【課題】平板型である大型の石英ガラスのインゴットを泡がなく高純度に、簡便且つ短時間で製造できる石英ガラスの製造方法及び石英ガラス製造装置を提供する。
【解決手段】回転する炉の上部から粉供給装置より石英粉を落下させて炉底中央部に積層させ、加熱溶融して炉の外周方向に伸展させてインゴットとする石英ガラスの製造方法において、石英粉の落下位置と溶融位置を炉底部に分散させるようにした。前記石英粉の落下位置を炉底部中心部から変位させ、前記粉供給装置及び前記炉底部の一方又は両方が回転移動することにより石英粉が炉底部に分散されることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】石英ガラス出発シリンダから石英ガラス管を製造する非常に生産的な方法を提示する。
【解決手段】第１の成形ステップでは、出発シリンダが、第１の加熱ゾーン温度を有する加熱ゾーンの前方加熱ゾーン部分内で、所定の壁厚を有する内部にキャビティを含む一時的なアプセット形状を形成しながら、長手方向軸線と同軸上に配置されている穿孔器によって連続的にアプセットされる。第２の成形ステップでは、アプセット形状が、第２の加熱ゾーン温度を有する加熱ゾーンの後方加熱ゾーン部分内で、キャビティ内に内部過剰圧力を加えることによって成形器具の方に吹き付けられ、石英ガラス管を形成しながら長手方向軸線の方向に連続的に引き出される。 （もっと読む）

【課題】
部品の接合面の間に高シリカ結合マスを生成することにより全体的に接合する方法によって高シリカ材料で作られた部品を結合する方法を提供する。
【手段】
本発明による方法は、接合面が固定時に5 N/cm² を超える接触圧が掛かり、結合接続部からの製品の脱ガスのためのパス長さが150 mmを超える広範囲な結合接合部に対して特に、高シリカ材料で作られた部品の機械的及び熱的に安定性を持つ複合物を安価で製造することを可能とするものである。この目的はSiO₂ 結合マスが最初から直ちに乾燥状で使用されるか、少なくともSiO₂ 結合マスが接合プロセスの前に接合面上で乾燥し、結合する面がその後に接触し、結合マスをSiO₂ の形成を伴う加熱により堅い複合物を生成する本発明により達成される。 （もっと読む）

【課題】粒径を細かくしても十分な透水性を確保し、且つ強度にも優れ、市販の顔料を使用して自由に着色ができる透水性セラミック及びその製造方法を提供することにある。更に本発明の第二の目的は、骨材に石英ガラスを使用することにより、石英ガラスのもつ耐酸性、耐アルカリ性がそのまま生かされ、薬剤を使用するトイレなどに適用しても経年変化のない透水性セラミック及びその製造方法を提供するものである。
【解決手段】石英ガラス骨材１００重量部に対して焼結バインダー剤を３０〜７０重量部の混合割合で含み、前記石英ガラス骨材の最大粒径が２ｍｍ以下、曲げ強度が４ＭＰａ以上（ＪＡＳＳ７ Ｍ−１０１に準拠）、及び透水係数が０．０１ｃｍ／ｓｅｃ以上であるようにした。 （もっと読む）

【課題】石英ガラスブロック内部の泡を大幅に低減することによって石英ガラスブロックの品質向上を図ることができ、かつ石英ガラスブロックに対する汚染を防ぐことができ、石英ガラスブロックの歩留りを向上させることを可能とした石英ガラスブロックの製造方法を提供する。
【解決手段】天然又は合成の石英原料粉を準備する準備工程と、
ガラス溶融炉内へ前記石英原料粉を充填する充填工程と、
前記溶融炉内に充填された石英原料粉に対して前熱処理を施す前熱処理工程と、
前記前熱処理された石英原料粉を加熱溶融する溶融工程と、
前記溶融炉内で溶融された石英ガラス融体を冷却する冷却工程と、を含み、
前記充填工程において、前記溶融炉に充填された石英原料粉の充填密度を密充填とし、かつ前記前熱処理工程において、真空引き及び希ガス又はＨ_２ガス導入処理を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】遠赤外域の放射率が高く、光遮蔽性に優れ、合成石英ガラスと同等の金属不純物の純度を保持し、天然石英ガラス並の高温粘度特性を有し、溶接などの高温加工が可能で、表面から炭素が放出しない、透明層付き黒色合成石英ガラス及びその製造方法を提供する。
【解決手段】水酸基を含むシリカ多孔質ガラス体を、揮発性有機珪素化合物雰囲気中、１００℃以上１２００℃以下の温度で気相反応させ、その反応後、真空引きを開始し１０ｍｍＨｇを超える真空度に達した後、１２００℃以上２０００℃以下の温度にて焼成することにより緻密なガラス体とするようにした。 （もっと読む）

【課題】エキシマレーザーリソグラフィー装置のレンズ、プリズム、ビームスプリッター等の照明系、投影系に使用する内部透過率の高いＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー用合成石英ガラス部材の製造方法を提供すること。
【解決手段】高純度の合成石英ガラスを均質化処理工程、成型工程及び除歪処理工程を経て合成石英ガラス部材に形成した後、波長２６０ｎｍ以下の連続紫外線を５０時間以上照射し波長１９３．４ｎｍに対する内部透過率を９９.８％以上とすることを特徴とするＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー用合成石英ガラス部材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】融液表面の振動の発生が抑えられ、かつ、長時間の操業においてもルツボ内表面において荒れ面の発生率が低く、安定にシリコン単結晶を引上げることができる石英ガラスルツボを用いたシリコン単結晶引上げ方法を提供する。
【解決手段】天然石英ガラスからなる不透明な外層４と、その内側に形成した透明層５，６を有する石英ガラスルツボ１において、シリコン融液の初期湯面位置から単結晶引上げ後の残湯位置までの石英ガラスルツボ１の内表面に沿って測定した長さＭに対し、初期湯面位置から０．３Ｍの範囲で観測されるブラウンリングの単位面積（ｃｍ２）当りの個数が、残湯位置上０．３Ｍまでの範囲で観測されるブラウンリングの個数の１．８倍以上となるような石英ガラスルツボを用いてシリコン単結晶を引上げる。 （もっと読む）

【課題】 化学反応装置の材料として長期間使用しても、材料表面のエッチング等による強度低下及び透過率低下の物性変化が抑制された、耐化学性に優れたシリカガラス、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 シリカガラスにおいて、少なくとも、ＯＨ基含有量が１〜５０ｗｔ．ｐｐｍであり、仮想温度が８００〜１１００℃であり、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎの各金属不純物濃度がそれぞれ２００ｗｔ．ｐｐｂ以下であるシリカガラス、及び、このようなシリカガラスを製造するためのシリカガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 光触媒反応ユニットに使用されるシリカガラスであって、長時間紫外線を照射しても性能が低下しにくい、耐紫外線性等に優れた光触媒用シリカガラス、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 シリカガラスにおいて、少なくとも、前記シリカガラスは、ＯＨ基含有量が１〜５００ｗｔ．ｐｐｍであり、酸素欠陥構造が実質的に存在しないものであり、金属不純物濃度が、表層部から内部にわたって、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎについてそれぞれ２００ｗｔ．ｐｐｂ以下であり、光触媒反応ユニットに使用されるものである光触媒用シリカガラス、及び、このような光触媒用シリカガラスを製造するための光触媒用シリカガラスの製造方法。 （もっと読む）