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Fターム[5F031CA05]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 処理の対象物 (12,583) | 矩形基板 (3,196) | ガラス基板、液晶基板 (2,994)

Fターム[5F031CA05]に分類される特許

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基板搬送装置は、投影光学系と液体を介した露光処理を行う露光処理部に対して、基板を搬入する第1搬送機構と、基板を露光処理部から搬出する第2搬送機構と、第1搬送機構と該第1搬送機構が搬送する基板との少なくとも一方に対し、第2搬送機構と第2搬送機構が搬送する基板との少なくとも一方からの液体の飛散を抑制する飛散抑制機構とを備える。 (もっと読む)


【課題】一体型の多目的光学アラインメントのためのシステムおよび方法
【解決手段】半導体処理システムで使用される光学アラインメントシステムが提供される。この光学アラインメントシステムは、アラインメント用の特徴部を上面に一体形成されたウエハチャックを備える。また、ウエハチャックの上方には、アラインメント用の特徴部に向けて光信号を発することができるビーム形成システムが配置される。また、アラインメント用の特徴部に向けて発せられた光信号の振幅を検出することができる検出器も設けられる。一形態において、アラインメント用の特徴部は、光信号の一部をビーム形成システムに反射し返す反射性アラインメント用の特徴部であって良い。別の一形態において、アラインメント用の特徴部は、光信号の一部がウエハチャックを通過して検出器に到達することを可能にする透過性アラインメント用の特徴部であって良い。この形態では、ウエハチャックの下方に検出器を配置することができる。 (もっと読む)


少なくとも1つの基板(5)を真空プロセスにて処理するための少なくとも1つの処理チャンバ(1)を備えた、基板を処理するためのシステムであって、前記処理チャンバ(1)は、閉鎖ボディ(15)にて閉鎖することができる基板アクセス(13)を備え、このシステムは、少なくとも前記閉鎖ボディ(15)を移動させるように構成された運搬デバイス(8)を備え、この運搬デバイス(8)は、前記基板(5)を前記真空プロセスの際に少なくとも部分的にカバーするためのマスク(4)を、少なくとも前記処理チャンバ(1)の外側のある位置と前記処理チャンバ(1)の内側のある位置との間で運搬するように構成される。少なくとも前記基板ホルダ(2)に、基板ホルダ(2)とマスク(4)とを互いに位置決めするための手段が提供された場合は、有利である。本発明は、更に、このようなシステムの使用に係る。
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一方のウエハステージ(WST1)上のウエハに対する露光動作が行われるのと並行して両ウエハステージ(WST1,WST2)の入れ替えのため他方のウエハステージ(WST2)が一方のウエハステージの下方に一時的に位置する工程を含むこととすることで、一方のウエハステージ上のウエハに対する露光動作と並行して、他方のウエハステージをその一方のウエハステージの下方に一時的に位置する手順に従った両ウエハステージの入れ替え動作(交換動作)の一部を行うことができる。これにより、一方のウエハステージ上のウエハに対する露光動作が終了した時点から両ウエハステージの入れ替え動作が開始される場合に比べてその入れ替えを短時間で行うことができる。 (もっと読む)


【課題】リンク機構のみで、大きなストロークを確保して大型のガラス板でも、ストッカーなどと干渉することなく、高速で移載できるようにした移載機を提供すること。
【解決手段】先端に搬器4を取り付けた2本一対の搬器支持リンク2と、先端側に搬器支持リンク2を枢着したX字形の主リンク1と、主リンク1の基端側と枢着し、基端側の駆動軸Pにて揺動可能とした2本一対の揺動リンク3とよりなり、揺動リンク3の揺動にて前記リンク機構の屈伸作用で、姿勢を制御しつつ、直線の移載方向の運行軌跡に沿って搬器4を移動するように構成する。 (もっと読む)


【課題】小型で、しかも安価でありながら、汎用性に優れた基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理部PSでは、それぞれが互いに異なる現像処理を施す2つの現像処理ユニット10A、10Bと、現像処理された基板に超臨界乾燥処理を施す超臨界乾燥処理ユニット20と、これらの処理ユニット10A、10B、20に取り囲まれるように配置された主搬送ロボット30とが設けられている。この主搬送ロボット30は未処理基板Wを受け取ると、該基板Wに形成されているレジスト膜の膜材料に対応する現像処理ユニットに基板Wを搬送する。そして、現像処理が完了すると、いずれの現像処理ユニット10A、10Bで現像処理されたのかを問わず、主搬送ロボット30は現像処理を受けた基板Wを超臨界乾燥処理ユニット20にウェット搬送する。 (もっと読む)


【課題】大気ロボットハンドリング装置を提供すること。
【解決手段】半導体製造ツール30は2つのロードロック36,40を有し、一方はツール30に入って処理される半導体ウェーハ用であり、他方は処理後にツール30から出るウェーハ用である。ツール30は3つの大気ウェーハハンドリングロボット44,46,48と関連して、ロードロック36,40により可能となる高スループットを得る。第1のロボット44は未処理のウェーハを供給源からウェーハ・プリアライナ50に搬送し、第2のロボット46は、ウェーハを、ウェーハ・プリアライナ50から、ウェーハがツール30に入るロードロック36に搬送し、第3のロボット48は、処理済のウェーハを、ウェーハがツール30から出るロードロック40から供給源42に搬送する。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板とメタルマスクとを貼り合せることにより貼り合わせ精度の向上を図ること。
【解決手段】ガラス基板を介してメタルマスクを所定の隙間を有して重ねる第1のステップS101と、カメラにより第1及び第2のマークの撮像情報に基づいて第1と第2のマークとの位置の差を求め、差が所定の範囲内か否かを判断する第2のステップS103と、前記差が範囲外の場合、前記位置の差に基づいてガラス基板をX,Y軸方向に移動させる第3のステップS105と、前記差が範囲内の場合、メタルマスクとガラス基板とを貼り合せる第4のステップS107と、第2のステップS103を実行する第5のステップS109と、第5のステップS109での前記差が範囲外の場合、メタルマスクとガラス基板とを分離する第6のステップS111とを備えたものである。 (もっと読む)


【課題】 占有スペースをそれ程大きくすることなく、簡単なプロセスを含めた多種多様な処理を行う。
【解決手段】 被処理体Wに対して所定の処理を行う複数の処理装置32A〜32Fと、前記複数の処理装置に共通に接続された共通搬送室34と、前記共通搬送室内に設けられて前記処理装置との間で前記被処理体を搬送するための第1及び第2の2つの搬送手段40、42と、前記共通搬送室内であって前記2つの搬送手段のそれぞれの搬送範囲が重なる範囲内に設置されて、両側がゲートバルブ58A、58Bによって開閉されて密閉空間となるバッファ部50、52と、前記共通搬送室に接続されて真空引き可能になされたロードロック室36A、36Bと、前記ロードロック室に接続された導入側搬送室38と、前記導入側搬送室内に設けられて、前記被処理体を複数収容するカセットと前記ロードロック室との間で前記被処理体を搬送する導入側搬送手段124とを備えた。 (もっと読む)


【課題】 基板洗浄装置の工程流れ方向に対するコンパクト化を図りつつ、基板の支持を確実化させると共に、基板のエッジ部分の異物残存を回避し、製品歩留まりを向上させる。
【解決手段】 基板2を移送しつつ、スクラビング洗浄工程、リンス洗浄工程、および乾燥工程を順次実行する基板洗浄装置1において、スクラビング洗浄工程を実行する第一の槽4と、リンス洗浄工程および乾燥工程を実行する第二の槽5とを備える。そして、第二の槽5に、基板2を垂直姿勢に保持してスピンリンス洗浄およびスピン乾燥を行うための単一のスピン部58を配備する。 (もっと読む)


【課題】 定盤表面を均熱に加熱できるとともに、冷却機能を有する均熱装置を得ることにより、被成形物の加工時間の短縮を図る。
【解決手段】 定盤1の被成形物が載置される面と反対側の面に例えば一体となって配置され、冷却媒体が流通する冷却構造体8を設ける。冷却構造体8に形成された水などの冷却媒体10を流通させる流路9を形成する。冷却構造体8は供給口11から冷却媒体10が導入され、流路9を流通し排出口12から排出される。 (もっと読む)


【課題】セラミックスからなる板状体の一方の主面に発熱抵抗体を有するとともに、該発熱抵抗体と電気的に接続される給電部を具備してなるセラミックヒーターにおいて、板状体の厚みを薄くすると、発熱抵抗体で発生した温度分布が十分緩和されず、載置したウエハの温度がなかなか均一にならないという課題があった。
【解決手段】上記発熱抵抗体の少なくとも一部を、周囲のパターンの抵抗値に対し3倍以内の抵抗値にトリミングした抵抗調整部を形成する。 (もっと読む)


【課題】 基板ガラスの検査工程の時間短縮(タクトタイムの短縮)を図るとともに、確実な検査を行うことのできる基板ガラスの移送装置を提供する。
【解決手段】 移送装置10は、PDP用ガラスより幅広に位置する一対のサイドレール16の内側に突出可能な支持ガイド24を設け、支持ピン26の突出にてPDP用ガラス12の持ち上げを可能にするとともに、サイドレール16を連桿とする四節機構17を形成し、この四節機構17における揺り腕18には駆動手段を設け、当該駆動手段の稼働にて揺り腕18、20を揺動させ、サイドレール16に保持されたPDP用ガラス12を検査装置14へ移送可能にした。このため素早い移送が可能となり、検査工程の時間短縮を図ることができる。またステージ32が平坦になり、接触子36によりPDP用ガラス12がたわむのを防止でき、確実な検査を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】 ティーチング基準位置における位置合わせを、精度良く且つ効率的に行なうことができる搬送システムの搬送位置合わせ方法を提供する。
【解決手段】 被搬送体Wを保持するフォーク48を有する搬送アーム部20と、この搬送アーム部を移動させる移動機構30と、搬送アーム部の移動エリア内に配置された少なくとも1つ以上の容器載置台24と、被搬送体の偏心量と偏心方向と切り欠き目印64の回転位置を光学的センサ62により検出する方向位置決め装置36と、全体の動作を制御する制御部72とを備えて位置合わせを行なう搬送システムの搬送位置合わせ方法において、マニュアルにより被搬送体を正確に位置合わせして載置したり、被搬送体を受け取りに行き、これを方向位置決め装置に搬送してその偏心量或いは切り欠き目印の回転誤差を求めることにより真に正しい適正位置座標を得ることができる。 (もっと読む)


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