【課題】基板上に成膜された透明膜の外縁を明確に特定することで、精度の高い成膜パターンの検査を行うことができる。
【解決手段】透明膜検査装置１は、透明膜Ｍの外縁Ｍｅを含む被検査範囲の観察像を形成する観察光学系１０と、被検査範囲を含む基板Ｓ上に照明光を照射する照明光源２０と、観察光学系１０の光路内に配置されて当該光路の一部を遮光する遮光部材３０とを備える。遮光部材３０は、観察像内に全遮光部分から徐々に明度が高くなる半遮光部分を含む遮光部分を形成し、この遮光部分が透明膜Ｍの外縁Ｍｅの像に被さるように配置される。観察光学系１０は、透明膜Ｍの外縁Ｍｅの側面で反射した光を観察像内に結像させることで、遮光部分にコントラストの高い透明膜Ｍの外縁Ｍｅの線像を形成する。 （もっと読む）

【課題】複数の検査対象部位を有する検査対象物の検査を行う場合でも、各検査対象部位に対してそれぞれ適切に照明して、検査精度を良好に維持しつつ検査時間を短縮する。
【解決手段】互いに異なる色の光を出射する複数の光源装置ＬＧ、ＬＢ、ＬＲと、各光源装置からの光を変調する空間光変調素子２５と、空間光変調素子からの光を基板Ｓの被検査面Ｓａに投射する投射光学系２８と、空間光変調素子を所定の映像信号にしたがって制御することにより、投射光学系からの光の投射パターンを形成する画像表示制御部７４とを備え、投影パターンを形成するための映像信号は、被検査面における検査対象部位の位置情報に基づき生成され、これにより、空間光変調素子制御部が、検査対象部位に対応する画像領域を含む投射パターンを形成する構成とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、表面欠陥を検出する技術に関し、主として塗装表面のブツ欠陥やキズ欠陥の検出を確実に検出する表面欠陥検査装置および表面欠陥検査方法に関するものである。
【解決手段】 発明の表面欠陥検査装置は、色相が平面において少なくとも２方向に周期的に変化した照明パターンを、基準面と検査面とに照射する照明部と、前記照明パターンが照射された前記基準面と前記検査面とを撮像する撮像部と、前記撮像部で撮像された両画像の色相の差に基づいて、前記検査面の欠陥の有無を検出する欠陥検出部と、を有するよう構成する。 （もっと読む）

【課題】
半導体等の製造工程で用いられる欠陥検査において、微弱な欠陥散乱光をもとに高速に検査するためにはゲインの高い検出器が必要であるが、一般的な検出器、典型的には光電子増倍管ではゲインを高くするに従い、暗電流ノイズが大きくなり、欠陥検出感度が低下する。
【解決手段】
試料からの反射散乱光を検出する検出光学系に複数の検出器を備え、弱い背景散乱光量を検出する検出器で画素数の少ない光子計数型検出器を適用するとともに、強い背景散乱光量検出する検出器で画素数の多い光子計数型検出器か、あるいはアナログ型の検出器を適用し、更に光子計数型検出器の適用によって発生する散乱光検出強度の非線形性を補正して欠陥散乱光検出信号を補正する。 （もっと読む）

【課題】露光時の走査方向の違いによって生じるスキャン精度の差異を求めることが可能
な表面検査装置を提供する。
【解決手段】露光によって作製されたパターンを有するウェハを照明光で照明する照明系
２０と、パターンで反射した照明光を検出する受光系３０および撮像装置３５と、撮像装
置３５により撮像されたウェハの回折画像からパターンの線幅を求め、走査方向によるパ
ターンの線幅の差を求める検査部４２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】ウェハエッジ部の幅広い位置変化にも追従することができる光学式検査装置及びエッジ検査装置を提供する。
【解決手段】ウェハ１００の表面の欠陥を検査する表面検査装置３００と、この表面検査装置３００に対するウェハ１００の搬送路に設けたウェハステージ２１０と、このウェハステージ２１０上のウェハ１００のエッジ部を検査するエッジ検査部５３０と、このエッジ検査部５３０を当該エッジ検査部５３０の光軸に沿って移動させる移動装置６５０とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】鏡面反射が酷い計測対象物であっても、簡単な構造により低コストで高精度かつ高速に表面の凹みや大きな疵などの三次元的欠陥を検査することが可能な三次元表面検査装置の提供。
【解決手段】計測対象物Ｘを撮影するカメラ装置３と、曲面状に配設されて計測対象物を覆うフィルタ膜と、フィルタ膜の曲面状に沿って周期的な強度分布を持つ曲面状強度分布のパターン光を投影し、フィルタ膜を介して計測対象物に投影する曲面パターン光投影手段５と、カメラ装置３により撮影された画像に対し、曲面状強度分布を直線状強度分布に変換するデコード処理を行うことで、計測対象物の表面の三次元的欠陥を検出する欠陥検出手段１３とを含む。 （もっと読む）

【課題】透過率が高い導電性透明電極パターンや微細な金属配線のパターンを、インライン検査で行うための検査システムを提供する。
【解決手段】検査ワーク１１を第１の方向Ｘに搬送するワーク搬送装置２０と、検査ワーク上に形成されたパターンの光学情報を取得する撮像装置３０と、第１の方向と直交する第２の方向Ｙに撮像装置を移動させる移動装置４０と、ワーク搬送装置、撮像装置及び移動装置を制御するとともに、光学情報に基づいてパターンを検査する制御部５０と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ケーラー照明系を用いたより安価な検査用照明装置を提供する。
【解決手段】検査用照明装置１０は、光源部２０と、光源部２０から発せられた光を平行光に変換するコリメータレンズ３０と、コリメータレンズ３０を通過した光を被検物体Ｗに向けて集光するためのフレネルコンデンサレンズ４０と、コリメータレンズ３０とフレネルコンデンサレンズ４０の間に配置されたシグマ絞り５０と、を備える。シグマ絞り５０とフレネルコンデンサレンズ４０の間には、アポダイジングフィルタ７０が設置されている。 （もっと読む）

【課題】 ウェハを検査する際の下地の影響を低減させた検査装置を提供する。
【解決手段】 検査装置１は、複数種の波長を有する照明光でウェハを照明する照明部３０と、照明光により照明されたウェハを撮影する撮影部４０と、複数種の波長毎に所定の重み付けを行って撮影部４０により撮影されたウェハの検査用撮影像を生成するとともに、生成した検査用撮影像に基づいてウェハにおける欠陥の有無を判定する画像処理部２７とを備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】位相欠陥と表面異物とを識別できるＥＵＶマスク検査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るＥＵＶマスク検査装置は、ＥＵＶ光を出射するＥＵＶ光源１００ａと、ＥＵＶ光を伝播する第１多層膜楕円面鏡１０３ａ、第２多層膜楕円面鏡１０３ｂ、落とし込みＥＵＶミラー１０５を含む光学系と、ＥＵＶ光の光軸と同軸に導入され、光学系で伝播される紫外光を出射するＡｒＦエキシマレーザ１００ｄとを備える。紫外光は、ＥＵＶ光の光軸上に挿入された振り込みミラー１１３により反射され、ＥＵＶ光と同軸に導入される。 （もっと読む）

【課題】
表面の異物や傷欠陥だけでなく基板の局所的な厚さの変化による欠陥まで検出することを可能にする。
【解決手段】
ガラス基板検査装置を、ガラス基板を透過した光を検出する第１の欠陥検出光学系と、ガラス基板を透過した光によりガラス基板の表面又は内部で発生した散乱光を検出する第２の欠陥検出光学系と、第１の検出光学系で検出した信号と第２の検出光学系で検出した信号とを処理する信号処理手段とを備えて構成し、信号処理手段は、第１の検出光学系手段からの検出信号を入力して処理することによりガラス基板の局所的な厚さの変化に起因する欠陥を検出し、第２の検出光学系手段からの検出信号を入力して処理することによりガラス基板の欠陥を検出するように構成した。 （もっと読む）

【目的】インテグレータレンズによって形成される複数の集光点に起因した光学素子の劣化を回避可能な検査装置を提供することを目的とする。
【構成】パターン検査装置１００は、レーザ光を発生する光源１０３と、レーザ光を入射し、入射されたレーザ光を分割して光源群を形成するインテグレータレンズ２０６と、インテグレータレンズの入射面の手前に配置され、インテグレータレンズに入射するレーザ光を散乱させる散乱板２０４と、インテグレータレンズを通過したレーザ光を照明光として用いて、複数の図形パターンが形成された被検査試料におけるパターンの欠陥を検査する検査部１５０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】受光部のフォーカス調整を容易に行う。
【解決手段】画像取得装置は、ガラス基板９上における線状の撮像領域を撮像する撮像ユニット２と、ガラス基板９を撮像領域と交差する方向に移動する移動機構とを備える。撮像ユニット２は、光照射部２１および受光部２３を有し、光照射部２１により撮像領域に光が照射され、撮像領域からの光が受光部２３のラインセンサへと導かれる。画像取得装置では、受光部回動機構が受光部２３を回転することにより受光部２３の光軸Ｊ２とガラス基板９の法線Ｎとのなす検出角θ２が変更される。撮像ユニット２は、光軸Ｊ２に沿って受光部２３を移動する受光部移動機構をさらに備え、検出角θ２の変位量に基づいて受光部移動機構を制御することにより、光軸Ｊ２上においてラインセンサの受光面と共役な位置Ｐがガラス基板９の表面に配置される。これにより、受光部２３のフォーカス調整が容易に行われる。 （もっと読む）

【課題】十分な検査速度を確保しつつ、卵の全周面の透過光画像を確実に撮影して卵の品質を検査することができる卵検査装置を提供する。
【解決手段】検査対象の卵４を搬送方向に沿って列状に搬送する搬送装置１と、搬送装置上の撮影領域内に設定した複数の撮影位置で卵４の検査画像を撮影する撮像装置３を備え、搬送装置１は、卵４が鋭端部と鈍端部との間の卵軸廻りに回転しながら各撮影位置の間を転動する搬送軌道５と、搬送軌道上の卵４を搬送方向後方から押す支持部材７と、支持部材を搬送方向に沿って移動させる支持部材駆動部を有し、搬送軌道５は、検査画像を撮影する撮影位置の相互間の区間軌道長が、支持部材間に相当する卵の搬送ピッチよりも長く、かつ卵の卵軸廻りの全周角を前記撮影位置の数で除した区分角度の整数倍の回転角度に卵を回転させるのに必要な長さを有する。 （もっと読む）

【課題】ウエハの構造や欠陥がばらついて適切な波長が変化しても欠陥を精度よく検出でき、かつ、スループットが速いパターン検査装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、パターン検出装置は、光を発生する光源と、前記光をラインビームに整形してウエハ上に照射する集光器とを備える。さらに、前記装置は、前記ウエハで反射した前記ラインビームを分光する分光器を備える。さらに、前記装置は、前記分光器により分光された前記ラインビームを検出し、前記ラインビームのスペクトル情報を保持する信号を出力する二次元検出器を備える。さらに、前記装置は、前記ウエハ上の繰り返しパターンの対応箇所から得られた前記スペクトル情報を比較する比較部と、前記スペクトル情報の比較結果に基づいて、前記ウエハの欠陥の有無を判定する判定部とを備える。 （もっと読む）

【課題】
表面検査装置では、より粒径の小さいＰＳＬを使用することで、より小さい欠陥を検査することが可能となる。しかし、ＰＳＬの粒径は、有限である。このことから、従来の表面検査装置では、近い将来に半導体製造工程の検査で必要となるＰＳＬに設定の無いほど小さい粒径の欠陥をどのように検査するかということに関しては配慮がなされていなかった。
【解決手段】
本発明は、被検査物体で散乱，回折、または反射された光の、波長，光量，光量の時間変化、および偏光の少なくとも１つを模擬した光を発生する光源装置を有し、前記光を表面検査装置の光検出器に入射させるより微小な欠陥を検査することができる。 （もっと読む）

【課題】連続的に走行するシートに発生するキズ欠点を高精度に検査できる検査装置を提供する。
【解決手段】ライン状光線を照射する光照射手段と、前記ライン状光線の一部を受光する受光手段と、前記受光手段で受光した信号に応じてキズ欠点を検出する画像処理手段とを備え、かつ、前記光照射手段と前記受光手段とを同時に、シートと平行を維持した状態で回転させる回転手段を設けることを特徴とするシートにおけるキズ欠点検査装置、とすることにより、連続的に走行するシートに発生する欠点を高精度に検出することができる。 （もっと読む）