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Fターム[2H025BB10]の内容

フォトレジストの材料 (104,520) | 無機系感光材料 (50) | Siを含有するもの (11)

Fターム[2H025BB10]に分類される特許

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【課題】 本発明は、比較的高い塗膜強度と比較的低い比誘電率を有し、さらには表面平坦性や耐クラック性などに優れたシリカ系塗膜にパターニングを施す方法および該方法から得られるシリカ系塗膜に関する。
【解決手段】 パターニング特性を備えたシリカ系塗膜をパターニングする方法であって、(1)特定のシリカ系塗膜形成用塗布液を基板上に塗布する工程、(2)前記工程で基板上に形成された塗膜を乾燥する工程、(3)前記工程で乾燥された塗膜上にパターニング用マスクを載置する工程、(4)前記工程でマスキングされた塗膜上に紫外線を照射する工程、(5)前記工程で紫外線を照射された塗膜を加熱する工程、(6)前記工程で加熱された塗膜を現像液に浸漬する工程、および(7)前記工程で現像液に浸漬された塗膜を洗浄する工程を含むことを特徴とするシリカ系塗膜のパターニング方法および該方法から得られるシリカ系塗膜。 (もっと読む)


【課題】感光性樹脂組成物層を形成し、該感光性樹脂組成物層を部分的に露光した後に、現像を行うことなく、表面に凹凸パターンが形成されたパターン膜を得ることを可能とするパターン膜の製造方法を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物からなる所定の厚みの感光性樹脂組成物層1を形成する工程と、感光性樹脂組成物層1が光の照射された露光部1aと、光の照射されていない未露光部1bとを有するように、感光性樹脂組成物層1を部分的に露光する工程と、露光後、現像を行わずに、未露光部1bの厚みが露光部1aの厚みよりも相対的に薄くなるように、未露光部1b及び露光部1aの感光性樹脂組成物層1を焼成する工程とを備える、パターン膜1Aの製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ハンダリフロー工程を必要とする固体撮像素子や電子部品一体型製品の製造用として有用な260℃リフロー耐熱性を有し、またそれ以外の密着性、伸度、耐温度衝撃性にも、優れた特性を有する感光性透明樹脂を用いたマイクロプラスチックレンズ又は液晶偏光板用光学素子を提供する。
【解決手段】特定の組合せの3元素からなる有機シランを含む化合物を、触媒存在下で40℃〜150℃以下の温度で0.1〜10時間重縮合して得られる樹脂を含有する感光性樹脂組成物、及びこれを用いたマイクロプラスチックレンズ又は液晶偏光板用光学素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】例えば500℃以上の非常に高い温度で熱処理することなく、アルコキシシランの縮合物の架橋効率を十分に高めることができ、かつ電気的絶縁性能に優れた薄膜パターンを得ることができる感光性樹脂組成物、及びこれを用いた薄膜パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】アルコキシシランの縮合物と、波長Aの光線の照射により活性化され酸または塩基を発生する第1の光酸または塩基発生剤と、波長Aと異なる波長Bの光線の照射により活性化され酸または塩基を発生する第2の光酸または塩基発生剤とを含有する感光性樹脂組成物、及びこれを用いた薄膜パターンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】高精度で、且つ電子線照射時間を短縮し製造効率の高い3次元モールドの製造方法の提供。
【解決手段】基体上にオルガノポリシロキサンで構成されるレジスト層を有する被加工体の該レジスト層に電子線を照射する照射工程と、電子線を照射した後のレジスト層を現像してレジスト層に凹凸部を形成する現像工程と、を有し、前記照射工程では、1次電子は前記基板に到達せず且つ2次電子は前記基板に到達するような加速電圧で照射する工程を含むことを特徴する3次元モールドの製造方法。 (もっと読む)


【課題】大型かつ高価な真空設備を必要とすることなく成膜することができ、かつ絶縁特性に優れておりかつパターニング化した膜を形成することができるシリコン含有感光性組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機EL素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】下記式(1)で表される4個の加水分解性基を有する少なくとも1種のシラン化合物(A)を重合して得られたシリコン含有ポリマーと、光線もしくは放射線の照射により酸または塩基を発生する化合物とを含有する、シリコン含有感光性組成物。
Si(Z)・・・式(1)
上記式(1)中、Zは加水分解性基を表す。複数のZは同一であってもよく異なっていてもよい。 (もっと読む)


【課題】感光性を有し、架橋剤を用いることなく現像が可能であり、かつ貯蔵安定性に優れているシリコン含有感光性組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機EL素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】SiH基を有する少なくとも1種のシリコン含有ポリマーと、光線もしくは放射線の照射により酸または塩基を発生する化合物とを含有し、シリコン含有ポリマーが、3個の加水分解性基を有する少なくとも1種のシラン化合物(A)と、1個又は2個の加水分解性基を有する少なくとも1種のシラン化合物(B)とを重合して得られたポリマーからなり、シラン化合物(A)及びシラン化合物(B)のうち少なくとも一方が、SiH基を有するシラン化合物を含む、シリコン含有感光性組成物。 (もっと読む)


【課題】物体の形状や塗布後の硬化システムにより多少の照射ムラや一定範囲以内の照射不足の問題が残っていても有機無機触媒で遷移金属酸化物との複合感光組成物とすることで樹脂の硬化に効果的な波長の照射、又はエネルギーを与えていれば硬化ムラがなくなり安定した硬化品質の皮膜を提供する。
【解決手段】感光性樹脂の極性基がエステル基、アミド基、カルボキシル基などを有する組成物に有機無機触媒で遷移金属酸化物を有する複合感光組成物。 (もっと読む)


【課題】 短時間で露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 ランプ9aは、光源21aを有し、光源21aの上部にはコールドフィルタ23が設けられている。
また、光源21aの周囲には反射板25a、25bが設けられている。
コールドフィルタ23と反射板25a、25bの間には排熱口27a、27bが設けられており、反射板25a、25bの間には排熱口29が設けられている。 なおランプ9aは、露光装置の内部に設けられている。
ランプ9aに反射板25a、25bを設けることにより、光源21aの側面や下面に照射された紫外線39a、39eも光源21aの上面に照射されるため、基板に照射される紫外線量を増やすことができる。 (もっと読む)


【課題】フォトレジストパターン形成工程、およびエッチング工程を不要とし、簡素な工程で、大規模な設備、真空装置あるいは高エネルギー光源などの特別な装置を準備しなくても所望のパターンニングを容易に達成できる、実用性の高い撥水親水表面を有する基材の提供。
【解決手段】基材に、ケイ素原子に結合した水素原子が存在する撥水表面を形成する工程(1)、つぎに、工程(1)で形成した撥水表面の所望領域を、光照射によって塩基を発生する光塩基発生剤(B)と水との存在下に光照射して、該所望領域の撥水表面のケイ素原子に結合した水素原子を水酸基に変換することにより、ケイ素原子に結合した水酸基が存在する親水表面を形成させる工程(2)を順に行うことを特徴とする撥水親水表面を有する基材の製造方法。 (もっと読む)


フォトパターン形成性塗布材料がこれまでに用いられなかった波長で半導体素子構造体の形成に用いられことを可能とするキャップ層。該フォトパターン形成性塗布材料を半導体基板へ層として塗布する。該キャップ層及びフォトレジスト層がそれぞれ該フォトパターン形成性層上に形成される。該キャップ層は放射線を吸収または反射し、そして該フォトパターン形成性層を該フォトレジスト層のパターン化に用いられた第1波長の放射線から保護する。該フォトパターン形成性塗布材料は第2波長の放射線に露光されると二酸化ケイ素系材料へ変換される。 (もっと読む)


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