【課題】電圧の印加により光透過率が変化し、着色時の刺激純度が低い調光シート及び該調光シートを備える調光体を提供する。また、該調光シートを用いた合わせガラス用中間膜及び該合わせガラス用中間膜を備える合わせガラスを提供する。
【解決手段】エレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層と、支持電解質塩とエレクトロクロミック層の色調を補正する色調補正剤とを含有する色調補正電解質層とが積層されていることを特徴とする調光シート。 （もっと読む）

【課題】記録層の形態を安定的に維持でき、高い回折効率が達成されるホログラム記録材料及びホログラム記録媒体を提供する。
【解決手段】光ラジカル重合性化合物（Ａ）と光重合開始剤（Ｂ）と前記（Ａ）及び（Ｂ）を分散する分散媒（Ｃ）とを含むホログラム記録材料。前記化合物（Ａ）は、分子中に芳香環と（メタ）アクリロイル基とを有する。前記分散媒（Ｃ）は、一般式（Ｉ）（Ｒ₁₁：炭素数２〜４の２価の炭化水素基、Ｒ₁₂及びＲ₁₃：炭素数１〜１０の炭化水素基、ｋ、ｌ、ｍ及びｎは、互いに独立して０以上５以下の数）で表される化合物から選ばれる。
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【課題】螺旋誘起力が大きく、他の液晶化合物との溶解性に優れ、重合性を有する液晶性化合物及び重合体を提供する。
【解決手段】式（１）で表される化合物。この化合物を含有する液晶組成物、およびこの化合物または組成物を重合させることによって得られる重合体。


式（１）において、Ｑ^１〜Ｑ^４は独立して、式（２）、水素、ハロゲン、アルキルなどであり、Ｑ^１〜Ｑ^４の少なくとも２つはそれぞれ異なる基を表してもよい式（２）であり；式（２）において、Ａは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレンなどであり；Ｘは独立して、単結合、アルキレンなどであり；Ｚは、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−などであり；ｎは、０〜３の整数であり；Ｐは、３種類の重合性基である。 （もっと読む）

【課題】硬化した硬化物が比較的高い屈折率と十分な帯電防止能とを併せもつことができる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】分子中にフルオレン骨格及び複数の重合性不飽和二重結合を有する重合性フルオレン化合物と、周期律表１５族元素のうちの少なくとも１種、好ましくはリン、が金属酸化物にドープされてなる粒子状のドープ金属酸化物とを含む、さらに好ましくは、ドープされていない粒子状の周期律表４族金属原素の金属酸化物を含む、硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】 その硬化物が高屈折率であって、光学材料として利用可能な低粘度の新規（メタ）アクリル酸エステルとその樹脂組成物、及び硬化物を提供すること。
【解決手段】 本発明で提供される（メタ）アクリル酸エステルは、フルオレンに対しスピロ炭素で環状構造が結合したスピロ環化合物であり、フルオレンを含む平面とスピロ炭素に結合する環状構造内の原子を含む平面が異なる平面に存在することから結晶性を引き下げつつ高屈折率な重合性モノマーを供給できる。 （もっと読む）

【課題】エポキシ樹脂用硬化剤として用いられ、水系エポキシ樹脂に対する分散性に優れ、硬化物の信頼性を高めることのできるエポキシ樹脂硬化用微粒子及びエポキシ樹脂硬化用微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】表面に活性エネルギー線又は熱によって塩基が生成する基を有するエポキシ樹脂硬化用微粒子であって、水系媒体中で、下記一般式（１）で表される構造を有するモノマーを主成分とするラジカル重合性モノマーを重合させることによって得られるエポキシ樹脂硬化用微粒子。
［化１］


一般式（１）中、Ｘは水素原子又はメチル基を表し、Ａは活性エネルギー線又は熱によって塩基が生成する基を表す。 （もっと読む）

【課題】 硬化させることにより十分な硬度を有し且つ屈折率が比較的高い硬化物を得ることができるフルオレン化合物を提供することを課題とする。
【解決手段】 下記一般式（１）で表されることを特徴とするフルオレン化合物を提供する。


（式中、Ｊ、Ｊ’は、それぞれ独立して、脂肪族炭化水素又は芳香族炭化水素を含む２価〜４価の基を示し、酸素原子又は硫黄原子を有していてもよく、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄は、それぞれ独立してＨ又はＣＨ₃を示し、ｍ、ｎはそれぞれ独立して２〜４の整数であり、ａ、ｂは、それぞれ独立して１〜５の整数であり、ｐ、ｑは、それぞれ独立して１〜３の整数である。） （もっと読む）

【課題】環境に優しい炭素数３〜７のパーフルオロアルキル基を側鎖に有する、撥水撥油性に優れた含フッ素重合体の提供。
【解決手段】８０％以上の高いシンジオタクチシチィーを有する結晶性の含フッ素重合体、ならびにアニオン重合開始剤を用いる該重合体の製造方法。該重合体は、優れた撥水撥油性を有することから、紙、繊維、プラスチック等用の撥水撥油剤として広範な利用が期待し得る。 （もっと読む）

【課題】樹脂の使用時あるいは成型加工時における熱分解温度を高めることにより樹脂の耐熱性を向上させ、かつ、イオウのような臭気発生へテロ元素を有しない熱分解温度向上剤並びに当該熱分解向上剤を含有する重合性組成物及び樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アントラセン誘導体を側鎖に保持する特定のジ（メタ）アクリレート単量体からなる熱分解温度向上剤であり、熱分解温度向上剤及び重合性化合物からなる重合性組成物をを熱又は活性エネルギー線により重合させる。 （もっと読む）

【課題】低コストで良好なガスバリア性を示すガスバリア性フィルム、その製造方法及びガスバリア性フィルム又はガスバリア層を用いた装置の提供。
【解決手段】プラスチック基材と、プラスチック基材１上に設けられた有機層２と、有機層２上に設けられた無機層３とを有し、その有機層２を、水酸基を構造内に含まないアルキレンオキサイド変性フルオレンアクリレート、好ましくは一般式（１）で表される化合物を架橋してなる層とする（ｎ_１＋ｎ_２は１〜２０の整数であり、Ｒ_１，Ｒ_２は水素原子又はメチル基であり、Ｒ_３，Ｒ_４は水素原子、メチル基又はエチル基であり、Ｒ_５，Ｒ_６は水素原子、メチル基又はエチル基である。）。
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【課題】パターンの基板依存性が小さい化学増幅ポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示される含フッ素カルボン酸オニウム塩を繰り返し単位として有する高分子化合物。


［Ｒ¹は、重合性単量体における重合活性を与える基本骨格由来の構造を表す。但し、上記構造中の酸素原子から伸びる結合はＷ¹との結合を表す。Ｒ²は、フッ素原子又は含フッ素アルキル基を表し、Ｗ¹は、２価の有機基を表し、Ｑ⁺は、スルホニウムカチオン又はヨードニウムカチオンを示す。］ （もっと読む）

【課題】優れた水素吸着特性を有し、従来よりも軽量で大量生産が可能で且つ成型加工が容易な水素吸着材、吸蔵材、および水素吸蔵方法の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）


[式中、ｎは１０〜１００，０００の整数である。Ｒは置換基を有していてもよい環形成炭素数６〜１４のアリール基または環形成炭素数４〜７の複素環基を表す]
で表される置換アセチレン重合体からなる水素吸着材および同吸着材を用いる水素吸蔵方法である。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）高分子化合物又は高分子化合物の混合物による膜がアルカリ性現像液に不溶性であり、酸の作用により可溶性に変化する高分子化合物又は高分子化合物の混合物、
（Ｂ）酸発生剤、
（Ｃ）酸の作用を抑制するための塩基性化合物、
（Ｄ）溶剤
を含有し、
上記（Ｃ）成分は、塩基性活性点として２級又は３級アミン構造を持つ側鎖を有する繰り返し単位を持つ高分子化合物であると共に、上記（Ａ）成分である高分子化合物の一部又は全部である電子線用又はＥＵＶ用化学増幅ポジ型レジスト組成物。
【効果】本発明によれば、超微細パターンを要求されるレジストパターンの形成において、上記化学増幅ポジ型レジスト組成物を用いることで、塩基の存在を均一にでき、ラインエッジラフネスの改善、更には温度依存性の抑制ができ、高解像度が期待できる化学増幅ポジ型レジスト組成物を提供できる。 （もっと読む）

【課題】保存安定性について実用レベルを損なうことなく、優れた感度を有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、特には電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物、該組成物を用いてなるレジスト膜及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を含む樹脂（Ｐ）を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。


式中、
Ｒ_１、Ｒ_２及びＲ_３は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルコキシカルボニル基を表す。
Ｌ_１は、単結合又は２価の連結基を表し、
Ｌ_２は、電子求引性基を有する、アルキレン基又はアリーレン基を表し、
Ｌ_１又はＬ_２は、Ｒ_３と結合して５員若しくは６員環を形成していても良い。
Ａｒは、芳香族基を表す。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィプロセスにおいて使用されうる感放射線性ポリマーおよび組成物が提供される。このポリマーおよび組成物は活性化放射線に対して向上した感受性を提供する。
【解決手段】第１の形態に従って、ポリマーが提供される。ポリマーはポリマー骨格およびポリマー骨格に共有結合したモノマー系光酸発生剤を含む。光酸発生剤は、重合性スルホナートアニオンを有するスルホニウム塩またはヨードニウム塩の１種以上に由来する。 （もっと読む）

【課題】孤立パターンの形成においても、高感度、高解像性、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂（Ｐ）を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法。
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【課題】高屈折率の光学部材を容易に形成できる室温で液体の硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）又は（２）で示される硫黄含有ラジカル重合性化合物を含有する光学部材。
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【課題】ラインエッジラフネスが小さく、また、高感度でスループットの高い、更に、パターンの基板依存性の小さなネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(Ａ)水酸基を置換した芳香族環を側鎖に有する繰り返し単位（１）を含むベースポリマーと、酸存在下に繰り返し単位（１）への求電子反応により架橋を形成する架橋剤との組み合わせ(Ｂ)酸発生剤(Ｃ)塩基性成分として窒素含有化合物を有し、上記ベースポリマーの少なくとも一部は、式(３)


(Ｒ³はアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、メルカプトアルキル又はアルキルチオアルキル。)で示される基を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高屈折率の硬化物を形成できる新規な硬化性組成物を提供する。
【解決手段】フルオレン骨格を有するエチレン性不飽和化合物（１）と、脂肪族ポリチオ（メタ）アクリレート化合物などのチオ（メタ）アクリレート化合物（２）とで硬化性組成物を構成する。ポリチオ（メタ）アクリレート化合物は、通常、常温で液状の化合物で構成してもよい。このような液状の化合物（２）は、化合物（１）に対する相溶性に優れている場合が多く、液状の化合物（２）を使用すると、効率よく低粘度化して、ハンドリング性に優れた硬化性組成物を効率よく得ることができる。 （もっと読む）

【課題】優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化し得る高分子化合物であって、下記一般式（２）（式中、Ｒ₁は炭素数２０以下の脂肪族環式基であり、ｎは０または１〜５の整数を表し、Ｒ₂は水素原子、フッ素原子又は炭素数２０以下の低級アルキル基又は炭素数２０以下のフッ素化低級アルキル基を表す。）で示される化合物から誘導される構成単位（ａ１）と、ラクトン含有単環または多環式基を含む（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ３）と、を含有することを特徴とする高分子化合物。
［化１］
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