一定の外面形状を有し、反射コーティングが設けられるように意図され、かつミラー基板を意図されるように使用する際に高い負荷を受ける帯域として規定される、表面区域（surface region）を有する、ＥＵＶリソグラフィに使用されるミラー基板用の、高シリカ含有量を有するチタンドープガラス（ガラス）のブランクを製造する既知の方法に基づき、低コストで製造することができるにもかかわらず、均一性並びにブリスタ及び脈理がないことについて高い要件を満たすブランクを提供するために、（ａ）外面形状を包含するのに十分な大きさよりも大きい寸法を有するチタンをドープした高品質のガラスの前部体を作製する方法工程と、（ｂ）チタンドープガラスから円筒形の支持用基体（supporting body）を作製する方法工程と、（ｃ）前部体と支持用基体とを結合させる方法工程であって、複合体を形成する、前部体と支持用基体とを結合させる方法工程と、（ｄ）複合体を加工する方法工程であって、ミラー基板用ブランクを形成する、複合体を加工する方法工程とを含む手法が提案され、ここで、前部体を作製する工程は、ケイ素含有化合物の火炎加水分解によってストランドの形態で得られる出発用基体（starting body）をねじり加工して、前部体ブランクを形成することを伴う均一化プロセスを含み、支持用基体は、前部体よりも均一性の低い一体構造のガラスブロックとして形成される。 （もっと読む）

【課題】濡れ性を石英ガラスるつぼ内表面に作り出すことによって、この石英ガラスるつぼを用いてシリコン単結晶を引き上げる際にシリコンメルトの湯面振動を抑制することができるようにしたシリコン単結晶引き上げ用石英ガラスるつぼの製造方法を提供する。
【解決手段】回転する上部開口型１を使用してシリコン単結晶引き上げ用石英ガラスるつぼを製造する方法であって、（ａ）二酸化珪素粉末６を前記型１内に供給して、該型１内面に沿って成型体を形成する工程、（ｂ）前記前成型体を加熱溶融して、半透明石英ガラス製るつぼ基体３を形成する工程、（ｃ）このるつぼ基体３の形成中もしくは形成後に、該るつぼ基体３内の高温ガス雰囲気中８に二酸化珪素粉末６を供給し、内壁面に向って飛散融合させて透明石英ガラス層４を形成する工程からなり、製造された石英ガラスるつぼの内表面の表面張力を５０ｍＮ／ｍ以下に設定するようにした。 （もっと読む）

【課題】高寸法精度を有し、炭素及びＯＨ基の含有量が極めて少ないシリカ容器を、シリカを主成分とする粉体を主原料として、低コストで製造できるシリカ容器の製造方法、及び、このようなシリカ容器を提供する。
【解決手段】回転対称性を有するシリカ基体５１を備えてなるシリカ容器７１を製造する方法であって、減圧用の孔を有する外型枠を回転させながら、外型枠の内壁に基体用原料粉（シリカ粒子）を導入し、所定形状に仮成形する工程、除湿により所定の露点温度以下とした、Ｏ_２ガスと不活性ガスとを含む混合ガスを、仮成形体の内側から供給し、外型枠内のガスを換気して、外型枠内における湿度を調整しつつ、仮成形体を外周側から減圧しながら、炭素電極による放電加熱溶融法により仮成形体の内側から加熱することによって、仮成形体の外周部分を焼結体とするとともに、内側部分を溶融ガラス体とし、シリカ基体５１を形成する工程、を含む。 （もっと読む）

【課題】 高寸法精度、高耐熱変形性を有するシリカ容器を、シリカを主成分とする粉体を主原料として、低コストで製造できるシリカ容器の製造方法、及び、このようなシリカ容器を提供する。
【解決手段】 回転対称性を有するシリカ基体を備えてなるシリカ容器を製造する方法であって、減圧用の孔を有する炭素製の外型枠を回転させながら、外型枠の内壁に基体用原料粉（シリカ粒子）を導入し、所定形状に仮成形する工程、シリカ基体の仮成形体の内周側からＨ_２ガスを１０ｖｏｌ．％を超える比率で含有する還元性ガスを供給しつつ、シリカ基体の仮成形体を外周側から減圧して脱ガスするとともに、炭素電極による放電加熱溶融法によりシリカ基体の仮成形体の内側から加熱することによって、シリカ基体の仮成形体の外周部分を焼結体とするとともに、内側部分を溶融ガラス体とし、シリカ基体を形成する工程を含むシリカ容器の製造方法。 （もっと読む）

【課題】石英ガラス治具等の石英ガラス加工品に対して、表層クリーン度を向上させる純化処理装置及びその装置を用いた純化処理方法を提供する。
【解決手段】筐体と、
該筐体内部に設けられた円筒状の石英ガラス製純化処理容器と、
前記純化処理容器の外方に設けられかつ前記純化処理容器内部を加熱してヒートゾーンを形成する作用を行うヒーターと、
石英ガラス加工品格納及び取り出し用の底部開口部と、
前記底部開口部を密封状態で閉塞する閉塞手段と、
石英ガラス加工品を上下動可能な状態で保持する保持手段と、
前記純化処理容器の下端部に設けられかつ前記純化処理容器内にガスを導入するためのガス導入部と、
純化処理容器内のガスを前記筐体の外部に排気するためのガス排気通路と、を含み、
前記保持手段に保持された石英ガラス加工品を前記純化処理容器内で純化処理することができるようにした。 （もっと読む）

【課題】耐失透性及び耐熱性に優れ、ランプ寿命を長く保持でき、紫外線問題を解消した放電灯用合成シリカガラス製バルブ、該バルブの製造方法及び該バルブを用いた放電灯装置を提供する。
【解決手段】バルブ中のＯＨ基含有量が２ｐｐｍ以上５０ｐｐｍ以下、バルブ中のアルカリ金属の合計含有量が０．０２ｐｐｍ以上１０ｐｐｍ以下であり、内表面から０．１ｍｍまでのＯＨ基含有量が１ｐｐｍ以下、内表面から０．１ｍｍまでのアルカリ金属の合計含有量が０．０１ｐｐｍ以下であり、２５０ｎｍでの酸素欠損型欠陥量が吸収係数で０．１〜２／ｃｍであり、１１００℃での粘度が１０^１４〜１０^１６ポアズであり、波長１５０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の光線の内部透過率が５０％／ｃｍ以下であるようにした。 （もっと読む）

【課題】低熱膨張率で高周波特性、耐熱性、などに優れた回路基板材料を提供する。
【解決手段】熱硬化性樹脂と、無機フィラーと、石英クロスとを含む配線板用材料であって、前記石英クロスのクロス目付けが１００ｇ／ｍ^２以下であり、前記熱硬化性樹脂１００質量部に対して前記無機フィラーを５０〜７００質量部配合するようにした。上記熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂及びポリイミド樹脂からなる群から選ばれる１種以上であることが好ましい。上記無機フィラーが平均粒子径が０．１〜２０μｍの球状シリカを主成分とすることが好適である。 （もっと読む）

本発明は、低ドーパント濃度で、２５４ｎｍの動作放射線に対する少なくとも８０％／ｃｍの可能な限り高いスペクトル透過率、およそ２５０ｎｍ未満の波長範囲における可能な限り低い透過率及び２３０ｎｍ〜２５０ｎｍの波長範囲内の端波長λ_Cを示すドープ石英ガラス製の光学フィルタ材料に関する。２５０ｎｍ未満の波長範囲において吸収帯の極大を有し、したがって端波長λ_Cを決定するガリウム化合物を含むドーピングによりこの目的が達成されることが見出された。
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【課題】 大型、高寸法精度、高耐久性の、シリカを主な構成成分とするシリカ容器を、安価な比較的低品位のシリカ粉体を主原料として、投入エネルギー量を少なく、低コストで製造するためのシリカ容器の製造方法、及び、このようなシリカ容器を提供する。
【解決手段】 シリカを主な構成成分とし、回転対称性を有するシリカ容器の製造方法であって、少なくとも、シリカを主な構成成分とし、回転対称性を有するシリカ基体を形成する段階と、該シリカ基体の内側の表面上において、シリカゾルをゲル化させてシリカウェットゲル層に変化させ、該シリカウェットゲル層を乾燥させてシリカドライゲル層を形成する段階と、前記シリカドライゲル層を焼成してシリカガラス層を形成する段階とを含み、前記シリカドライゲル層を形成する段階を２回以上行うことにより、前記シリカ基体の内表面上に２層以上のシリカガラス層を形成するシリカ容器の製造方法。 （もっと読む）

【課題】研削なしでルツボの未溶融ないし半溶融のシリカ粉が偏在する最外層から離脱するシリカ粉を最適に制御する一方、最外層の結晶質部分を多く残し、高温における耐熱性を維持しシリコン単結晶を高歩留りで製造できるシリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボの製造方法を提供する。
【解決手段】回転する型内に原料粉を供給しルツボ状の原料粉体層を形成し、その内側からアーク放電加熱し溶融して平滑な内表面と不透明又は半透明な外層と、その外側に未溶融ないし半溶融のシリカ粉が偏在する最外層を有する石英ガラスルツボを製造し、その外表面に固体シリカ粉を吹付け圧０．１〜５ＭＰａで吹き付けたのち、高圧水を吹付け圧２４〜４０ＭＰａで吹き付け、次いでフッ酸水溶液処理を施こすことを特徴とするシリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボの製造方法。 （もっと読む）