【課題】オゾンなどの活性種と反応しやすいガスをペリクル膜の内側とフォトマスクプレート上の空間内で極力共存させないために、フォトマスクの保管時、搬送時に使用される粘着テープを提供することを課題とする。
【解決手段】基材フィルム上の片面に粘着層を有する粘着テープであって、該粘着層の一部に金属材料もしくは無機材料からなる不活性材料層を備えることを特徴とする粘着テープとした。また、フォトマスクが内蔵されたフォトマスクケースであって、フォトマスクケースが複数の部材を有し、フォトマスクケース内部にフォトマスクが内蔵されており、且つ、複数の部材が嵌め合わされているフォトマスクケースの接続部が本発明の粘着テープで固定されており、さらに、フォトマスクケースの接続部が前記粘着テープの粘着層と接触せず、粘着テープの不活性材料層と接触するように固定されていることを特徴とするフォトマスクケースとした。 （もっと読む）

【課題】熱光線の波長にかかわらず、確実に吸光して局所加熱可能な表面処理方法を提供する。
【解決手段】黒系色の吸光膜９３を被処理物９０の外周部（処理すべき部位）に被膜する。照射手段３３からの熱光線３５を被処理物９０の吸光膜被膜部位の一箇所Ｐ１に局所照射するとともに、噴出部４３からオゾン（処理ガス）を局所照射箇所Ｐ１に噴き付け、吸引部５４にて局所照射箇所Ｐ１の近傍のガスを局所的に吸引する。 （もっと読む）

【課題】 粘着剤を用いて形成した粘着剤層を対象物に貼り付けるときに気泡が入らず、さらに剥がすときには粘着剤が残らない粘着剤層を形成することのできる粘着剤及び該粘着剤を含有してなる表面保護シートであって特にフォトマスク表面を保護するのに好適な表面保護粘着シートの提供。
【解決手段】 ＧＰＣ法によるポリスチレン換算分子量として測定される重量平均分子量が１００万〜２００万であるアクリル酸エステル系樹脂と、架橋剤とを含有してなる粘着剤であって、
粘着剤を酢酸エチル中に２３℃にて２４時間浸漬した後、酢酸エチルから取り出して、１１０℃にて１時間乾燥させたとき、下記の式で表されるゲル分率（Ｙ）が０〜３０重量％であることを特徴とする粘着剤およびこれを用いた表面保護粘着シートによる。
Ｙ＝１００×Ｗ２／Ｗ１
（式中、Ｗ１は乾燥前の粘着剤の重量、Ｗ２は乾燥後の粘着剤の重量を意味する） （もっと読む）

【課題】 キャラクタープロジェクション法において、パターンを変更したい場合や、一部のセルに不具合がある場合等に対応が可能な露光用転写マスク、およびパターン交換方法を提供すること。
【解決手段】 露光用転写マスク１０において、マスク部１１は、一または複数のセルを有する一または複数のブロック１４と、ブロック１４を支持する支持部１８と、ブロック１４と支持部１８とを接着し、かつ除去可能な接着部材１６とを有し、支持部１８の各々は、ブロック１４を位置決めし、接着部材１６によりブロック１４が接着されるストッパ部１５と、該ストッパ部１５を支持し、ブロック１４の一部と重なるように設けられた梁部１７とを有し、ブロック１４は、接着部材１６を除去することにより除去され、新たなブロックに交換可能であり、接着部材はカーボンを含有する。 （もっと読む）

【課題】簡素化されたグレイスケールマスクおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明にかかるグレイスケールマスクは、レチクルプレートと、該レチクルプレートに形成されたＳｉＯ_ｘＮ_ｙ層と、該ＳｉＯ_ＸＮ_Ｙ層に形成されたＳＲＯとを含み、該ＳＲＯは、該ＳｉＯ_ＸＮ_Ｙ層に向って凸をなす球面からなるマイクロレンズ形状を有することを特徴とする。前記マクロレンズ形状をアレイをなしていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】感光体を立体的に露光可能で、露光可能な面の制約が少ないフォトマスクを提供する、このフォトマスクを用いた感光体の露光方法を提供する。
【解決手段】フォトマスクについては、露光ビームＢの透過領域５ａ及び非透過領域５ｂを有するマスク本体２と、当該マスク本体２の片面に設けられた反射構造体３を備える構造とする。露光方法については、反射構造体３にて反射された露光ビームＢを基板２１の表面と角度をなす面に導くという構成にする。 （もっと読む）

【課題】ゴム状弾性体を用いて近接場露光マスクを製造するに際し、マスク表面の歪みの発生を抑制することができ、平坦なマスクの形成が可能となる近接場露光マスクの製造方法、近接場露光方法及び近接場露光装置を提供する。
【解決手段】近接場露光マスクの製造に際し、
第１の基板を準備する工程と、前記第１の基板に剥離層を形成する剥離層形成工程と、前記剥離層上に照明光を遮光する遮光層を形成する遮光層形成工程と、前記遮光層に前記照明光の波長よりも短い幅を有する開口を形成する開口形成工程と、
前記開口が形成された遮光層上に前記照明光に対して透明なゴム状弾性体によるマスク母材を形成するマスク母材形成工程と、前記マスク母材上に前記照明光に対して透明な第２の基板を接合する第２基板接合工程と、
前記剥離層を介して前記遮光層から前記第１の基板を剥離する第１基板剥離工程と、を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクのたわみによるパターニングの精度悪化を抑制する。
【解決手段】重ね合わせた複数枚のガラス板と、少なくとも一枚のガラス板によって保持されるパターン形成層とを備えるパターニング用ガラスマスク。 （もっと読む）

【課題】検査用マスクを作製せずに破壊的検査を行うことや、非破壊検査をより正確に行うことが可能となるマスクおよびその検査方法を提供する。
【解決手段】露光用ビームの透過部と非透過部を所定のパターンで有する露光用薄膜２と、露光用薄膜の周囲に形成された、露光用薄膜を支持する厚膜部分３と、露光用ビームの透過部と非透過部を有し、露光用薄膜より面積が大きく、撓みが大きく、厚膜部分の一部に露光用薄膜と隔てて形成された検査用薄膜４とを有するマスクとし、また、この検査用薄膜を用いて検査を行う。 （もっと読む）

【課題】透明基板の両面にパターンを有する両面マスクの作製方法において、透明基板の一方の面に形成されたパターンを保護するための保護層を設けた両面マスクの作製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】透明基板１１の一方の面にメインパターン２１ａを形成し、透明基板１１の他方の面に遮光層２２及びレジスト層３２を形成し、パターン描画してパターン潜像が形成されたレジスト層３２ａを形成した後に透明基板１１の一方の面に保護層４３を形成し、透明基板１１の他方の面の遮光層２２をパターニング処理して、保護層４３を除去し、透明基板１１の一方の面にメインパターン２１ａが、他方の面にパターン２２ａが形成された両面マスク１００を作製する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、面積１０００ｃｍ^２以上のペリクルにおいて、ホットメルト材を用いたマスク粘着材の条件を特定することにより、フレームを全周にわたって均一にマスクに貼り付けることのできる大型ペリクルを提供することを目的としている。
【解決手段】 本発明に係る大型ペリクルの代表的な構成は、フレームをマスクに貼り付けるためのマスク粘着材が常温で粘着性を有するホットメルト材であって、フレーム底面に塗布されるホットメルトの各断面の最大幅をｃ、フレーム底面幅をｃ０、ホットメルトの高さをｂとすると、ｃ０≧ｃ≧ｃ０×０．５、または２≦ｃ／ｂ≦１０を満たす形状で設けていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 パターン形成層との間に隙間が生じるのを抑制して高精細のパターンを形成することができ、コストを削減できる電子線照射用パターンマスクを提供する。
【解決手段】 基材１上のパターン形成層２に接触するマスク基材１０と、マスク基材１０に形成される複数の電子線遮蔽領域１１と、マスク基材１０に形成される複数の電子線透過領域１２と、パターン形成層２に接触する電子線遮蔽領域１１の接触度を高める複数の微粘着層１４とを備える。微粘着層１４の微粘着効果により、パターン形成層２に電子線遮蔽領域１１が密着するので、汎用型の安価な電子線照射装置を使用しても、電子線を遮蔽する領域に電子線が斜め方向から入射することがなく、高精細、高解像度のパターニングが期待できる。 （もっと読む）