【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成できるポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】側鎖の末端に「−ＳＯ_２−を含む環式基」を含有する構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物（Ａ１）と、酸発生剤成分（Ｂ）と、フッ素原子を有していてもよい酸解離性溶解抑制基含有基を含み、かつ少なくとも１つのフッ素原子が含まれる構成単位（ｆ１）を有する含フッ素樹脂成分とを含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】製造法が簡便で、光硬化性に優れ、製膜時の硬化収縮が少なく、透明かつ高屈折率である重合体を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される中間体化合物、該中間化合物を含有する重合性組成物並びに該重合性組成物を重合させてなる重合体。（式（Ｉ）中、Ａ¹及びＡ²の少なくとも一方が、アルコール残基中にオキシアルキレン構造を含有する（メタ）アクリレート基、又はオキシアルキレン構造を含有する芳香族ビニル基の何れかの基を表す。）
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分散助剤の存在下、エネルギーを導入しながらグラファイト様ナノ粒子を連続液相に分散させる、グラファイト様ナノ粒子の分散方法であって、ブロックコポリマーに基づく分散助剤を使用し、ブロックコポリマーの少なくとも１つのブロックが、脂肪族鎖結合を介してブロックコポリマー主鎖に結合している芳香族側鎖を含有する、方法を記載する。 （もっと読む）

【課題】 光硬化物の除去性に優れた光ナノインプリントリソグラフィ用感光性樹脂組成
物、レジストパターンの形成方法、微細構造体及び光硬化物の除去方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）光重合性化合物及び（Ｂ）光重合開始剤を含有する光ナノインプリン
トリソグラフィ用感光性樹脂組成物であって、前記（Ｂ）光重合開始剤が、第一の活性光
線を照射した時に活性種を生じる化合物を含有し、前記（Ａ）光重合性化合物が、２以上
の重合性基と、第一の活性光線よりも波長の短い第二の活性光線を照射したときに切断さ
れる結合を含む特性基と、を分子内に有する化合物を含有する、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】配向性、耐熱性、成形加工性に優れた架橋性液晶フィルムの作成に必要である新規なオキセタン誘導体とそれを用いて得られる架橋可能な液晶性高分子を提供する。
【解決手段】
式（１）で表される化合物。


但し、式（１）中、Ｒ_１は水素またはメチル基を表し、Ｒ₂は水素、メチル基またはエチル基を表し、Ｌ_１およびＬ_２はそれぞれ個別に単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−のいずれかを表し、Ｍは式（２）、式（３）または式（４）を表し、ｎは同一でも異なってもよくそれぞれ０〜１０の整数を示す。
−Ｐ_１−Ｌ_３−Ｐ_２−Ｌ_４−Ｐ_３− （２）
−Ｐ_１−Ｌ_３−Ｐ_３− （３）
−Ｐ_３− （４）
（上記Ｐ_１〜Ｐ_３はフェニレン基その他の基から選ばれる基を表し、Ｌ_３およびＬ_４はそれぞれ個別に単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−を表す。） （もっと読む）

【課題】塗布法で膜を形成することができ、発光効率が高く、寿命が長く、特に高温駆動での寿命が長い有機デバイス、特に有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子、及びそれを実現する重合性単量体とその重合体、有機デバイス用材料、特に、発光材料、有機エレクトロルミネッセンス用材料を提供する。
【解決手段】一般式（１）に１以上の重合性官能基が置換された化合物である重合性単量体、前記単量体を繰り返し単位として有する重合体からなる有機デバイス用材料、発光材料、有機ＥＬ用材料、陽極、陰極、及び、該陽極と該陰極に挟持された少なくとも１層からなる有機化合物層を含んでなり、該有機化合物層が、前記重合体を含有する有機ＥＬ素子である。
Ａｒ₁Ａｒ₂Ｎ−Ｘ−（ＮＡｒ₃Ａｒ₄)_s （１）
（式中、Ａｒ₁〜Ａｒ₄は、アリール基、複素環基、又はアルキル基、Ｘは、縮合芳香族環基、又はスチリル基、ｓは０〜３の整数。） （もっと読む）

重合性樹脂組成物、及びそのような重合性樹脂組成物の反応生成物を含むマイクロ構造が説明される。このマイクロ構造は、少なくとも１．５６の屈折率を有する有機部分を含む重合性樹脂組成物の反応生成物を含み、この重合性樹脂組成物は、重合性紫外線吸収化合物を含む。 （もっと読む）

【課題】 樹脂の使用時あるいは成型加工時における熱分解温度を高めることにより樹脂の耐熱性を向上させ、かつ、イオウのような臭気発生へテロ元素を有しない樹脂用添加剤並びに当該樹脂用添加剤を含有する重合性組成物及び樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で示される化合物を含有する樹脂用添加剤。
【化１】


（一般式（１）において、Ｒ¹はアリル基、アラルキル基、アルキル基のいずれかを表し、Ｒ²は水素原子又はメチル基を表し、Ｘ及びＹは同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基のいずれかを表す。） （もっと読む）

【課題】光重合開始剤を必要とせず、且つ、焼却処理した時に硫黄原子や窒素原子由来の化合物を環境中に放出しない自己重合可能な光重合性化合物とその製造方法及び光重合性化合物を光照射により硬化した光硬化物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で示される自己光重合性化合物を提供する。


（一般式（１）において、Ｒ¹はアリル基、アラルキル基、アルキル基のいずれかを表し、Ｒ²は水素原子又はメチル基を表し、Ｘ及びＹは同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基のいずれかを表す。） （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れ、屈折率が高く光学特性に優れた樹脂を提供すること。
【解決手段】縮環構造骨格を有する特定のアルコール化合物、縮環構造含有（メタ）アクリレート樹脂、縮環構造含有ポリエステル樹脂、および、縮環構造含有ポリウレタン樹脂が提供される。 （もっと読む）

【解決手段】側鎖に、芳香族炭化水素基および三級炭素を含有する鎖状または環状のアルキル基を有する繰り返し単位を有する高分子化合物を含有するポジ型レジスト材料。
【効果】本発明の材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。また、マスク加工における、ＥＢ描画において、微細パターンの解像性、高感度で高加速電圧ＥＢ露光に相応しく、エッチング耐性に優れたポジ型レジスト材料を提供でき、マスク加工に極めて有用でもある。 （もっと読む）

【課題】広い波長域で一様の偏光変換が可能な新たな光学フィルムを提供する。
【解決手段】式（Ｉ）〜式（ＶＩ）で表されるモノマーからなる群から選ばれる１種以上のモノマー（１）に由来する構造単位と、脂環式炭化水素骨格を有するポリイソシアネート化合物及びポリオール化合物を反応させて得られる化合物（２）に由来する構造単位と、を有する樹脂を含む光学フィルム。 （もっと読む）

【課題】離型性、型再現性、基材への密着性に優れ、高屈折率でガラス転移点が高く、低粘度な樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ｏ−フェニルフェノールポリエトキシ（メタ）アクリレート（Ａ）を主成分とし、一般式（１）で表される化合物（Ｂ）、及び光重合開始剤（Ｃ）を含む光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物。


（Ｒ₁、Ｒ₂はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、ａ、ｂはそれぞれ１以上の数でありａ＋ｂが２〜４である。） （もっと読む）

【課題】スピロビインダン骨格を有する重合性液晶化合物及びこの化合物を含有する液晶組成物の提供。
【解決手段】式１で表される重合性液晶化合物。Ｇは単結合又は酸素であり；ＲはＨ、メチル又は式（ａ）で表される基であって、少なくとも２つのＲは式（ａ）で表される基であり；Ｐは重合性の基である。
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【課題】高いバリア性を有するガスバリア性積層体を提供する。
【解決手段】有機層と、該有機層の表面に設けられた無機層を有し、前記有機層は、トリフェニレン骨格と重合性基を有する化合物を含む重合性組成物を硬化させてなる、バリア性積層体。前記トリフェニレン骨格と重合性基を有する化合物は、トリフェニレン骨格と重合性基とが、芳香環を有する連結基を介して結合している、バリア性積層体。前記重合性基は、エチレン性二重結合性基または開環重合性基である、バリア性積層体。 （もっと読む）

【課題】超微細領域での、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足する電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定のオキシムスルホネート構造を有する繰り返し単位及び酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を有する繰り返し単位を有する樹脂を含有することを特徴とする電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】可撓性を有するとともに、ＴＦＴの性能安定性が高いトランジスタ基板及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供する。
【解決手段】少なくとも一方の面にガスバリア層２０が設けられたプラスチック基材１２と、前記プラスチック基材上に設けられ、ゲート電極４２、ゲート絶縁層３０、酸化物半導体又は有機半導体を含む活性層４４、ソース電極４６、及びドレイン電極４８を有する電界効果型薄膜トランジスタ４０と、を含み、前記ガスバリア層が、少なくとも１つの有機層２４と少なくとも１つの無機層２２，２６とが積層した構造を有し、且つ、前記ゲート絶縁層が、少なくとも１つの有機層３４と少なくとも１つの無機層３２，３６とが積層した構造を有することを特徴とするトランジスタ基板１０。 （もっと読む）

【課題】微細化された顔料の分散安定性に優れ、コントラストに優れた着色被膜を形成し得る顔料分散組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）下記一般式（Ｉ）及び（II）のいずれか１種を含む高分子化合物（式中、Ｒ１−Ｒ２；Ｈ等、Ｘ１−Ｘ２；−ＣＯ−等、Ｌ１−Ｌ２；連結基、n,m,p,q,は整数を示す）（ｂ）側鎖に複素環を有する高分子化合物で被覆された加工顔料、及び、（ｃ）有機溶剤を含有することを特徴とする顔料分散組成物。
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【課題】広波長域での偏光変換可能な光学フィルム用化合物の提供。
【解決手段】式（１）で表される化合物。




［ＥＷＧはニトロ基等；ｐ、ｑ、ｓ、ｔは０〜４の整数；Ｒ’、Ｒ”はアルキル基等；Ａ^１は、環状炭化水素基等；Ｂ^１〜Ｂ^３は−Ｃ≡Ｃ−等；ｎは１〜４；Ｅ^１はアルキレン基等；Ｐ^１及びＰ^２は、式（Ｐ−１）〜（Ｐ−５）。Ｒ^１〜Ｒ^５はアルキル基等。] （もっと読む）

【課題】セルロース誘導体に限られることなく、その他の材料（アクリル重合体、ポリシクロオレフィンなど）を用いた光学部材の製造が可能であるとともに、逆波長分散性を示しかつ当該分散性の制御の自由度が高い光学部材を実現できる製造方法を提供する。
【解決手段】複素芳香族基を有するα,β−不飽和単量体単位を構成単位として有する重合体(A)を含む、負の固有複屈折を有する樹脂(B)を、(I)正の固有複屈折を有する樹脂(C)からなる、可視光領域において波長が短くなるほど複屈折が大きくなる波長分散性を示す基体と積層した後に全体を延伸するか、または、(II)延伸体とした後に、正の固有複屈折を有する樹脂(C)からなる、正波長分散性を示す基体と積層する、ことにより、可視光領域において波長が短くなるほど複屈折が小さくなる波長分散性を示す、前記基体と前記樹脂(B)の延伸体との積層構造を有する光学部材を得る方法とする。 （もっと読む）