【課題】空気によって少なくとも部分的に吸収される光を使用するよう設計され、かつ、より能率的なパージングシステムを有する、光学ツールのための方法を開発する。
【解決手段】試験体の測定のための方法において、該試験体の反射率測定データおよび分光偏光解析データを測定する工程と、該反射率測定データから、該試験体上に形成された窒化酸化物ゲート誘電体の厚さを判定する工程と、該厚さおよび該分光偏光解析データから、窒化酸化物ゲート誘電体の屈折率を判定する工程と、該屈折率から、該窒化酸化物ゲート誘電体の窒素濃度を判定する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で広い計測レンジと高い計測精度とを実現した計測装置を提供する。
【解決手段】計測装置は、第１光源、第２光源、第１検出器、第２検出器及び算出部を備える。第１光源は第１波長と第２波長との間で波長が走査された走査区間を含む第１光を生成する。第２光源は第３波長の第２光を生成する。第１検出器は第１光を参照面及び被検面に各々照射することで生成された第１干渉縞を検出する。第２検出器は第２光を参照面及び被検面に各々照射することで生成された第２干渉縞を検出する。第３波長は第１波長及び第２波長の合成波長より短い。算出部は第１時刻において第２干渉縞の位相のデータから第２干渉縞の次数が算出できなくなった場合に、第１時刻より後の走査区間における第１干渉縞の位相の変化に基づいて第１時刻以降における第２干渉縞の次数を算出し、該算出された第２干渉縞の次数を用いて第１時刻以降における被検面の形状を算出する。 （もっと読む）

【課題】高精度に被検面と参照面の間の絶対距離を計測可能な計測装置および計測方法を提供する。
【解決手段】第１の基準波長λ_１と第２の基準波長λ_２との間で波長走査が可能な光源１１と、第３の基準波長λ_３の光を射出する光源１０を有する光波干渉計測装置は、各波長に対応した干渉光の信号に基づいて被検面と参照面との間の光路長に相当する位相の誤差を補正し、誤差が補正された位相に基づいて被検面と参照面の間の絶対距離を算出する処理部１９を有する。 （もっと読む）

【課題】貼合わせウェハ全体について厚さを測定できる装置の提供。
【解決手段】貼合わせウェハ１の厚さ測定光学系及び観察光学系と、測定光学系から出力される信号を用いて貼合わせウェハ１の厚さを算出する信号処理装置とを具え、測定光学系は、第１の波長域の測定用光源３０と、この測定光を投射して光スポットを形成する対物レンズ１７と、その反射光の光検出手段４０とを有し、観察光学系は、前記第１の波長域とは異なる第２の波長域の観察用照明光を放出する照明光源４１と、照明光を投射する対物レンズ１７と、その反射光を受光して２次元画像を撮像する撮像装置４８とを有する。これらで共通の対物レンズ１７と測定光源及び観察光源との間の光路中には、前記測定光学系と観察光学系とを光学的に結合する波長選択性を有するカップリング素子３４を配置する。撮像装置４８は、前記測定光により形成された光スポットの像が重畳された像を撮像する。 （もっと読む）

【課題】配置の制約が少なく、かつ照度不足および照度ムラが生じにくい投影装置を提供する。
【解決手段】撮像部の撮像対象物に対して光を投影する投影装置２００であって、放射する光の波長帯が互いに異なる赤色ＬＥＤ２４０Ｒ、緑色ＬＥＤ２４０Ｇおよび青色ＬＥＤ２４０Ｂと、撮像対象物の特性に基づき、各ＬＥＤが放射する光の光量を制御する投影制御部２３０と、複数のＬＥＤから放射される光を、同一の光軸上に導くことにより、撮像対象物に対して光を投影するリレー部２５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】 曲面を有する膜厚を正確に計測する。
【解決手段】 膜厚の検査装置は、テラヘルツ波を発生させるテラヘルツ波発生器１５と、前記テラヘルツ波を、膜が形成された試料に照射させる照射光学系１６、１７と、前記試料において反射したテラヘルツ波を検出し、検出信号を出力するテラヘルツ波検出器２２と、前記試料の反射面の形状情報に基づき、当該反射面から前記テラヘルツ波検出器に至るまでの反射波の電場強度を参照信号として算出し、前記参照信号を用いて前記検出信号を補正する制御装置５を備える。 （もっと読む）

【課題】複数本の光ファイバーを設置し難い測定対象に対しても適用でき、測定対象の複数個所の特定方向の曲がり量を独立に測定し得る光学式曲がり測定装置を提供する。
【解決手段】光学式曲がり測定装置は、測定光を供給する光源ユニット１１０と、測定光を伝達する光ファイバー１２０と、光ファイバー１２０の異なる複数の部分に設けられた複数の光学特性変化部材１５０Ａ，１５０Ｂ，１５０Ｃと、光ファイバー１２０から出力される光を検出する光検出ユニット１４０を備えている。各光学特性変化部材１５０Ａ，１５０Ｂ，１５０Ｃは、これが設けられた光ファイバー１２０の部分の特定方向の曲がり量に応じてこれに入射した光に光学特性の変化を与える。光検出ユニット１４０は、光学特性の変化を受けた光を分離して検出し、その検出光強度に基づいて光ファイバー１２０の複数の部分の特定方向の曲がり量を独立に測定する。 （もっと読む）

【課題】プローブを交換する事無く種々の測定精度を得ることができる形状測定装置を提供すること。
【解決手段】第１のライン光を測定物に照射する第１光学系と、第１光学系の少なくとも一部の光学素子を有し、第１のライン光よりも長い第２のライン光を測定物に照射する第２光学系とを有する光照射部と、前記測定物による前記第１のライン光の散乱光を検出する第１の検出部と、前記測定物による前記第２のライン光の散乱光を検出する第２の検出部と、を備える形状測定装置である。 （もっと読む）

【課題】液浸法で露光を行う露光装置の液体に接する部分に異常があるかどうかを効率的に判定する。
【解決手段】露光光ＥＬで投影光学系ＰＬと液体１とを介して基板Ｐを露光する露光方法において、液体１に接する接液部を光学的に観察し、得られる第１画像データを記憶する第１工程と、接液部の液体１との接触後、例えば液浸露光後に接液部を光学的に観察して第２画像データを得る第２工程と、第１画像データと第２画像データとを比較して、その観察対象部の異常の有無を判定する第３工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 プローブの伸び、及び周辺空気の温度、湿度の影響を抑えた高精度な形状測定を行うことのできる形状測定用の接触式プローブおよび形状測定装置を提供する。
【解決手段】 プローブシャフト２と先端球１６を備えた接触式プローブ１において、
前記プローブシャフト２内の測長光路の少なくとも一部に透明体を設けることにより、少なくともこの部分だけ空気に暴露された光路を減らすことができる。その結果、外気の屈折率変化による測定誤差を抑え、精度を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】参照面と被検面との間の距離の測定に有利な技術を提供する。
【解決手段】光源からの光を２つの光に分割して、一方の光を参照面に入射させ、他方の光を被検面に入射させ、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出する検出部と、距離を求める処理を行う処理部、前記光源からの光の波長を固定しての干渉光である第１の信号と、前記光源からの光の波長を連続的に変更させながらの干渉光である第２の信号、前記第２の信号を周波数解析して前記第２の信号に含まれる周期誤差を算出し、前記第１の信号に含まれる周期誤差と前記第２の信号に含まれる周期誤差との対応関係を表すテーブルを用いて、前記算出された前記第２の信号に含まれる周期誤差に対応する前記第１の信号に含まれる周期誤差を特定し、前記第１の信号から前記特定された周期誤差を減算し、前記参照面と前記被検面との間の光路長に対応する位相を求める。 （もっと読む）

【課題】パターンの形状測定において、対象構造が計測可能か、又はどの程度の誤差が生じるかを分光反射率測定により事前に知る。
【解決手段】繰り返しパターンを分光検出して分光反射率を求めるとともに検出時に生じる検出波長ごとのノイズの量を求め、分光反射率の情報及び検出時に生じる検出波長ごとのノイズの量の情報と、繰り返しパターンの屈折率と消衰係数とを含む光学的材質の情報及び繰り返しパターンの形状の情報とを用いて繰り返しパターンの形状を算出して所定の精度で繰り返しパターンを計測することが可能かを評価し、評価した結果所定の精度で計測可能と判定した場合に繰り返しパターンと同一のパターンが形成された基板を順次分光検出してパターンの形状を検査するようにした。 （もっと読む）

【課題】プローブの撓みの影響を受けずに高精度の形状測定を行う。
【解決手段】プローブ先端部３に一体に平面ダイクロイックミラー１０及び球面ミラー１６を設ける。オートコリメータ光学系５により平面ダイクロイックミラー１０の傾斜量を測定し、並進移動量測定光学系１２により球面ミラー１６のＸ，Ｙ軸方向のずれ量を測定する。ずれ量算出部４２ｂは、測定した平面ダイクロイックミラー１０の傾斜量及び球面ミラー１６のずれ量に基づいて、プローブ先端部３において被測定物４の表面に接触する接触点となる球１９の基準位置に対するＸ，Ｙ軸方向のずれ量を算出する。推定部４２ｃは、ずれ量算出部４２ｂにより算出されたずれ量から、プローブ先端部３の球１９のＸ，Ｙ軸方向の位置を推定する。 （もっと読む）

【課題】確実に、かつ、高速に、合焦位置の検出を行う。
【解決手段】ラインセンサ２５を構成するラインピクセル上の合焦時の光点像（レーザスポットＳ_１）では、レーザ光の光量が絞られる調整制御が行われ、合焦ピクセルから離れた位置となる非合焦時の光点像（レーザスポットＳ_２）では、レーザ光の光量が増加される調整制御が行われるように、あらかじめ定められたテーブルデータに従ったフィードフォワード制御が行われることで、確実に、かつ、高速に、合焦位置の検出を行うことができる。本発明は、例えば、対象物の断面形状を測定する測定装置に用いられる位置検出装置に適用することができる。 （もっと読む）

【課題】合焦精度の低下を軽減する。
【解決手段】ラインピクセルにより受光される光量データが飽和したとき、ラインピクセルの略中央のピクセルである合焦ピクセルを過ぎたときの前後２ピークのピークピクセルを決定し（Ｓ１１）、決定したピークピクセルにおけるＺ軸カウンタ値を取得し（Ｓ１２）、取得したＺ軸カウンタ値を直線補間して、合焦ピクセルにおけるＺ軸カウンタ値を推定し（Ｓ１３）、推定された合焦ピクセルにおけるＺ軸カウンタ値に基づいて、対象物２の面位置を検出する（Ｓ１４）ので、受光される光量が飽和したときでも、合焦精度の低下を軽減することができる。本発明は、例えば、対象物の断面形状を測定する測定装置に用いられる位置検出装置に適用することができる。 （もっと読む）

【課題】合焦精度を向上させる。
【解決手段】高感度のラインセンサ１６Ｂは、レーザ照明部１１により照明された対象物２の光点像の光量から得られる高輝度の受光データを取得し、低感度のラインセンサ１６Ａは、対象物２の光点像の光量から得られる低輝度の受光データを取得し、データ処理部１７は、正常時は、高感度のラインセンサ１６Ｂからの高輝度の受光データを選択し、高輝度の受光データを得るときのレーザ光が飽和した場合、低輝度の受光データを選択する。そして、検出部１８は、データ処理部１７により選択された受光データに基づいて、対象物２の像の合焦状態を検出することで、対象物２の像の合焦状態が確実に検出されるので、合焦精度を向上させることができる。本発明は、例えば、対象物の断面形状を測定する測定装置に用いられる位置検出装置に適用することができる。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハ上に形成されたチップ内の直接周辺回路部の近辺に存在する致命欠陥を高感度に検出することができる欠陥検査装置及びその方法を提供する。
【解決手段】被検査対象物を所定の光学条件で照射する照明光学系と、被検査対象物からの散乱光を所定の検出条件で検出して画像データを取得する検出光学系とを備えた欠陥検査装置において、前記検出光学系で取得される光学条件若しくは画像データ取得条件が異なる複数の画像データから領域毎に複数の異なる欠陥判定を行い，結果を統合して欠陥候補を検出するようにした。 （もっと読む）

【課題】角度検出感度を向上させるとともに、検出可能な角度範囲を広くする。
【解決手段】波長域が互いに異なる山形輝度分布が互いに重なり合うように帯状面光源を構成し、各波長域の撮影画像の該山形輝度分布に対応する画素値分布に基づいて検査面の角度を２段階で検出する。第１段階では、Ｒ、Ｇ、Ｂの画素値間の大小関係と曲線近似情報とに基づいて、光源面上周期内参照光位置ｘを決定し、第２段階では、明度の値と曲線近似情報とに基づいて、周期内参照光位置ｘがどの周期ｉに属するか、すなわち、周期始点位置Ｘｉを求める。次いで参照光位置Ｘ＝Ｘｉ＋ｘを検査ラインでの検出角に変換する。 （もっと読む）

【課題】光制御板に形成された凹凸形状を簡易に評価することが可能な形状評価方法を提供する。
【解決手段】凹凸形状13が形成された第１の面11と当該第１の面11と反対側に位置する第２の面12とを有し、凹凸形状13が第１の方向11に延在しているサンプル光制御板1の凹凸形状13を評価する形状評価方法は、第１の面11から光を入射した場合の第１の全光線透過率Tt1及び第２の面12から光を入射した場合の第２の全光線透過率Tt2の少なくとも一方を用いて規定される指標を凹凸形状13を表す指標とし、サンプル光制御板1に対して、第１及び第２の全光線透過率Tt1，Tt2の少なくとも一方を測定して上記指標を取得する取得工程と、凹凸形状が既知の基準光制御板に対して予め取得した指標と凹凸形状との相関関係に基づき、取得工程で取得した上記指標から、サンプル光制御板1の凹凸形状13を評価する評価工程とを有している。 （もっと読む）

【課題】 測定後の原点を高精度に設定することができ、被測定物の変位情報（絶対変位情報）を高精度に測定することができる干渉測定装置を得ること。
【解決手段】 第１光源手段からの第１の光束と第２光源手段からの第２の光束を合波する第１の合波手段と、第１の光束と第２の光束が合波された光束を、２つの光束に分割し、一方の光束を被測定物の測定面に入射させ、他方の光束を参照面に入射させ、測定面からの反射光束と参照面からの反射光束を合波する光学系と、
測定面と参照面からの反射光束とに含まれている分割された２つの第１の光束により形成される光束と、２つの第２の光束により形成される光束を受光する受光手段と、
受光手段で受光した第１の光束に基づく第１の信号と受光手段で受光した第２の光束に基づく第２の信号とを用いて測定原点を決定する決定手段を有すること。 （もっと読む）