【課題】本発明は、ガラス板の破損発生率を低減できるガラス板研磨装置の監視方法及び監視システムを提供する。
【解決手段】搬出部３６におけるガラス板Ｇの破損を低減させるために、実施の形態では、画像処理部３４で算出された実面積が基準面積となるように、液体塗布部１４でのグリセリンの塗布量を、グリセリン制御部４２によって制御する。すなわち、液体塗布部１４において塗布されたグリセリンによる吸着部分が、剥離部２２によって剥離された際に基準面積と略等しくなるように、グリセリンの塗布量をグリセリン制御部４２によって制御する。例えば、ガラス板Ｇの非研磨面の全てを吸着シート１２に吸着させるのではなく、吸着部分と非吸着部分を備えるとともに、前記吸着部分を所定のエリアに分割するように、グリセリン制御部４２によってグリセリンの塗布量を制御する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フロート法によって製造されたガラス板を、ＦＰＤ用ガラス基板として最適なガラス板に研磨するガラス板の研磨方法を提供する。
【解決手段】本発明は、フロート法により製造されたガラス板Ｇであって、厚さが０．７ｍｍ以下であり、１辺の長さが１０００ｍｍ以上、ヤング率が６５ＧＰａ以上のガラス板Ｇを研磨対象とする。このガラス板Ｇの非研磨面をガラス保持部材１６によって保持し、ガラス板Ｇの研磨面にある高さ０．３μｍ以下のうねりを研磨具２６によって研磨することにより０．０５μｍ以下に低減させてフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を製造する。研磨具２６は、Ａ硬度が２０以上、Ｄ硬度が９９以下、厚さが１．０〜２．５ｍｍ、厚さ分布が±０．０５ｍｍ以内であることが好ましい。また、ガラス保持部材１６は、圧縮率が１０〜７０％、圧縮弾性率が７０〜９８、Ａ硬度が２〜２０、厚さが０．３〜２．０ｍｍ、厚さ分布が±０．０５ｍｍ以内であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、被研磨物の研磨面に研磨パッドの溝が転写することにより発生する研磨痕を緩和することができる研磨装置を提供する。
【解決手段】本発明の研磨装置１０は、送りテーブル１４を搬送しながら、研磨パッド１６を公転（及び／又は自転）させるとともに被研磨物１２をその中心に回転させて被研磨物１２の研磨面を多数の研磨パッド１６、１６…によって連続的に研磨する。この研磨装置１０によれば、被研磨物１２を回転させたので、研磨パッド１６の溝１７は、被研磨物１２の研磨面に無作為に当たるようになる。これによって、従来の研磨装置で発生する研磨痕を緩和することができる。 （もっと読む）

【課題】研磨具から被研磨材に作用する負荷を相殺し、装置の振動を低減して、研磨装置の大型化を容易にする。
【解決手段】ガラス板を一方向に移送する研磨テーブルと、該研磨テーブルの上方にガラス板の移送方向に沿って配置された複数の研磨具とを有し、各研磨具は該研磨具の質量中心から偏心した偏心軸を有し、該研磨具上に平行でない２本の軸をとったとき、この２本の軸が常にそれぞれ同じ方向を向くように前記ガラス板に対して一定の姿勢を維持したまま前記偏心軸の回りを回転する偏心回転運動を行い、かつ隣り合う少なくとも３つ以上の研磨具を１つのセットとして、該セットを構成する研磨具により発生する反力を互いに打ち消し合うように、該セットを構成する各研磨具の回転位相差を設定したことを特徴とするガラス板の連続研磨装置を提供することにより前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】平面度、平行度の良好なガラス薄板を、生産能率を低下させることなく製造することができるガラス薄板の製造方法を提供すること。
【解決手段】剛性基板の両面にそれぞれ吸着パッドを貼設して成るダミー板５を準備する準備工程と、ダミー板５の両面の吸着パッドにそれぞれガラス板６を吸着させて取り付ける取付け工程と、ダミー板５に取り付けた一対のガラス板６を、キャリヤ７のワーク保持孔７１内で保持して両面研磨機の上定盤１と下定盤２との間に挟み、上定盤１及び下定盤２と一対のガラス板６とを相対移動させて各ガラス板６の定盤側の片面６１を研磨する研磨工程と、片面を研磨した一対のガラス板６をダミー板５から取り外して一対のガラス薄板を得る取外し工程と、からガラス薄板の製造方法を構成した。 （もっと読む）

【課題】本発明は、最大板厚偏差に優れるガラス基板を研削するガラス基板の研削方法と、該研削方法を用いた工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、ガラス基板を研削する前の両面研削装置の上定盤の研削面と下定盤の研削面の形状を、内周端における上定盤の研削面と下定盤の研削面との差をＤｉｎとし、外周端における上定盤の研削面と下定盤の研削面との差をＤｏｕｔとしたとき、ＤｏｕｔからＤｉｎを引いたΔＤ（＝Ｄｏｕｔ−Ｄｉｎ）が−３０μｍ〜＋３０μｍとしたことを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラス基板の研削加工に適した研削面を維持しながらガラス基板を研削加工する、生産性に優れたガラス基板の研削方法及び該研削方法を用いたガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】板形状を有するガラス基板の形状付与工程と、前記ガラス基板を回転しながら主平面を研削する研削工程と、前記主平面の研磨工程と、前記ガラス基板の洗浄工程と、を有するガラス基板の製造方法において、前記研削工程はガラス基板の両主平面を同時に研削するものであり、両面研削装置の上定盤とキャリアとの相対回転方向と、下定盤とキャリアとの相対回転方向を所定の基準に従って決定することにより、生産性に優れたガラス基板の研削方法及びガラス基板の製造方法と板厚特性に優れたガラス基板を提供できる。 （もっと読む）

【課題】作業効率および作業精度を高めるとともに、発泡系断熱材を切削したときの切り屑を簡単に処分することができる切削装置を提供することを課題とする。
【解決手段】一対の枠部材の間に吹き付けられて膨張した発泡系断熱材の表面を切削するための切削装置１０であって、開口部２１が形成されるとともに、内部空間に通じる吸気孔２２が形成されたカバー部材２０と、カバー部材２０内に取り付けられた基軸部材３０，３０と、基軸部材３０，３０の外周面に設けられ、枠部材の表面よりも柔軟な切削部材４０と、基軸部材３０，３０を軸回りに回転させる駆動機構と、を備え、カバー部材２０の開口部２１を発泡系断熱材の表面に対向させ、基軸部材３０，３０を回転させることで、切削部材４０によって発泡系断熱材の表面が切削される。 （もっと読む）

【課題】研削面の平坦度が劣化し難く、マスクブランク用基板の被研削面の全面を均等に研削できるマスクブランク用基板の研削装置等を提供する。
【解決手段】マスクブランク用基板の研削装置１００は、砥粒が固定された固定砥粒部を備え、オービタル運動を行う上定盤１４０及び下定盤１７０と、ダイヤモンドシート１５５、１６５に基板１６０を接触させつつ保持するキャリア１５０と、を具備し、上定盤１４０及び下定盤１７０がオービタル運動をしている間に、ダイヤモンドシート１５５における基板１６０との接触面の全面と、ダイヤモンドシート１６５における基板１６０との接触面の全面とがそれぞれ、基板１６０に接触する。 （もっと読む）

【課題】フロートガラスの大型化に伴う研磨システムの大型化によって生じる、回転する上定盤の半径位置毎の線速度の差による上定盤の半径位置毎の研磨量のバラツキを最小化することで、全体的な研磨平坦度を改善させることができるフロートガラス研磨システム及びその方法を提供すること。
【解決手段】加工対象であるフロートガラスを回転させる下部ユニット、フロートガラスに接触して回転し得るヘッド組立体１２０、及びヘッド組立体１２０を水平方向に移動させるための移動ユニットを備えるフロートガラス研磨システムにおいて、ヘッド組立体１２０は独立的に回転可能な少なくとも２つ以上のヘッドＨを備える。 （もっと読む）

【課題】研磨ヘッド４０に面ダレが起こり、研磨液の供給量が両端部に多くても、カラーフィルタ１の周縁部にて過研磨の状態になら枚葉研磨機を提供する。
【解決手段】カラーフィルタを水平搬送しながら、その上面に矩形の研磨ヘッドを加圧し公転させて研磨を行う枚葉研磨機にて、進行方向と直角な幅方向に、複数の研磨液滴下ノズル１１を有し、各々の研磨液滴下ノズルは任意な濃度の研磨液を滴下する。複数の研磨液滴下ノズルは、各々のチューブポンプ５０及び各々の研磨液タンクを有し、各々の研磨液滴下ノズルが、任意な濃度の研磨液を、任意な量の滴下をする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の研磨精度を向上させる研磨装置等の提供。
【解決手段】上定盤４０を駆動するモーターと、下定盤３０を駆動するモーターと、下定盤３０の内周の内側に設けられたサンギアを駆動するモーターと、下定盤３０の外周の外側に設けられたインターナルギアを駆動するモーターと、これらのモーターを制御する制御部９０とを備え、制御部９０が、これらのモーターの駆動を制御することによってガラス基板を研磨する研磨装置であって、制御部９０が、これらのモーターの駆動に必要な電力または電力量に基づいて、ガラス基板の研磨を調整することを特徴とする、研磨装置とそれを用いたガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】砥石ローラの砥石径をできる限り小さくして、接触抵抗を小さくでき、砥石ローラの撓みを防止できる研磨設備を提供する。
【解決手段】板状の被加工物１を支持搬送するコンベヤ装置１１を設け、コンベヤ装置による搬送経路１０中に研磨ゾーン２０を形成するとともに、研磨ゾーンに研磨装置２１を配設した。研磨装置を、搬送経路の方向の複数箇所に設けた砥石ローラ２２と、各砥石ローラに上方から当接するバックアップローラ３５から構成した。研磨作用している砥石ローラが上方に撓もうとすることを、砥石ローラに上方から当接しているバックアップローラによって阻止でき、砥石ローラの径を小さくしながらも、常に均一な研磨を安定して行える。砥石ローラの径を小さくできることで、被加工物に対する砥石ローラの接触する円弧長さを短くでき、接触抵抗（接触圧力）を減少できて、研磨時における発熱を低く抑えることができ、研磨送り速度を速くできて研磨能率を向上できる。 （もっと読む）

【課題】フロートガラス研磨システム用下部ユニットに関し、フロートガラスが支持されたキャリアを下部ユニットから分離した後、コンベアーなどを用いてキャリアを後工程に移送することで、研磨工程で発生し得るフロートガラスのスクラッチを最小化する。
【解決手段】回転自在のターンテーブル１１２に設けられたサポート１１６、及び研磨対象であるフロートガラスＧを支持可能な支持部１１１と、前記支持部１１１との対向面に設けられ、前記サポート１１６に固定されて載置される載置部１１３とを含むキャリア１１８を備える。 （もっと読む）

【課題】従来技術によるフロートガラス研磨装置は、均一な力をフロートガラスに加えることができない。
【解決手段】フロートガラス研磨システムに関し、位置が固定された加工対象であるフロートガラスＧを回転させる下部ユニット１１０、フロートガラスＧに接触してフロートガラスＧの回転に伴って被動回転される上部ユニット１２０、及び上部ユニット１２０を水平または垂直方向に移動させるための移動ユニット１３０を備えるフロートガラス研磨システムであって、上部ユニット１２０は、移動ユニット１３０のスピンドル１２４に固定された固定プラッター１２１と、固定プラッター１２１に対して可動に設けられた研磨プラッター１２３と、フロートガラスＧに加えられる研磨プラッター１２３の圧力を均一に維持するため、固定プラッター１２１と研磨プラッター１２３間に介在された加圧部材１５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】光電変換効率を向上させることができる太陽電池を提供する。
【解決手段】ガラス基板の表面にP型半導体層およびN型半導体層を積層して構成した太陽電池であって、ガラス基板の表面には複数の凹凸が形成され表面積が増大されており、このガラス基板の表面にP型半導体層およびN型半導体層が積層されている。 （もっと読む）

【課題】反り及びチッピングが発生するのを抑制することができるとともに平坦度を向上させることができ、さらに洗浄回数を低減することができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】情報記録媒体用ガラス基板は、ガラス素板１１が形状加工１２により円盤状に形成された後、化学強化処理２２により化学強化される。次に洗浄処理１６により洗浄された後、ラップ研磨加工１５、第１研磨加工２０、第２研磨加工２１が施される。ラップ研磨加工１５等では、ガラス素板１１の主表面に形成された強化層２５の厚みの半分以上を除去すべく一対の定盤を用いてガラス素板１１の主表面を研磨する。 （もっと読む）

【課題】 ガラス強度を維持しながら基板厚さを薄くでき、且つ平坦性及び寸法精度の高い表示パネルを得ることができるとともに歩留まりを向上できる加工装置及び表示パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】 液晶を挟み込んだ一対のガラス基板２の面方向に直交する方向に溝を形成する溝入れ砥石２２と、一対のガラス基板２の一方及び他方の面を厚み方向に研削及び／又は研磨する表面研削用砥石２１とを備え、一対のガラス基板２のうち一方のガラス基板３から溝入れ砥石２２で、他方のガラス基板４にさしかかるまで切り込みを入れて溝Ｍを形成し、一方のガラス基板２の表面を表面研削用砥石２１で研削し、反転された一対のガラス基板２の他方のガラス基板４の表面を、少なくとも溝Ｍが形成された部分まで表面研削用砥石２１で研削する。 （もっと読む）

【課題】クーラント中に分散した研削屑や脱落砥粒を外部に効率良く排出することができ、砥石表面での目詰まりの発生を回避することのできる湿式研削装置を提供する。
【解決手段】本発明の湿式研削装置は、第１面を有し、第1方向に回転軸まわりに回転可能な、第１定盤、該第１定盤は該第１面に連通し、クーラントを供給可能な少なくとも１つの第１孔を有する；該第１面に対向する第２面を有し、該第１方向と反対向きの第２方向に該回転軸まわりに回転可能な、第２定盤；各々が略扇状を有し、円盤状に配置され、そして該第1面に取り付けられる、第１研削砥石セグメント；そして、各々が略扇状を有し、円盤状に配置され、そして該第２面に取り付けられる、第２研削砥石セグメント；を有し、各該２砥石セグメントには、該第１孔に対向する位置を含む該回転軸を中心とした円に沿って、該第２方向両端縁間に延設される、少なくとも１つの溝が形成される。 （もっと読む）

【課題】研磨、洗浄後の基板表面の研磨砥粒の残留を確実に防止し、高平滑な基板表面が安定的に得られるマスクブランク用基板、この基板を用いた反射型マスクブランク及び反射型マスクを提供する。
【解決手段】ガラス基板の表面に研磨パッドを接触させ、ガラス基板の表面に研磨砥粒を含む研磨液を供給し、ガラス基板と研磨パッドとを相対的に移動させてガラス基板の表面を研磨する研磨工程と、ガラス基板の表面を洗浄する洗浄工程とを有し、研磨砥粒はコロイダルシリカであって、研磨液のゼータ電位の極性と洗浄液のゼータ電位の極性とを一致させる。得られるマスクブランク用基板１上に多層反射膜２及び吸収体膜４を形成して反射型マスクブランク１０とし、この反射型マスクブランク１０における吸収体膜４をパターニングして吸収体パターンを形成して反射型マスク２０とする。 （もっと読む）