【課題】 耐白色失透や耐黒色失透に優れ、かつ耐熱性の高い合成シリカガラス及びその製造方法並びに該合成シリカガラスで作成した部材を備えた装置を提供することをその目的とする。
【解決手段】 OH基濃度が５ｐｐｍ以下、金属不純物濃度の総和が１ｐｐｍ以下、２５０ｎｍでの酸素欠損型欠陥量が吸収係数で０．０１〜６／ｃｍで、２１５ｎｍでの吸収係数が２５０ｎｍの吸収係数より小さく、かつ１１００℃での粘度が１０^１４〜１０^１６ポアズの合成シリカガラス、特にランプ用の発光管のため波長２５０ｎｍ以下の光線の内部透過率を５０％／ｃｍ以下とした合成シリカガラス及びその製造方法並びに前記合成シリカガラスで作成した部材を備えた装置。 （もっと読む）

本発明は、ＳｉＯ₂内層顆粒が、軽ガスを含有する雰囲気中でプラズマの作用下で、遮熱材（２）によって少なくとも部分的に覆われた回転する溶融モールド（１）内でガラス化されて透明内層が得られ、軽ガスの少なくとも一部が、遮熱材のガス入口（８、９）を通して溶融モールド（１）に供給される石英ガラスるつぼの製造方法から始まる。エネルギー及び材料に関して最小限の労力で、気泡含有量が特に少ない内層を形成するために、ガラス化工程に先立つ層形成工程において、ＳｉＯ₂内層顆粒の顆粒層（１４）が内壁上に形成され、プラズマ領域（１３）とガス入口（８、９）を有する遮熱材（２）とが、少なくとも回転軸に垂直な方向に可動であり且つ顆粒層（１４）をガラス化するようにガラス化工程中に顆粒層（１４）の方向に横方向に移動することが提案される。
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【課題】 高い機械的強度を有するとともに、紫外光のみならず可視光も含めて光触媒作用を効率良く発揮させることができる光触媒体としても機能する金属ドープシリカ系ガラス発泡体及びこれの製造方法並びにこのような金属ドープシリカ系ガラス発泡体を用いた浄化装置を提供する。
【解決手段】 シリカを主成分とするシリカ系ガラスの発泡体であって、チタンの含有量が１〜２０ｗｔ．％であり、窒素の含有量が１００〜１００００ｗｔ．ｐｐｍであり、チタン以外の遷移金属元素の合計含有量が１０〜５０００ｗｔ．ｐｐｍであり、かさ密度が０．０５〜１．２ｇ／ｃｍ^３であることを特徴とする金属ドープシリカ系ガラス発泡体及びこのようなシリカ系ガラス発泡体を具備する浄化装置並びにこのようなシリカ系ガラス発泡体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 高い機械的強度を有するとともに、紫外光のみならず可視光も含めて光触媒作用を効率良く発揮させることができる光触媒体としても機能するシリカ系ガラス発泡体及びこれの製造方法並びにこのようなシリカ系ガラス発泡体を用いた浄化装置を提供する。
【解決手段】 シリカを主成分とするシリカ系ガラスの発泡体であって、チタンの含有量が１〜２０ｗｔ．％であり、窒素の含有量が１００〜２００００ｗｔ．ｐｐｍであり、かさ密度が０．０５〜１．２ｇ／ｃｍ^３であるシリカ系ガラス発泡体、このようなシリカ系ガラス発泡体を具備する浄化装置、及び、このようなシリカ系ガラス発泡体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】安価で加工性や外観形状を向上させた石英ガラスクロスであって、高周波回路用多層プリント配線基板に好適に用いられる薄物石英ガラスクロスを提供する。
【解決手段】平均フィラメント径が３μｍ以上９μｍ以下の石英ガラスフィラメントを１５本以上４９本以下の本数に束ねてストランドとし、該ストランドを撚り数４０ｔ／ｍ以下の撚り掛けをするか又は撚り掛け処理を施さずに構成される石英ガラス糸を、タテ糸およびヨコ糸の織り密度がそれぞれ１０本／ｃｍ以上９５本／ｃｍ以下で織布されてなるガラスクロスであって、該ガラスクロスの表面はシランカップリング剤により被覆され且つ該ガラスクロスの両耳部はほつれ防止加工が施されてなり、タテ糸およびヨコ糸を合わせた総フィラメント数が８０，０００本／ｍ^２以上２８０，０００本／ｍ^２以下であるようにした。 （もっと読む）

【課題】従来の機械研磨が不可能な段差や凹凸を有する石英ガラス基板や湾曲した面、あるいは溝部を有する石英ガラス管や棒、それらを用いた石英ガラス治具の表面を火炎研磨と同じ程度の面粗さまで面の形状変化を起こすことなく平滑化することができる石英ガラス物品の表面処理方法を提供する。
【解決手段】粗面を有する石英ガラス物品を０．００１ＭＰａ以上０．１ＭＰａ以下の水蒸気分圧を含む雰囲気内にて８００℃以上１２５０℃以下に保持し、前記石英ガラス物品の表面を処理することにより前記石英ガラス物品の表面粗さを改善するようにした。 （もっと読む）

【課題】 従来よりも短時間で製造することができる、水素分子を含有した耐レーザー性の高い合成石英ガラス体、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 円盤形状を有する合成石英ガラス体であって、少なくとも、前記合成石英ガラス体の水素分子濃度が、前記円盤形状の中心軸の中点において２×１０^１６〜４×１０^１７分子／ｃｍ^３であり、前記中心軸と前記円盤形状の表面との交点のうち少なくとも一方において２×１０^１７〜２×１０^１８分子／ｃｍ^３であり、前記中心軸に沿って、該中心軸の中点から前記円盤形状の表面に向かって単調増加である合成石英ガラス体、及び、このような合成石英ガラス体を製造するための合成石英ガラス体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＣＴＥが十分に制御されたシリカ・チタニアガラスを提供することを目的とする。また、本発明は、シリカ・チタニアガラスのＣＴＥを、試料寸法を限定することなく正確に求める方法を提供することを目的とする。また、本発明は、シリカ・チタニアガラスのＣＴＥを後処理によって制御する方法を提供する。
【解決手段】漏洩弾性表面波速度Ｖ_ＬＳＡＷと仮想温度Ｔｆを本発明に係る式（１）に代入して得られる線膨張係数ＣＴＥが２２℃において−５０ｐｐｂ／Ｋ以上５０ｐｐｂ／Ｋ以下であり、かつ、仮想温度Ｔｆの範囲が７００（℃）≦Ｔｆ≦１３００（℃）であるようにしたシリカ・チタニアガラスである。 （もっと読む）

【課題】 光触媒反応ユニットに使用されるシリカガラスであって、光触媒の反応効率を向上させるために、２５０ｎｍ程度以下の光を約２５０ｎｍ〜４５０ｎｍ程度の長波長側へ効率よく波長変換することができ、それとともに、長時間紫外線を照射しても性能が低下しにくい、耐紫外線性等に優れた特性を兼ね備えた光触媒用シリカガラス、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 シリカガラスにおいて、少なくとも、前記シリカガラスは、ＯＨ基含有量が１０ｗｔ．ｐｐｍ以下であり、厚さ１０ｍｍの波長２４５ｎｍでの直線透過率が９０．０％〜３０．０％の範囲であり、塩素及びフッ素の合計含有量が１００ｗｔ．ｐｐｍ以下であり、光触媒反応ユニットに使用されるものであることを特徴とする光触媒用シリカガラス、及び、このような光触媒用シリカガラスを製造するための光触媒用シリカガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】平板型である大型の石英ガラスのインゴットを泡がなく高純度に、簡便且つ短時間で製造できる石英ガラスの製造方法及び石英ガラス製造装置を提供する。
【解決手段】回転する炉の上部から粉供給装置より石英粉を落下させて炉底中央部に積層させ、加熱溶融して炉の外周方向に伸展させてインゴットとする石英ガラスの製造方法において、石英粉の落下位置と溶融位置を炉底部に分散させるようにした。前記石英粉の落下位置を炉底部中心部から変位させ、前記粉供給装置及び前記炉底部の一方又は両方が回転移動することにより石英粉が炉底部に分散されることが好ましい。 （もっと読む）