【目的】本発明は、電子線を真空室内に配置した試料に照射し放出あるいは吸収あるいは透過する電子あるいは２次電子あるいは光をもとに画像を生成する際に、温度変化を与えることなく汚染を防止する電子顕微鏡に関し、真空内に配置された試料に対向してゲッター面を設け、必要に応じて新規なゲッター面に切り替えるあるいは再生成することで、試料に対する温度変化を与えずに残留ガス分子による汚染を低減することを目的とする。
【構成】 真空室内に配置した試料の面に対向して設けたゲッター面と、ゲッター面について、必要に応じて、ゲッター面に新たなゲッター膜を生成する、あるいは他のゲッター面に新たなゲッター面を生成して置換する機構とを有する。 （もっと読む）

【課題】描画されたパターン中から確実かつ精度高くかつ高速かつ人手に頼ることなく対象パターンを特定し、測長などする方法を提供する。
【解決手段】 設計データで表現されるパターンに、プロセスシフト情報を加味した第１のパターンを作成するステップＳ１〜Ｓ４と、描画されたパターンを拡大するステップＳ５、Ｓ６と、特定対象の第１のパターン、あるいは特定対象の第１のパターンとその周辺のパターンを含め、拡大されたパターン、あるいは拡大されたパターンとその周辺の拡大されたパターンを含めてパターンマッチングするステップＳ７と、パターンマッチングして一致あるいは最も一致した拡大されたパターンを出力するステップＳ８〜Ｓ１０とを有する。 （もっと読む）

【課題】高加速電圧で収差補正機能を備えた荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子線源と該荷電粒子線源から荷電粒子を引き出すための引き出し電極と荷電粒子線の収束手段を含む荷電粒子線銃と、該粒子線銃から放出された荷電粒子線を加速する加速手段と前記粒子線銃と加速手段の間に収差補正手段を設けて、引き出し電位あるいは、それとほぼ同等の加速初期段階のビームに、試料面上での粒子線プローブの収差をキャンセルするだけの収差を与えることにより上記課題を、解決する。 （もっと読む）

【課題】血液検体の各分離位置と分離範囲としての空気封入高さ、血清収容高さ、シリコン分離剤収容高さ等を高精度に検出できる試験管の検知方法を提供することにある。
【解決手段】血清Ａと血餅Ｃとがシリコン分離剤Ｂによって分離され、血清Ａと栓２との間に空気Ｄが封入された状態の血液検体が収容された試験管１の検知方法において、前記試験管１を挟んでＸ線を照射するＸ線管１１と該Ｘ線管１１から前記試験管１を透過したＸ線透視像を撮像する撮像装置として固体撮像素子１２とを対向して設け、前記試験管１を透過したＸ線透視像を撮像することにより、前記試験管１の情報を検知することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電子線照射による形状・寸法変化が生じる試料において、最適な測定条件を迅速にかつ簡便に決定する。
【解決手段】測定条件を変えて寸法の測定を反復する。シュリンク量と測定再現性が予め設定された基準値を見たすまで、加速電圧等の測定条件を変化させて測定を実施し、最適な測定条件を探す。 （もっと読む）

【課題】
電子線を照射し、その二次電子などを検出する検出系では高速で検出するには検出器の面積が重要なファクタである。現在の電子光学系、検出器の技術では一定以上の面積の検出器が必要で、面積に逆比例する周波数で制約を受け、２００Msps以上の検出は実質的に困難である。
【解決手段】
例えば必要面積４mm角、４mm角時の速度を１５０Mspsとして４００Mspsで検出するには、単体の高速な２mm角の検出器を４個並べ、それらを増幅後、加算してA/D変換する。又は、二次電子偏向器で順次８mm角の検出器に二次電子を入射させ、１００Mspsで検出、A/D変換後並べる。いずれも、４mm角の面積と４００Mspsの速度を達成可能である。
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【課題】走査型電子顕微鏡の撮像画像の画質を向上させる。
【解決手段】１次電子ビーム１０８を試料ウェハ１０６に照射する電子源１０１、加速電極１０２、集束レンズ１０３、偏向器１０４、対物レンズ１０５等と、試料ウェハ１０６から発生する放出電子信号１０９をサンプリングしてデジタル画像を取得する検出器１１０、デジタル化手段１１１等と、取得した前記デジタル画像の記憶、表示もしくは処理を行う画像メモリ１１６、入出力部１１８、画像生成部１１５、画像処理部１１４等とを備えた走査型電子顕微鏡に、前記記憶、表示もしくは処理されるデジタル画像の画素サイズよりも細かい間隔で放出電子信号１０９をサンプリングするサンプリング手段と、サンプリングされた放出電子信号１０９を元に画素サイズを大きくしてデジタル画像を生成する画像生成処理手段とを設ける。 （もっと読む）

【課題】 荷電ビームを用いて寸法測定パターンの測長を行う際に、正確に寸法測定を行うことができる寸法測定パターン及び寸法測定方法を提供する。
【解決手段】 基板上に形成され、荷電ビームを用いた寸法測定に使用される寸法測定パターンにおいて、寸法が測定される測長部６を有するメインパターン１０ｍと、メインパターン１０ｍに隣接して、前記荷電ビームの合焦点位置が前記測長部６と等価であるサブパターン１０ｓを設ける構成とする。
上記構成によれば、荷電ビームのフォーカスをサブパターン１０ｓで合わせることで、測長部６にフォーカスを合わせることが可能となる。したがって、フォーカス合わせ中に測長部６にコンタミネーションが付着したり、測長部がチャージアップしたりすることがなく、測長部６の寸法を正確に測定することができる。 （もっと読む）

油圧アセンブリ（１０）のシリンダ（１２）内のピストン（１４）の位置がマイクロ波パルスを用いて測定される。マイクロ波パルスは、ピストン（１４）またはシリンダ（１２）に接続された導体（２２）に沿って送り出される。スライド部材（４０）は、導体（２２）にスライド可能に結合され、ピストンまたはシリンダと共に移動する。位置は、導体の端部およびスライド部材からの反射の関数として測定される。
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油圧アセンブリのシリンダ内のピストン位置が、マイクロ波パルスを用いて測定される。前記マイクロ波パルスは、前記ピストンまたはシリンダに接続された導体に沿って発せられる。スライド部材は、前記導体にスライド可能に接続され、前記ピストンまたはシリンダと共に移動する。位置は、前記導体および前記スライド部材の端部からの反射の関数として測定される。
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【課題】 回転ステージの回転振れを測定するため、ＳＥＭ等で拡大観察可能な測定円の描画を好適に行って回転同期振れＲＲＯの測定を高精度に行い、描画補償により描画真円度を高める。
【解決手段】 回転ステージ41に載置した基板11に偏向制御したビームEBを照射して所定パターンの露光を行う露光装置40において、回転ステージ41を回転させつつ基板11上の回転中心付近にビームEBを照射し、基板11上に全体がＳＥＭ等で拡大観察可能な小径の測定円５を描画し、該測定円５の計測より回転同期振れＲＲＯを測定し、実描画に反映する。 （もっと読む）

本発明は試料表面を検査する方法に関する。この方法は、試料表面に向けて誘導される複数の一次ビームを発生するステップと、複数の一次ビームを、試料表面上のそれぞれの位置に集束させるステップと、一次ビームが入射するとすぐ、試料表面から発生する荷電粒子の、複数の二次ビームを収集するステップと、収集された二次ビームの少なくとも１つを光学ビームに変換するステップと、光学ビームを検出するステップとを含む。
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【課題】走査電子顕微鏡において、観察視野の選択時に有効である異種倍率像の同時表示機能では、広い領域の走査に必要な高い感度の偏向コイルをそのまま用いて高倍率とするために走査信号の振幅を縮小していたので、高倍率像走査時には、偏向コイル駆動電流のＳ／Ｎ比が低下し、倍率比の大きな異種倍率像を得る事が困難であった。
【解決手段】高感度偏向コイルと低感度偏向コイルを使用し、低倍率像は、高感度偏向コイルを走査し、高倍率像は低感度偏向コイルを走査することで、Ｓ／Ｎ比低下の問題を解決し、倍率比の大きな異種倍率像を得る事が可能である。
【効果】倍率比の大きな異種倍率像を表示できるので、効率良く視野選択ができ、操作性を向上する効果がある。 （もっと読む）