【課題】透過率が高い導電性透明電極パターンや微細な金属配線のパターンを、インライン検査で行うための検査システムを提供する。
【解決手段】検査ワーク１１を第１の方向Ｘに搬送するワーク搬送装置２０と、検査ワーク上に形成されたパターンの光学情報を取得する撮像装置３０と、第１の方向と直交する第２の方向Ｙに撮像装置を移動させる移動装置４０と、ワーク搬送装置、撮像装置及び移動装置を制御するとともに、光学情報に基づいてパターンを検査する制御部５０と、を有する。 （もっと読む）

【課題】反射防止フィルム製造工程の各層を形成する工程で、前工程の欠陥情報を利用して最新工程により検出した欠陥を選別し、最新工程における発生欠陥の監視精度の向上を行い、品質異常の検知速度を向上させ、早期に不良の発生を知ることが可能な品質監視システムを提供する。
【解決手段】製造工程内の各工程に備えられた検査機と、検査機から得られた検査情報を格納し管理する検査情報管理データベースと、製品ロールの各工程における品質情報や実績情報を管理する生産情報管理データベースと、検査情報管理データベースと生産情報管理データベースに基づいて、最新工程と前工程での欠陥検出位置の座標を補正することによって最新工程で発生した欠陥を選別する欠陥選別手段と、欠陥選別手段によって選別された欠陥を異常判定条件に基づいて異常と判断し、異常を通知する欠陥監視手段と、を備えたことを特徴とする品質監視システム。 （もっと読む）

【課題】
表面の異物や傷欠陥だけでなく基板の局所的な厚さの変化による欠陥まで検出することを可能にする。
【解決手段】
ガラス基板検査装置を、ガラス基板を透過した光を検出する第１の欠陥検出光学系と、ガラス基板を透過した光によりガラス基板の表面又は内部で発生した散乱光を検出する第２の欠陥検出光学系と、第１の検出光学系で検出した信号と第２の検出光学系で検出した信号とを処理する信号処理手段とを備えて構成し、信号処理手段は、第１の検出光学系手段からの検出信号を入力して処理することによりガラス基板の局所的な厚さの変化に起因する欠陥を検出し、第２の検出光学系手段からの検出信号を入力して処理することによりガラス基板の欠陥を検出するように構成した。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表面不良の判定時間を減らし、ＮＧの可能性の高い表面不良のみを検査員に提供して検査の集中度を極大化させる。
【解決手段】表面不良検査装置は、ガラス基板１の上方にそれぞれ配置され、ガラス基板表面不良に対する第１イメージおよび第２イメージをそれぞれ撮影する撮像装置１０および２０と、ガラス基板１の下方に配置され、撮像装置１０、２０側にガラス基板１を透過する暗視野照明装置３０と、第１イメージ上の不良の位置座標と、第２イメージ上の不良の位置座標とを演算する検出信号処理部４０とを備えている。ガラス基板上面に対する撮像装置１０、２０の撮影領域Ｐ１は互いに重ね合わされ、ガラス基板下面に対する撮像装置１０、２０の撮影領域Ｐ２、Ｐ３は、互いに異なるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】基板上に電子部品が実装されているか否か等、被検査面における被検査対象物の存否を的確に検査できる欠品検査方法を提供する。
【解決手段】被検査面（基板２１上面）における被検査対象物２２の存否をカメラ１１で取り込んだ輝度情報によって検査する欠品検査方法であって、被検査対象物２２の表面と被検査面（基板２１上面）とのうち、いずれか一方の面をその面からの反射光３２がカメラ１１に入射しにくい凹凸面２２ｂとする。他方の面は、その面からの反射光３２がカメラ１１に入射しやすい平坦面とする。被検査対象物２２の存否によってカメラ１１の撮像画像の輝度に大きな高低差が生じるようにする。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能で、光の透過率の高い薄い異物やシワ等を原因とするシール不良の検出も可能な高精度のシール検査装置を提供する。
【解決手段】本実施形態に係るシール検査装置１は、内容物を密封した包装袋７０の袋口シール領域７７のシール不良を検査するシール検査装置１において、シール後の包装袋７０をその袋口シール領域７７が検査場所５０を通過するように案内するガイド部材３０と、検査場所５０にコリメート光を照射するための光源１０と、検査場所５０に位置する袋口シール領域７７の表面に対して略垂直な方向において、光源１０と同じ側に設置された、袋口シール領域７７からの反射光を撮像する撮像装置２０と、撮像装置２０が撮影した撮像画像に基づいて、袋口シール領域７７においてシール不良が発生していないか判定する制御手段４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】検査対象物（例えば半導体パターン）の微細化により、検査すべき欠陥の大きさも微小化し、欠陥からの散乱光の強度が大幅に減少するが、このような欠陥からの微小な散乱光を検出するのに適した欠陥検査装置および方法を提供する。
【解決手段】表面にパターンが形成された試料１００に光を照射するレーザ光源１１１を備える照明光学系１１０ａと、前記照明光学系により照明された該試料から発生する光を検出するセンサ１２６を備える検出光学系１２０と、前記検出光学系により検出された光に基づく画像から欠陥を抽出する信号処理手段２５０と、を備え、前記検出光学系にて光を検出する間に前記センサの増幅率を動的に変化させることを特徴とする欠陥検査装置である。 （もっと読む）

【課題】マスクブランクに存在する位相欠陥とＥＵＶＬ用マスクを製造した後に残存する位相欠陥との両方を感度良く検出する方法を提供する。
【解決手段】マスクブランクを検査する場合は、中心遮蔽ＮＡ以内で大きい照明ＮＡを有するＥＵＶ光を照射し、ＥＵＶＬ用マスクを検査する場合は、ＥＵＶ光を遮蔽する中心遮蔽部と、中心遮蔽部の直径よりも小さい幅を有し、ＥＵＶ光を遮断する線状遮蔽部とをその瞳面に有する暗視野結像光学系を用いて、線状遮蔽部の幅と同じ照明ＮＡまたは線状遮蔽部の幅よりも小さい照明ＮＡを有するＥＵＶ光を照射する。 （もっと読む）

【課題】検査対象からの反射光角度の変化に基づいて基板の欠陥を精度よく検査することができる検査装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係る検査装置は、赤外光を出射する光源１１と、光源１１から出射される赤外光を平行光としてウエハ３０に略垂直に入射させ、当該ウエハ３０からの反射光を導く光学系と、光学系により導かれる反射光のうち、正反射光以外の光を検出するＩＲカメラ１９、２０とを備え、光源１１からの赤外光を導光する光ファイバ１３の出射端面面は、光学系の瞳位置に配置されている。 （もっと読む）

【課題】電子部品などに設けたアライメントマークを撮影画像から検出できない場合でも、表示パネルへの電子部品などの取付状態の検査が行えるようにする。
【解決手段】被検査対象となる表示パネルと電子部品又は電子部品搭載基板との接続部を、表示パネルの面に対してレンズの光軸をほぼ直交させた配置として、照明光を投射させて撮影する。そして、撮影して得た画像の輝度を検出する。その検出した輝度値が第１の輝度値の箇所を、電子部品又は電子部品搭載基板の電極部と判別する。また、検出した輝度値が第２の輝度値の箇所を、表示パネルの電極部と判別する。そして、判別した第１の輝度値の箇所と第２の輝度値の箇所との中間の点から、第１の輝度値または第２の輝度値が連続する長さを、接続部の接続状態の評価値とする処理を行う。 （もっと読む）

【課題】ユーザそれぞれが、自身がその存在を感得しているレシピについて、他のユーザがその存在を含めた設定内容を感得できないように、そのレシピの存在自体も含めてレシピの設定内容を隠蔽しておくことができる検査装置及びその隠蔽方法を提供する。
【解決手段】ユーザそれぞれが、自身の閲覧設定画面５００上でその存在を感得しているレシピについて、他のユーザがその存在を含めた設定内容を感得できないように他のユーザを隠蔽先に含む隠蔽ＩＤ情報を生成するレシピ隠蔽情報作成機能部１１６と、ユーザそれぞれの閲覧設定画面５００を表示する際、隠蔽ＩＤ情報ファイル２４０に格納されている隠蔽ＩＤ情報に基づいて、ユーザそれぞれの閲覧設定画面５００の生成のためのレシピ表示情報を作成する表示情報作成機能部１２０とを備える。 （もっと読む）

【課題】被検査物の表面の凹凸パターンのサイズ変動を検査するマクロ検査装置を提供する。
【解決手段】被検査物２の表面の凹凸パターンのサイズ変動を検査するマクロ検査装置１００である。マクロ検査装置１００は、被検査物２を乗せるためのステージ１と、被検査物２の表面に対して所定の角度方向から被検査物２側に光を照射する拡散光源５と、被検査物２の表面からの反射光を受光可能なラインセンサ９と、被検査物２とラインセンサ９との間に設けられ、反射光のうち拡散光源５のエッジ部からの光束に起因する反射光束が、ラインセンサ９の両端の少なくとも一方に設けられた所定領域でのみ受光されるように、反射光をラインセンサ９に導くための光学系と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ラップフィルム等の透明あるいは半透明のフィルムをロール状に小巻にしたフィルム・ロールの内部に発生する巻皺を検査する。
【解決手段】搬送コンベアに保持されたラップフィルム等が小巻されたフィルム・ロールを一定速度で搬送する過程で、ラインセンサにより画像を撮像する構成とし、入射した光がフィルム・ロールの内部で発生した巻皺等によって拡散され、正常であれば暗くなっているはずの部分が皺の影響により明るく映っていないか判断する。対象となる検査領域は、入射光がフィルム・ロールの表面で正反射している輝線の部分ではなく、そこから数画素離れた、隣接する暗くなっている領域に設定する。この領域に通常より明るい画素があれば、それは巻皺の存在を示している可能性があるので、予め設定された閾値と比較し、その画素数の総計がある基準を上回ると、巻皺があると判定し、該フィルム・ロールを不良品とする。 （もっと読む）

【課題】光透過性を有するシート状物表面に生じた凹凸欠陥を、光学系起因の輝度分布に関わらず効果的に検出できる欠陥検出装置、欠陥検出方法、及び欠陥検出されたシート状物を提供する。
【解決手段】光透過性を有するシート状物１の走行経路上において、シート状物に平行光を照射する照射手段２ｂと、シート状物面に対して照射手段と反対側に設置され、シート状物を透過した照射手段からの光を投影するスクリーン３と、スクリーンに投影された光を暗視野方向から撮像する撮像手段４を有する凹凸欠陥の検出装置であって、スクリーンは、シート状物の欠陥のない状態を透過した光のうち、光量レベルの最も高い部分が投影される箇所の拡散反射率が、光量レベルの最も低い部分が投影される箇所の拡散反射率よりも低い。 （もっと読む）

【課題】低コストでノズル穴に生じる不良箇所を精度よく特定可能なノズル外観検査装置、およびノズル外観検査方法を提供すること。
【解決手段】ノズル外観検査装置１００は、暗視野光学系ユニット５と、ノズル穴の撮像画像を取得する画像入力手段（撮像手段）７０と、ノズル穴の中心を推定する中心推定手段７１と、エッジ検出により輪郭を検出する輪郭検出手段７２と、輪郭から仮の近似円の中心を求める仮近似円算出手段７３と、仮の近似円の中心と輪郭上の各点との距離の平均値を求める仮距離平均算出手段７４と、平均値と各距離との差が規定値未満となる輪郭上の点を抽出する近似円候補抽出手段７５と、抽出された点によって形成される輪郭から近似円を特定する近似円特定手段７６と、近似円の中心から抽出された輪郭までの距離が規定値以上となる箇所を不良箇所と特定する不良箇所特定手段７７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】検査時間および労力を低減できるマスク検査方法およびその装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、マスク検査方法は、半導体露光用マスクに任意波長の光を入射させ撮像部にて像を取得する光学系を用いて、前記マスクの欠陥の有無を検査する方法であって、予め前記光学系による点像を、前記撮像部の読み出し方向に伸長される制御条件を取得する第１ステップ（Ｓ２０３）と、前記制御条件により、マスクの所望の領域の像を取得する第２ステップ（Ｓ２０５）と、取得した前記所望の領域の像において、信号強度が予め定めておいた第１閾値以上であり、前記信号強度の前記読み出し方向における差分が予め定めておいた第２閾値以下であるピーク信号が存在する場合、前記ピーク信号の座標を欠陥として判定する第３ステップ（Ｓ２０６）とを具備する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、分解能よりも小さいサイズの欠陥を検出可能であって、より簡易な構成でより短い検査時間で欠陥を検出し得る内部欠陥検査装置および該方法を提供する。
【解決手段】本発明の内部欠陥検査装置Ｄａは、検査対象の物体ＳＭを透過可能な波長の照明光を放射する光源部１と、光源部１から放射された照明光を検査対象の物体ＳＭに照射する照明光学系２と、検査対象の物体ＳＭの光学像を形成する撮像光学系３ａと、撮像光学系３ａによって形成された光学像を光電変換することによって光学像の画像信号を生成する撮像素子４ａおよび画像処理部７１ａと、この生成された光学像の画像信号に基づいて検査対象の物体ＳＭを提示する出力部６とを備え、照明光学系２と撮像光学系３ａとは、暗視野光学系を形成している。 （もっと読む）

【課題】外観検査の欠陥分類において、重要欠陥のピュリティまたはアキュラシーまたはその両方が目標値以上になるように調整するなどのニーズがあるが、教示型の欠陥分類は平均的に分類正解率が高くなるよう条件設定されるため、そのようなニーズに応えられないという問題があった。
【解決手段】特徴量抽出部、欠陥分類部、分類条件設定部を含み、分類条件設定部は、欠陥の特徴量と正解のクラスを対応づけて教示する機能と分類の優先順位を指定する機能を有し、優先順位の高い分類の正解率が高くなるよう条件設定を行う。 （もっと読む）

【課題】試料表面の面粗さや正常な回路パターンからの散乱光の影響を抑制し、かつ、欠陥や異物からの散乱光の利得を高くして、高感度に試料表面の欠陥等を検出することが可能な欠陥検査装置を実現する。
【解決手段】ＮＡ値が大きいレンズを使用するとレンズ外径は１０ａとなり斜方光学系とウエハとの角度はα１である。ウエハ表面粗さや酸化膜下の面粗さ、回路パターンからの散乱光を低減して、欠陥散乱光を多く検出するために斜方検出系の仰角を下げると仰角α２＜α１となるがレンズの外径１０ｂはレンズ外径１０ａより小となり散乱光の集光能力が低下する。集光能力を向上するためレンズ径を広げた１０ｃとするとレンズとウエハ７とが干渉を起こす。干渉部分を削除したレンズの創作により低仰角α２を保持してレンズの開口寸法を１０ｂより大とすることができ欠陥検出能力の向上とレンズ性能の向上が同時に成立する。 （もっと読む）

【課題】検査データと組み合わせて設計データを使用するためのさまざまな方法及びシステムが実現される。
【解決手段】設計データ空間における検査データの位置を決定するための一コンピュータ実施方法は、ウェハ上のアライメント部位に対する検査システムにより取り込まれたデータを所定のアライメント部位に対するデータにアラインさせることを含む。この方法は、さらに、設計データ空間における所定のアライメント部位の位置に基づいて設計データ空間におけるウェハ上のアライメント部位の位置を決定することを含む。それに加えて、この方法は、設計データ空間におけるウェハ上のアライメント部位の位置に基づいて設計データ空間における検査システムによりそのウェハについて取り込まれた検査データの位置を決定することを含む。一実施形態では、検査データの位置は、サブピクセル精度で決定される。 （もっと読む）