【課題】事前設定を行わずに２枚の画像の輝度を揃えてパターン検査を正確に行う。
【解決手段】エッジ検出部２１は、被検査画像ＯＢＪに含まれる水平エッジと垂直エッジを検出する。水平補正値算出部２２は、水平補正値Ａとして、被検査画像の水平非エッジ領域（水平方向に並び、垂直エッジ上の画素で挟まれた画素からなる領域）内の画素値の平均値と参照画像ＲＥＦの対応位置にある領域内の画素値の平均値との差を求める。垂直補正値算出部２３は同様に垂直補正値Ｂを求め、補正値選択部２４は水平補正値Ａと垂直補正値Ｂを含む複数の候補の中から補正値Ｃを選択する。補正部２５は補正値Ｃを用いて被検査画像を補正し、比較部２６は補正後の被検査画像と参照画像の差を求める。欠陥判定部３２は、求めた差に基づき被検査物における欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】反転受渡部の数を最小限にしつつ、搬送ロボットの待機時間を極力低減することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】反転受渡部ＲＶＰＡＳＳ２は、第３保持機構９３および第４保持機構９４を備える。第３保持機構９３と第４保持機構９４とは回転中心軸ＲＸを挟んで上下対称位置に設けられており、回転中心軸ＲＸの周りで１８０°回転して互いの位置が入れ替わる。搬入側の搬送ロボットは高さ位置Ｈ４にて第３保持機構９３または第４保持機構９４に基板を渡す。反転受渡部ＲＶＰＡＳＳ２にて表裏反転された基板は、高さ位置Ｈ３にて第３保持機構９３または第４保持機構９４から搬出側の搬送ロボットによって受け取られる。搬入側の搬送ロボットは、先行する基板の反転処理が完了する前に、後続の基板の搬送を開始することができる。 （もっと読む）

【課題】撥水性を有する基板を搬送しながら良好に洗浄、乾燥処理を施す。
【解決手段】基板処理装置は、洗浄室１Ｃ及び乾燥室１Ｄを有し、撥水性を有する基板Ｓをその表面が傾斜した姿勢で搬送しながらその表面に洗浄、乾燥処理を施す。洗浄室１Ｃには、搬送方向に沿って連続する状態で、基板Ｓの上位側端部に対して洗浄水を供給する第１供給手段２０と、その下流側端部に近接され、かつ基板Ｓをその上位側から下位側に亘って横断する方向に沿って設けられ、同方向に沿って連続する状態で洗浄水を基板Ｓに供給する第２供給手段２４とが設けられる。乾燥室１Ｄには、第２供給手段２４に近接し、かつ搬送基板Ｓをその上位側から下位側に亘って横断する方向に設けられ、同方向に沿って連続する状態で搬送基板Ｓに対してエアを吹き付けるエアナイフ３０が設けられる。 （もっと読む）

【課題】マスクを装置の外部に搬送することなく検査及び収納し、それにより、搬送に伴うマスクの汚れや損傷を防止することができるパターン描画装置を提供する。
【解決手段】パターン描画装置１は、マスク検査部６０、マスク洗浄部７０、およびストッカー部５０を装置内に備えるとともに、複数の光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇ、マスク検査部６０、マスク洗浄部７０、およびストッカー部５０の間でマスクＭを搬送するマスク搬送機構４０を備える。このため、マスクＭをパターン描画装置１の外部に搬送することなく検査、洗浄、および収納することができ、これにより、搬送に伴うマスクＭの汚れや損傷を防止することができる。また、パターン描画装置１の外部にマスクＭの搬送経路を確保する必要がないため、工程全体の作業スペースを低減させることができる。 （もっと読む）

【課題】光学性能を損なうことなく、コンパクトで、かつ、高精度に、像を任意にシフトさせることが可能な機構を提供する。
【解決手段】像面における像をシフトさせる像位置調整装置１に、調整機構１１、第１ウエッジプリズム１３および第２ウエッジプリズム１４を設ける。入射する光が所定の入射角となる姿勢で第１ウエッジプリズム１３を固定し、第２ウエッジプリズムを第１ウエッジプリズム１３に対向して逆向き配置する。第２ウエッジプリズム１４をＺ軸方向（光軸方向）に移動させつつ、第１ウエッジプリズム１３と第２ウエッジプリズム１４との相対距離を変更することにより、像面におけるＸ軸方向のシフト量を調整する。 （もっと読む）

【課題】露光ヘッド等の経時的形状変化の蓄積により露光位置が本来の適正位置からずれた場合に、その露光位置ずれを正確に測定することができる露光装置の提供。
【解決手段】ステージと、ステージ上の設置物に対してビーム光を照射する露光ヘッドと、露光ヘッドからのビーム光を反射する複数の露光位置検出用パターンが表面に配列されステージ上に配置される露光位置検出用基板と、露光ヘッドによる走査露光を可能にする移動部と、露光位置検出用基板が露光ヘッドにより走査露光されたとき、露光位置検出用パターンでのビーム光の反射による反射光を受光する受光部と、受光部が受光した反射光の光量に基づき露光位置検出用基板の露光位置を算出する露光位置算出部と、露光位置検出用基板の所定パターンでの走査露光を２回以上行ったとき、前回の露光位置と今回の露光位置とのずれ量を算出する位置ずれ算出部とを備える。 （もっと読む）

【課題】合焦位置を正確かつ容易に検出することができる、露光装置を提供する。
【解決手段】空間光変調素子１１により、波長λの光によるＬ／Ｓパターンが作成される。Ｌ／Ｓパターンは、投影光学系１３により、所定の投影面に投影される。Ｌ／Ｓパターンには、λ／ＮＡ＜Ｐ_１＜２λ／ＮＡを満たす周期Ｐ_１のＬ／Ｓパターンと、１．２Ｐ_１＜Ｐ_２＜１．６Ｐ_１を満たす周期Ｐ_２のＬ／Ｓパターンとが含まれる。 （もっと読む）

【課題】適正なテストパターンを形成する。
【解決手段】制御部４１は、第１解像度の対象画像Ｐ１に対応する画像情報と、第１解像度とは相違する第２解像度のテストパターンＰ２に対応すると共に、第１解像度の画像情報である第２パターン情報とを合成して１つの画像情報を生成する画像合成部４１２と、合成されて生成された１つの画像情報を、記録媒体上に形成するべく、記録ヘッド１、ヘッド駆動部２及び媒体駆動部３に対して指示を行う動作指示部４１３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】排気口からの排気に大きな排気能力を必要とせずに、処理チャンバ内の雰囲気を良好に置換させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理チャンバ３の天面付近の側壁には、給気ユニット４１が配置されている。給気ユニット４１の給気口４３からは、側壁２に沿って水平方向に流れるクリーンエアが、処理チャンバ３内に供給される。処理チャンバ３内の雰囲気は、処理チャンバ３の底部に配置された排気ユニット５１，５２の排気口５３，５４から斜め下方に向けて吸い込まれて排気される。給気ユニット４１，４２から、処理チャンバ３の内部にクリーンエアが供給されるとともに、排気ユニット５１内が強制的に排気されると、処理チャンバ３内に、カップ５のまわりを周回しながら下降する渦状の気流が形成される。 （もっと読む）

【課題】 サテライトや飛行曲がりによる問題を確実に解消することが可能なインクジェットヘッドを提供することを目的とする。
【解決手段】 インクジェットヘッドは、複数のノズル２が一方向に列設された本体１と、複数のノズル２における吐出部２３に対向する位置に孔部６が穿設されたノズルプレート３とを有するヘッド部と、ノズルプレート３から距離ｈだけ離隔した位置にノズルプレート３と平行に配設され、複数のノズル２における吐出部２３に対向する位置に孔部７が穿設された第２のノズルプレートとを備える。 （もっと読む）