ｃｍあたり１／１０００以下であるようにした。前記紫外光がＡｒＦエキシマレーザー光であり、ＡｒＦリソグラフィー露光装置に使用される。 （もっと読む）

【課題】高温耐熱性、耐白色失透や耐黒色失透に優れ、作動電圧の上昇および再点弧スパイク電圧の発生が抑えられランプ使用寿命が長く保持できる上に、２３０ｎｍ以下の光線の内部透過率が３０％／ｃｍ以下の放電灯用合成シリカガラスを提供する。
【解決手段】放電灯用合成シリカガラスであって、そのＯＨ基濃度が５ｐｐｍ以下、Ｔｉ濃度が１ｐｐｍ〜５００ｐｐｍ、Ｔｉ以外の金属不純物濃度の総和が５５ｐｐｍ以下、２５０ｎｍでの酸素欠損型欠陥量が吸収係数で０．０１〜２／ｃｍ、１１００℃での粘度が１０^１４〜１０^１６ポアズで、かつ波長２３０ｎｍ以下の光線の内部透過率が３０％／ｃｍ以下であることを特徴とする放電灯用合成シリカガラス及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】半導体露光装置用の各種光学材料として好適に使用できる耐レーザー性の高い光学用合成石英ガラス部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】光学用合成石英ガラス部材の製造方法は、ａ）揮発性珪素化合物を酸水素火炎により加水分解し、微粒子シリカを耐熱性基体上に堆積させて多孔質母材を作成する工程、ｂ）真空、または不活性ガス含有雰囲気中にて脱水熱処理する工程、ｃ）加熱して透明な石英ガラス体を得る工程、ｄ）火炎加熱により帯状熔融回転攪拌処理して、脈理を除去する工程、ｅ）円柱状に成型する工程、ｆ）石英ガラス体の上下面、及び外周面を研削除去することによって外層を取り除く工程、ｇ）徐冷点以上の温度に一旦保持した後徐冷する工程、およびｈ）水素ガス含有雰囲気中で、圧力を０．００９８ＭＰａ〜０．９８ＭＰａの範囲で、かつ、７２３Ｋ以下の温度で熱処理を施し、水素分子を含有させる工程を含む。 （もっと読む）

【課題】不純物濃度が最小であり且つ気泡及び気泡成長を低減させたるつぼ内層を有するシリカるつぼを合理的なコストで作製する方法を提供する。
【解決手段】モールドキャビティに設けられるシリカ粒子を介して空気を吸引する形式のモールドキャビティにおいて、シリカるつぼを製造する方法であって、純粋なシリカ粒子層２３０を天然シリカ粒子層２２８の上部に形成し、シリカ粒子を介して空気を実質的に吸引することなく、純粋なシリカ粒子層２３０の少なくとも一部を溶融し、シリカを介してかなり高容量の空気を吸引しながら、任意の残留する純粋なシリカ粒子層２３０、及び天然シリカ粒子層２２８の少なくとも一部を溶融し、その後、溶融された純粋なシリカ粒子層２３０の少なくとも一部を昇華させる。 （もっと読む）

【課題】 低コスト、高寸法精度、高耐久性のシリカ容器及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 （１）シリカ粒子である第一の原料粉、非晶質シリカからなり、平均粒径が第一の原料粉の平均粒径よりも小さい第二の原料粉、及び、結晶質シリカからなり、第一の原料粉及び第二の原料粉よりもシリカ純度が高い第三の原料粉を準備する工程、（２）第一の原料粉と第二の原料粉と水とを含有する基体形成用混合スラリーを作製する工程、（３）基体形成用混合スラリーを、回転対称性を有する鋳込み型枠の中に導入する工程、（４）鋳込み型枠に導入した基体形成用混合スラリーを加熱脱水して基体を仮成形する工程、（５）基体を酸素含有雰囲気下で焼成する工程、（６）基体の内側から第三の原料粉を散布して供給しながら溶融し、基体の内表面上に透明シリカガラス層を形成、の各工程を有し、（４）の後に（５）と（６）とのいずれかを先に行うシリカ容器の製造方法。 （もっと読む）

【課題】超音波洗浄装置に用いられかつ精密機器や半導体工業部品、及び医療機器の超音波洗浄装置に使用される耐熱ガラス（ホウケイサンガラス、パイレックス（登録商標））や理化学用ガラス（高ケイ酸塩ガラス、バイコール（登録商標））、更には石英ガラスを用いたガラス洗浄槽において、特に超音波が通過する面の表面状態の改良を行ったガラス洗浄槽及び当該ガラス洗浄槽を具備した超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】超音波洗浄装置において用いられかつガラス板によって形成された底壁及び前後及び左右の側壁を有し上部を開口したガラス洗浄槽であって、
前記ガラス洗浄槽の少なくとも一つの壁の内面及び外面を鏡面研磨面とし、
前記鏡面研磨面は、２乗平均粗さＲＭＳが０．０２μｍ以下及び平面度が０．１ｍｍ以下であって、前記超音波洗浄装置の超音波振動子からのエネルギー減衰が５％以下であるようにした。 （もっと読む）