真空吸引装置
【課題】移送する基板の寸法及び形状に応じて、吸引範囲を自動的に調整することのできる真空吸引装置を提供する。
【解決手段】吸引フラッドベッド１１０は、基板に接触する接触面１１０ａ、及びこの接触面上に配置された少なくとも１つの吸引孔１１０ｂを具えている。基部１２０は、吸引フラットベッドに接続され、吸引孔に連通する真空室Ｖが、フラッドベッド及び基部によって規定される。可動トリガー１３０は吸引孔内に組み立てられ、可動トリガーは、接触面を超えて突出した接触部１３２、及び吸引孔と真空室との間の連通を塞ぐ閉塞部１３４を具え、基板Ｐが接触面に接触すると、基板が可動トリガーを押して、吸引孔内の可動トリガーの状態を、閉塞部が吸引孔と真空室との間の連通を塞ぐことができないように変化させる。空気抜き１４０は真空室に連通する。
【解決手段】吸引フラッドベッド１１０は、基板に接触する接触面１１０ａ、及びこの接触面上に配置された少なくとも１つの吸引孔１１０ｂを具えている。基部１２０は、吸引フラットベッドに接続され、吸引孔に連通する真空室Ｖが、フラッドベッド及び基部によって規定される。可動トリガー１３０は吸引孔内に組み立てられ、可動トリガーは、接触面を超えて突出した接触部１３２、及び吸引孔と真空室との間の連通を塞ぐ閉塞部１３４を具え、基板Ｐが接触面に接触すると、基板が可動トリガーを押して、吸引孔内の可動トリガーの状態を、閉塞部が吸引孔と真空室との間の連通を塞ぐことができないように変化させる。空気抜き１４０は真空室に連通する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空吸引装置に関するものである。特に、本発明は、吸引範囲を自動的に調整することのできる真空吸引装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
真空吸収装置は一般に、基板（例えばウエハ、ガラス基板、回路基板、フィルム等）を移送するために適用される。移送する基板の寸法及び形状が変化すると、基板を安定的に吸引して移送することができることを保証するために、従来の真空吸引装置の吸引孔の位置を適切に調整すべきである。従来の真空吸引装置では、吸引孔の数及び位置を、移送する基板の寸法及び形状に応じて調整しなければならない。一般に、移送する基板の寸法及び形状が変化すると、製造業者は、従来の真空吸引装置の吸引フラットベッドを交換して、吸引フラットベッド内の吸引孔の数及び位置が移送する基板の寸法及び形状に対応するようにしなければならない。しかし、吸引フラットベッドの置き換えは、製造時間及びコストの負担を生じさせる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】中華民国特許第２６６３７４号明細書
【特許文献２】中華民国特許出願公開第２００７１６４７３号明細書
【特許文献３】中華民国特許第２６６３７４号明細書
【０００４】
吸引フラットベッドを交換せずに、種々の寸法及び形状を有する基板を安定的に吸引して移送するために、特許文献１、特許文献２、特許文献３のような従来技術が、解決法を提供すべく提案されている。特許文献１及び特許文献２では、真空吸引装置が複数の吸引孔を有して、これらの吸引孔の基板に覆われていない部分をネジまたは他の閉塞要素によって封印して漏洩を回避している。吸引孔の基板に覆われていない部分がネジまたは他の閉塞要素によって封印されると、真空吸着装置は基板を安定的に吸引することができる。移送する基板の寸法及び形状が変化すると、これらの閉塞要素は、異なる吸引孔に対して手動操作で組み立てられる。閉塞要素の組立工程は多大な時間を浪費し、量産にとって不利である。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、移送する基板の寸法に応じて吸引範囲を自動的に調整することのできる真空吸引装置に指向したものである。
【０００６】
ここで具体化して大まかに説明するように、本発明は、吸引フラットベッド、基部、少なくとも１つの可動トリガー、及び空気抜きを具えた、基板を吸引するための真空吸引装置を提供する。吸引フラットベッドは、基板に接触する接触面、及びこの接触面上に配置された少なくとも１つの吸引孔を有する。基部は吸引フラットベッドに接続されて、吸引孔に連通する真空室が、吸引フラットベッド及び基部によって規定される。可動トリガーは吸引孔内に組み立てられ、可動トリガーは、接触面を超えて突出した接触部、及び吸引孔と真空室との間の連通を塞ぐ閉塞部を有し、基板が接触面に接触すると、基板が可動トリガーを押して、吸引孔内の可動トリガーの状態を、閉塞部が吸引孔と真空室との間の連通を塞ぐことができない状態に変化させる。上記空気抜きは真空室に連通する。
【０００７】
本発明の好適例では、吸引孔の数が２つ以上であり、これらの吸引孔は上記接触面上に、例えば規則的またはランダムに配置されている。
【０００８】
本発明の好適例では、基板が接触面に接触すると、上記可動トリガーが基板によって吸引孔内に完全に押し込められる。
【０００９】
本発明の好適例では、上記吸引フラットベッドが、吸引孔内に配置された少なくとも１つの突起を具え、上記可動トリガーは、上記接触部と上記閉塞部との間に接続された接続部を具え、この接続部がこの突起上にもたれて、可動トリガーが、この突起を回転軸として用いることによって回転する。
【００１０】
本発明の好適例では、上記吸引孔が、上記可動トリガーを収容するための収容空間、及びこの収容空間と上記真空室との間に連結された連通孔を有し、上記接触部が基板に接触する前は、上記閉塞部が収容空間の底部上にもたれて連通孔を完全に塞ぎ、基板が接触部を押した後は、閉塞部が持ち上げられ、連通孔が収容空間に連通する。
【００１１】
本発明の好適例では、上記吸引フラットベッドが、吸引孔内に配置された突起を具え、上記可動トリガーが、上記接触部と上記閉塞部との間に接続された接続部を具え、この接続部が上記突起に枢着され、これにより、可動トリガーが突起を回転軸として用いることによって回転する。
【００１２】
本発明の好適例では、上記吸引孔が、上記可動トリガーを収容するための収容空間、及びこの収容空間と上記真空室との間に連結された連通孔を有し、上記接触部が基板に接触する前は、上記閉塞部が収容空間の底部上にもたれて連通孔を完全に塞ぎ、基板が接触部を押した後は、閉塞部が持ち上げられ、連通孔が収容空間に連通する。
【００１３】
本発明の好適例では、上記吸引フラットベッドが、上記接触面の反対側に内面を具え、上記接触部は上記閉塞部に直接接続されている。接触部が基板に接触する前は、閉塞部が吸引フラッドベッドの内面上にもたれて、上記吸引孔を完全に塞ぐ。基板が接触部を押した後は、閉塞部が押されて、吸引孔が真空室に連通する。
【００１４】
本発明の好適例では、上記閉塞部が、上記吸引孔の外部に配置されている。
【００１５】
本発明の好適例では、上記空気抜きが真空ポンプで構成される。
【００１６】
本発明の好適例では、上記真空吸引装置が更に、上記吸引フラッドベッドと上記可動トリガーとの間に配置された弾性体を具え、この弾性体は、可動トリガーが元の状態に戻ることを手助けする。
【００１７】
上記可動トリガーの接触部が、移送する基板によって押されると、上記吸引孔内の可動トリガーの状態を変化させることができるので、本発明の真空吸引装置は、その吸引範囲を自動的に調整することができる。
【００１８】
本発明の上述した特徴、他の特徴、及び利点をより理解できるようにするために、いくつかの実施例を以下に図面を参照しながら詳細に説明する。
【００１９】
添付した図面は、本発明のさらに理解するために含めるものであり、本明細書に含まれ、その一部を構成する。これらの図面は、本発明の実施例を例示するものであり、記述と共に、本発明の原理を説明する働きをする。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１Ａ】本発明の第１実施例による真空吸引装置を示す概略断面図である。
【図１Ｂ】本発明の第１実施例による真空吸引装置を示す概略断面図である。
【図１Ｃ】本発明の第１実施例による真空吸引装置を示す概略断面図である。
【図１Ｄ】本発明の第１実施例による真空吸引装置を示す概略断面図である。
【図２Ａ】真空吸引装置の部分拡大図である。
【図２Ｂ】真空吸引装置の部分拡大図である。
【図３Ａ】真空吸引装置の部分拡大図である。
【図３Ｂ】真空吸引装置の部分拡大図である。
【図４Ａ】真空吸引装置の部分拡大図である。
【図４Ｂ】真空吸引装置の部分拡大図である。
【図５Ａ】真空吸引装置の部分拡大図である。
【図５Ｂ】真空吸引装置の部分拡大図である。
【図６Ａ】真空吸引装置の部分拡大図である。
【図６Ｂ】真空吸引装置の部分拡大図である。
【図７Ａ】本発明の第２実施例による真空吸引装置を示す概略断面図である。
【図７Ｂ】本発明の第２実施例による真空吸引装置を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
（実施例１）
図１Ａ〜１Ｄは、本発明の第１実施例による真空吸引装置を示す概略断面図である。図１Ａ及び１Ｂを参照すれば、この実施例の真空吸引装置１００は、吸引フラッドベッド１１０、基部１２０、少なくとも１つの可動トリガー１３０（図には複数の可動トリガー１３０を示す）、及び空気抜き１４０を具えている。吸引フラッドベッド１１０は、基板Ｐに接触する接触面１１０ａ、及び接触面１１０ａ上に配置された少なくとも１つの吸引孔１１０ｂ（図には複数の吸引孔１１０ｂを示す）を有する。基部１２０は、吸引フラッドベッド１１０に接続され、吸引孔１１０ｂに連通する真空室Ｖが、吸引フラッドベッド１１０及び基部１２０によって規定される。可動トリガー１３０の各々は、１つの吸引孔１１０ｂ内に組み立てられ、各可動トリガー１３０は、接触面１１０ａを超えて突出した接触部１３２、及び吸引孔１１０ｂの１つと真空室Ｖとの間の連通を塞ぐための閉塞部１３４を有する。基板Ｐが接触面１１０ａに接触すると、基板Ｐは可動トリガー１３０を押して、吸引孔１１０ｂの一部分に配置された可動トリガー１３０の状態を、閉塞部１３４が吸引孔１１０ｂと真空室Ｖとの間の連通を塞ぐことができない状態に変化させる。これに加えて、空気抜き１４０が真空室Ｖに連通する。本実施例では、空気抜き１４０は例えば真空ポンプである。
【００２２】
本実施例では、真空室Ｖは、大気圧以下の気圧を有する室として広義に解釈する。本発明では、真空室Ｖは絶対真空に限定されない。真空吸引装置１００の動作中は、真空室Ｖの真空レベルは、移送する基板Ｐの重量により決まる。真空吸引装置１００によって移送する基板Ｐの重量が大きい際は、より高い真空レベルを必要とする。真空吸引装置１００によって移送する基板Ｐの重量が小さい際は、より低い真空レベルを必要とする。
【００２３】
本実施例では、複数の（２つ以上の）吸引孔１１０ｂが、吸引フラッドベッド１１０の接触面１１０ａ上に、例えばランダムにあるいは規則的に配置されている。吸引孔１１０ｂの数及び位置の分布が製造業者の実際の要求に基づいて決まることは、当業者の知るところである。本発明における吸引孔１１０ｂの数及び分布は限定されない。
【００２４】
図１Ａ及び１Ｂに示すように、吸引孔１１０ｂの各々が、可動トリガー１３０を収容するための収容空間Ｓ、及び収容空間Ｓと真空室Ｖとの間に連結された連通孔Ｈを具えている。これに加えて、吸引フラッドベッド１１０は、１つの吸引孔１１０ｂ内に配置された少なくとも１つの突起１１０ｃを具え、各可動トリガー１３０は、接触部１３２と閉塞部１３４との間に接続された接続部１３６を具えている。接続部１３６は突起１１０ｃ上にもたれる。
【００２５】
接触部１３２が基板Ｐに接触する前は、図１Ａに示すように、閉塞部１３４は収容空間Ｓの底部上にもたれて連通孔Ｈを完全に塞ぐ。この時点では、真空室Ｖと収容空間Ｓとは連通孔Ｈを通して連通していない。換言すれば、吸引孔１１０ｂは基板Ｐを吸引することができない。なお、可動トリガー１３０の各部分（即ち、接触部１３２、閉塞部１３４、及び接続部１３６）の重量比率を適切に制御することによって、各可動トリガー１３０が収容空間Ｓの底部上に自然にもたれて、収容空間Ｓと連通孔Ｈとの間の連通を塞ぐことができる。例えば、閉塞部１３４の重量を、接触部１３２の重量より大きくすることができる。具体的には、突起１１０ｃが回転軸として機能する際に、閉塞部１３４から発生するトルクが、接触部１３２から発生するトルクより大きくなる。
【００２６】
図１Ｂを参照すれば、真空吸引装置１００が、重力と逆向きに基板Ｐに向かって移動して基板Ｐを吸引すると、接触面１１０ａを超えて突出した接触部１３２は、基板Ｐによって押圧されて押し込まれる。同時に、基板Ｐの重量が閉塞部１３４の重量より大きいので、可動トリガー１３０は、突起１１０ｃを回転軸として用いることによって回転する。接触部１３２が基板Ｐによって押圧されると、閉塞部１３４が持ち上げられて、収容空間Ｓが連通孔Ｈを通して真空室Ｖと連通する。換言すれば、吸引孔１１０ｂは基板Ｐを吸引することができる。なお、基板Ｐが接触面１１０ａに接触すると、基板Ｐと接触している可動トリガー１３０は、基板Ｐによって吸引孔１１０ｂ内に完全に押し込まれる。このようにして、基板Ｐは吸引されて、接触面１１０ａ上に密着することができる。ここで、各収容空間Ｓは、回動した可動トリガー１３０の１つを完全に収容するよう設計されている。図１Ａに示す収容空間Ｓの形状は単なる例示用である。本発明における収容空間Ｓの形状は限定されない。
【００２７】
図１Ｂ〜図１Ｄを参照すれば、本実施例の真空吸引装置１００は、種々の寸法及び形状を有する基板Ｐを吸引することができる。図１Ｂに示すように、基板Ｐの寸法が吸引フラッドベッド１１０の寸法とほぼ同一である際は、すべての吸引孔１１０ｂが基板Ｐによって覆われ、すべての可動トリガー１３０が吸引孔１１０ｂ内に押し込まれる。この時、すべての吸引孔１１０ｂが基板Ｐを吸引するために使用される。図１Ｃ及び１Ｄに示すように、基板Ｐの寸法が吸引フラッドベッド１１０の寸法より小さい際は、吸引孔１１０ｂの一部のみが基板Ｐによって覆われ、可動トリガー１３０の一部のみが吸引孔１１０ｂ内に押し込まれる。この時、基板Ｐによって覆われた部分の吸引孔１１０ｂのみが基板Ｐを吸引することができ、基板Ｐによって覆われていない他の吸引孔１１０ｂは基板Ｐを吸引することができない。図１Ｃ及び１Ｄに示すように、本実施例の真空吸引装置１００は、その吸引範囲を自動的に調整することができる。基板Ｐを、吸引フラッドベッド１１０の任意の位置上で吸引することができる。これに加えて、真空吸引装置１００によって移送される基板Ｐは不用意に落下しにくい。
【００２８】
図１Ａから１Ｄにおいて説明した真空吸引装置１００は、単なる例示のためのものであり、本発明の真空吸引装置はこれらに限定されない。本発明の他の代案実施例を、図２Ａ〜図６Ｂにおいて説明する。
【００２９】
図２Ａ〜図６Ｂは、真空吸引装置の部分拡大図である。図２Ａ及び２Ｂを参照すれば、真空吸引装置１００はさらに、吸引フラッドベッド１１０と各可動トリガー１３０との間に配置された弾性体１５０を具えることができ、弾性体１５０は、可動トリガー１３０が元の状態に戻ることを手助けする。本実施例では、弾性体１５０は例えばバネである。図２Ａに示すように、可動トリガー１３０が基板Ｐによって押圧されない際は、弾性体１５０が可動トリガー１３０の接触部１３２を支持することができる。図２Ｂに示すように、可動トリガー１３０が基板Ｐによって押圧されると、弾性体１５０も押圧される。この時、押圧された弾性体１５０は復元力を与えることができ、可動トリガー１３０が基板Ｐによって覆われていない際に、弾性体１５０は、可動トリガー１３０が元の状態に戻ることを手助けすることができる。
【００３０】
図３Ａ及び３Ｂを参照すれば、弾性体１５０は、吸引フラッドベッド１１０と閉塞部１３４との間に配置することができる。図３Ａに示すように、可動トリガー１３０が基板Ｐによって押されない際は、弾性体１５０は可動トリガー１３０の閉塞部１３４の上昇を防止することができる。図３Ｂに示すように、可動トリガー１３０が基板Ｐによって押圧されると、弾性体１５０も押圧される。この時、押圧された弾性体１５０が復元力を与えることができ、可動トリガー１３０が基板Ｐによって覆われていない際に、弾性体１５０は、可動トリガー１３０が元の状態に戻ることを手助けすることができる。
【００３１】
図４Ａ及び４Ｂを参照すれば、本実施例では、可動トリガー１３０の接続部１３６が突起１１０ｃに枢着されて、可動トリガー１３０が突起１１０ｃを回転軸として用いることによって回転する。例えば、可動トリガー１３０はヒンジＡによって突起１１０ｃに枢着される。可動トリガー１３０の回転範囲は、ヒンジＡによって効果的に制御することができる。図５Ａ、５Ｂ、６Ａ、６Ｂに示すように、真空吸引装置１００は更に、各吸引フラッドベッド１１０と各可動トリガー１３０との間に配置された弾性体１５０’を具えることができ、弾性体１５０’は、可動トリガー１３０が元の状態に戻ることを手助けする。図５Ａ、５Ｂ、６Ａ及び６Ｂに示す弾性体１５０’は、図２Ａ、２Ｂ、３Ａ及び３Ｂに示す弾性体１５０と同様である。従って、弾性体１５０’の詳細な説明は省略する。
【００３２】
（実施例２）
図７Ａ〜７Ｂは、本発明の第２実施例による真空吸引装置を示す概略断面図である。図７Ａ及び７Ｂを参照すれば、本実施例の真空吸引装置２００は、吸引フラッドベッド２１０、基部２２０、少なくとも１つの可動トリガー２３０（図には複数の可動トリガー２３０を示す)、及び空気抜き２４０を具えている。吸引フラッドベッド２１０は、基板Ｐに接触する接触面２１０ａ、及び接触面２１０ａ上に配置された少なくとも１つの吸引孔２１０ｂ（図には複数の吸引孔２１０ｂを示す）を有する。基部２２０は吸引フラッドベッド２１０に接続され、吸引孔２１０ｂに連通する真空室Ｖは、吸引フラッドベッド２１０及び基部２２０によって規定される。可動トリガー２３０の各々は、１つの吸引孔２２０ｂ内に組み立てられ、可動トリガー２３０は、接触面２１０ａを超えて突出した接触部２３２、及び吸引孔２１０ｂの１つと真空室Ｖとの間の連通を塞ぐための閉塞部２３４を有する。基板Ｐが接触面２１０ａに接触すると、基板Ｐは可動トリガー２３０を押して、吸引孔２１０ｂ内の可動トリガー２３０の状態を、閉塞部２３４が吸引孔２１０ｂと真空室Ｖとの間の連通を塞ぐことができない状態に変化させる。これに加えて、空気抜き２４０は真空室Ｖに連通する。本実施例では、空気抜き２４０は例えば真空ポンプである。
【００３３】
図７Ａ及び７Ｂを参照すれば、吸引フラットベッド２１０が、接触面２１０ａの反対側に内面２１０ｃを具え、接触部２３２は閉塞部２３４に直接接続されている。接触部２３２が基板に接触する前は、閉塞部２３４が吸引フラッドベッド２１０の内面２１０ｃ上にもたれて、吸引孔２１０ｂを完全に塞ぐ。この時、吸引孔２１０ｂは基板Ｐを吸引することができない。真空吸引装置２００が重力の向きに基板Ｐに向かって移動して基板Ｐを吸引すると、基板Ｐに接触している可動トリガー２３０は基板Ｐによって押される。同時に、吸引孔２１０ｂは基板Ｐを吸引することができる。
【００３４】
なお、本実施例の真空吸引装置２００では、弾性体（即ちバネ、板バネ、等）を随意的に利用して、可動トリガー２３０が元の状態に戻ることを手助けすることができる。
【００３５】
上述したように、可動トリガーの接触部が移送する基板によって押されると、吸引孔内の可動トリガーの状態が変化するので、本発明の真空吸引装置は、その吸引範囲を自動的に調整することができる。
【００３６】
以上の実施例を参照して本発明を説明してきたが、本発明の範囲から逸脱することなしに、説明した実施例に変更を加えることができることは、当業者にとって明らかである。従って、本発明の範囲は、以上の詳細な説明ではなく請求項によって規定される。
【符号の説明】
【００３７】
１００ 真空吸引装置
１１０ 吸引フラッドベッド
１１０ａ 接触面
１１０ｂ 吸引孔
１１０ｃ 突起
１２０ 基部
１３０ 可動トリガー
１３２ 接触部
１３４ 閉塞部
１３６ 接続部
１４０ 空気抜き
２００ 真空吸引装置
２１０ 吸引フラッドベッド
２１０ａ 接触面
２１０ｂ 吸引孔
２１０ｃ 内面
２２０ 基部
２３０ 可動トリガー
２３２ 接触部
２３４ 閉塞部
２４０ 空気抜き
Ｈ 連通孔
Ｐ 基板
Ｓ 収容空間
Ｖ 真空室
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空吸引装置に関するものである。特に、本発明は、吸引範囲を自動的に調整することのできる真空吸引装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
真空吸収装置は一般に、基板（例えばウエハ、ガラス基板、回路基板、フィルム等）を移送するために適用される。移送する基板の寸法及び形状が変化すると、基板を安定的に吸引して移送することができることを保証するために、従来の真空吸引装置の吸引孔の位置を適切に調整すべきである。従来の真空吸引装置では、吸引孔の数及び位置を、移送する基板の寸法及び形状に応じて調整しなければならない。一般に、移送する基板の寸法及び形状が変化すると、製造業者は、従来の真空吸引装置の吸引フラットベッドを交換して、吸引フラットベッド内の吸引孔の数及び位置が移送する基板の寸法及び形状に対応するようにしなければならない。しかし、吸引フラットベッドの置き換えは、製造時間及びコストの負担を生じさせる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】中華民国特許第２６６３７４号明細書
【特許文献２】中華民国特許出願公開第２００７１６４７３号明細書
【特許文献３】中華民国特許第２６６３７４号明細書
【０００４】
吸引フラットベッドを交換せずに、種々の寸法及び形状を有する基板を安定的に吸引して移送するために、特許文献１、特許文献２、特許文献３のような従来技術が、解決法を提供すべく提案されている。特許文献１及び特許文献２では、真空吸引装置が複数の吸引孔を有して、これらの吸引孔の基板に覆われていない部分をネジまたは他の閉塞要素によって封印して漏洩を回避している。吸引孔の基板に覆われていない部分がネジまたは他の閉塞要素によって封印されると、真空吸着装置は基板を安定的に吸引することができる。移送する基板の寸法及び形状が変化すると、これらの閉塞要素は、異なる吸引孔に対して手動操作で組み立てられる。閉塞要素の組立工程は多大な時間を浪費し、量産にとって不利である。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、移送する基板の寸法に応じて吸引範囲を自動的に調整することのできる真空吸引装置に指向したものである。
【０００６】
ここで具体化して大まかに説明するように、本発明は、吸引フラットベッド、基部、少なくとも１つの可動トリガー、及び空気抜きを具えた、基板を吸引するための真空吸引装置を提供する。吸引フラットベッドは、基板に接触する接触面、及びこの接触面上に配置された少なくとも１つの吸引孔を有する。基部は吸引フラットベッドに接続されて、吸引孔に連通する真空室が、吸引フラットベッド及び基部によって規定される。可動トリガーは吸引孔内に組み立てられ、可動トリガーは、接触面を超えて突出した接触部、及び吸引孔と真空室との間の連通を塞ぐ閉塞部を有し、基板が接触面に接触すると、基板が可動トリガーを押して、吸引孔内の可動トリガーの状態を、閉塞部が吸引孔と真空室との間の連通を塞ぐことができない状態に変化させる。上記空気抜きは真空室に連通する。
【０００７】
本発明の好適例では、吸引孔の数が２つ以上であり、これらの吸引孔は上記接触面上に、例えば規則的またはランダムに配置されている。
【０００８】
本発明の好適例では、基板が接触面に接触すると、上記可動トリガーが基板によって吸引孔内に完全に押し込められる。
【０００９】
本発明の好適例では、上記吸引フラットベッドが、吸引孔内に配置された少なくとも１つの突起を具え、上記可動トリガーは、上記接触部と上記閉塞部との間に接続された接続部を具え、この接続部がこの突起上にもたれて、可動トリガーが、この突起を回転軸として用いることによって回転する。
【００１０】
本発明の好適例では、上記吸引孔が、上記可動トリガーを収容するための収容空間、及びこの収容空間と上記真空室との間に連結された連通孔を有し、上記接触部が基板に接触する前は、上記閉塞部が収容空間の底部上にもたれて連通孔を完全に塞ぎ、基板が接触部を押した後は、閉塞部が持ち上げられ、連通孔が収容空間に連通する。
【００１１】
本発明の好適例では、上記吸引フラットベッドが、吸引孔内に配置された突起を具え、上記可動トリガーが、上記接触部と上記閉塞部との間に接続された接続部を具え、この接続部が上記突起に枢着され、これにより、可動トリガーが突起を回転軸として用いることによって回転する。
【００１２】
本発明の好適例では、上記吸引孔が、上記可動トリガーを収容するための収容空間、及びこの収容空間と上記真空室との間に連結された連通孔を有し、上記接触部が基板に接触する前は、上記閉塞部が収容空間の底部上にもたれて連通孔を完全に塞ぎ、基板が接触部を押した後は、閉塞部が持ち上げられ、連通孔が収容空間に連通する。
【００１３】
本発明の好適例では、上記吸引フラットベッドが、上記接触面の反対側に内面を具え、上記接触部は上記閉塞部に直接接続されている。接触部が基板に接触する前は、閉塞部が吸引フラッドベッドの内面上にもたれて、上記吸引孔を完全に塞ぐ。基板が接触部を押した後は、閉塞部が押されて、吸引孔が真空室に連通する。
【００１４】
本発明の好適例では、上記閉塞部が、上記吸引孔の外部に配置されている。
【００１５】
本発明の好適例では、上記空気抜きが真空ポンプで構成される。
【００１６】
本発明の好適例では、上記真空吸引装置が更に、上記吸引フラッドベッドと上記可動トリガーとの間に配置された弾性体を具え、この弾性体は、可動トリガーが元の状態に戻ることを手助けする。
【００１７】
上記可動トリガーの接触部が、移送する基板によって押されると、上記吸引孔内の可動トリガーの状態を変化させることができるので、本発明の真空吸引装置は、その吸引範囲を自動的に調整することができる。
【００１８】
本発明の上述した特徴、他の特徴、及び利点をより理解できるようにするために、いくつかの実施例を以下に図面を参照しながら詳細に説明する。
【００１９】
添付した図面は、本発明のさらに理解するために含めるものであり、本明細書に含まれ、その一部を構成する。これらの図面は、本発明の実施例を例示するものであり、記述と共に、本発明の原理を説明する働きをする。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１Ａ】本発明の第１実施例による真空吸引装置を示す概略断面図である。
【図１Ｂ】本発明の第１実施例による真空吸引装置を示す概略断面図である。
【図１Ｃ】本発明の第１実施例による真空吸引装置を示す概略断面図である。
【図１Ｄ】本発明の第１実施例による真空吸引装置を示す概略断面図である。
【図２Ａ】真空吸引装置の部分拡大図である。
【図２Ｂ】真空吸引装置の部分拡大図である。
【図３Ａ】真空吸引装置の部分拡大図である。
【図３Ｂ】真空吸引装置の部分拡大図である。
【図４Ａ】真空吸引装置の部分拡大図である。
【図４Ｂ】真空吸引装置の部分拡大図である。
【図５Ａ】真空吸引装置の部分拡大図である。
【図５Ｂ】真空吸引装置の部分拡大図である。
【図６Ａ】真空吸引装置の部分拡大図である。
【図６Ｂ】真空吸引装置の部分拡大図である。
【図７Ａ】本発明の第２実施例による真空吸引装置を示す概略断面図である。
【図７Ｂ】本発明の第２実施例による真空吸引装置を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
（実施例１）
図１Ａ〜１Ｄは、本発明の第１実施例による真空吸引装置を示す概略断面図である。図１Ａ及び１Ｂを参照すれば、この実施例の真空吸引装置１００は、吸引フラッドベッド１１０、基部１２０、少なくとも１つの可動トリガー１３０（図には複数の可動トリガー１３０を示す）、及び空気抜き１４０を具えている。吸引フラッドベッド１１０は、基板Ｐに接触する接触面１１０ａ、及び接触面１１０ａ上に配置された少なくとも１つの吸引孔１１０ｂ（図には複数の吸引孔１１０ｂを示す）を有する。基部１２０は、吸引フラッドベッド１１０に接続され、吸引孔１１０ｂに連通する真空室Ｖが、吸引フラッドベッド１１０及び基部１２０によって規定される。可動トリガー１３０の各々は、１つの吸引孔１１０ｂ内に組み立てられ、各可動トリガー１３０は、接触面１１０ａを超えて突出した接触部１３２、及び吸引孔１１０ｂの１つと真空室Ｖとの間の連通を塞ぐための閉塞部１３４を有する。基板Ｐが接触面１１０ａに接触すると、基板Ｐは可動トリガー１３０を押して、吸引孔１１０ｂの一部分に配置された可動トリガー１３０の状態を、閉塞部１３４が吸引孔１１０ｂと真空室Ｖとの間の連通を塞ぐことができない状態に変化させる。これに加えて、空気抜き１４０が真空室Ｖに連通する。本実施例では、空気抜き１４０は例えば真空ポンプである。
【００２２】
本実施例では、真空室Ｖは、大気圧以下の気圧を有する室として広義に解釈する。本発明では、真空室Ｖは絶対真空に限定されない。真空吸引装置１００の動作中は、真空室Ｖの真空レベルは、移送する基板Ｐの重量により決まる。真空吸引装置１００によって移送する基板Ｐの重量が大きい際は、より高い真空レベルを必要とする。真空吸引装置１００によって移送する基板Ｐの重量が小さい際は、より低い真空レベルを必要とする。
【００２３】
本実施例では、複数の（２つ以上の）吸引孔１１０ｂが、吸引フラッドベッド１１０の接触面１１０ａ上に、例えばランダムにあるいは規則的に配置されている。吸引孔１１０ｂの数及び位置の分布が製造業者の実際の要求に基づいて決まることは、当業者の知るところである。本発明における吸引孔１１０ｂの数及び分布は限定されない。
【００２４】
図１Ａ及び１Ｂに示すように、吸引孔１１０ｂの各々が、可動トリガー１３０を収容するための収容空間Ｓ、及び収容空間Ｓと真空室Ｖとの間に連結された連通孔Ｈを具えている。これに加えて、吸引フラッドベッド１１０は、１つの吸引孔１１０ｂ内に配置された少なくとも１つの突起１１０ｃを具え、各可動トリガー１３０は、接触部１３２と閉塞部１３４との間に接続された接続部１３６を具えている。接続部１３６は突起１１０ｃ上にもたれる。
【００２５】
接触部１３２が基板Ｐに接触する前は、図１Ａに示すように、閉塞部１３４は収容空間Ｓの底部上にもたれて連通孔Ｈを完全に塞ぐ。この時点では、真空室Ｖと収容空間Ｓとは連通孔Ｈを通して連通していない。換言すれば、吸引孔１１０ｂは基板Ｐを吸引することができない。なお、可動トリガー１３０の各部分（即ち、接触部１３２、閉塞部１３４、及び接続部１３６）の重量比率を適切に制御することによって、各可動トリガー１３０が収容空間Ｓの底部上に自然にもたれて、収容空間Ｓと連通孔Ｈとの間の連通を塞ぐことができる。例えば、閉塞部１３４の重量を、接触部１３２の重量より大きくすることができる。具体的には、突起１１０ｃが回転軸として機能する際に、閉塞部１３４から発生するトルクが、接触部１３２から発生するトルクより大きくなる。
【００２６】
図１Ｂを参照すれば、真空吸引装置１００が、重力と逆向きに基板Ｐに向かって移動して基板Ｐを吸引すると、接触面１１０ａを超えて突出した接触部１３２は、基板Ｐによって押圧されて押し込まれる。同時に、基板Ｐの重量が閉塞部１３４の重量より大きいので、可動トリガー１３０は、突起１１０ｃを回転軸として用いることによって回転する。接触部１３２が基板Ｐによって押圧されると、閉塞部１３４が持ち上げられて、収容空間Ｓが連通孔Ｈを通して真空室Ｖと連通する。換言すれば、吸引孔１１０ｂは基板Ｐを吸引することができる。なお、基板Ｐが接触面１１０ａに接触すると、基板Ｐと接触している可動トリガー１３０は、基板Ｐによって吸引孔１１０ｂ内に完全に押し込まれる。このようにして、基板Ｐは吸引されて、接触面１１０ａ上に密着することができる。ここで、各収容空間Ｓは、回動した可動トリガー１３０の１つを完全に収容するよう設計されている。図１Ａに示す収容空間Ｓの形状は単なる例示用である。本発明における収容空間Ｓの形状は限定されない。
【００２７】
図１Ｂ〜図１Ｄを参照すれば、本実施例の真空吸引装置１００は、種々の寸法及び形状を有する基板Ｐを吸引することができる。図１Ｂに示すように、基板Ｐの寸法が吸引フラッドベッド１１０の寸法とほぼ同一である際は、すべての吸引孔１１０ｂが基板Ｐによって覆われ、すべての可動トリガー１３０が吸引孔１１０ｂ内に押し込まれる。この時、すべての吸引孔１１０ｂが基板Ｐを吸引するために使用される。図１Ｃ及び１Ｄに示すように、基板Ｐの寸法が吸引フラッドベッド１１０の寸法より小さい際は、吸引孔１１０ｂの一部のみが基板Ｐによって覆われ、可動トリガー１３０の一部のみが吸引孔１１０ｂ内に押し込まれる。この時、基板Ｐによって覆われた部分の吸引孔１１０ｂのみが基板Ｐを吸引することができ、基板Ｐによって覆われていない他の吸引孔１１０ｂは基板Ｐを吸引することができない。図１Ｃ及び１Ｄに示すように、本実施例の真空吸引装置１００は、その吸引範囲を自動的に調整することができる。基板Ｐを、吸引フラッドベッド１１０の任意の位置上で吸引することができる。これに加えて、真空吸引装置１００によって移送される基板Ｐは不用意に落下しにくい。
【００２８】
図１Ａから１Ｄにおいて説明した真空吸引装置１００は、単なる例示のためのものであり、本発明の真空吸引装置はこれらに限定されない。本発明の他の代案実施例を、図２Ａ〜図６Ｂにおいて説明する。
【００２９】
図２Ａ〜図６Ｂは、真空吸引装置の部分拡大図である。図２Ａ及び２Ｂを参照すれば、真空吸引装置１００はさらに、吸引フラッドベッド１１０と各可動トリガー１３０との間に配置された弾性体１５０を具えることができ、弾性体１５０は、可動トリガー１３０が元の状態に戻ることを手助けする。本実施例では、弾性体１５０は例えばバネである。図２Ａに示すように、可動トリガー１３０が基板Ｐによって押圧されない際は、弾性体１５０が可動トリガー１３０の接触部１３２を支持することができる。図２Ｂに示すように、可動トリガー１３０が基板Ｐによって押圧されると、弾性体１５０も押圧される。この時、押圧された弾性体１５０は復元力を与えることができ、可動トリガー１３０が基板Ｐによって覆われていない際に、弾性体１５０は、可動トリガー１３０が元の状態に戻ることを手助けすることができる。
【００３０】
図３Ａ及び３Ｂを参照すれば、弾性体１５０は、吸引フラッドベッド１１０と閉塞部１３４との間に配置することができる。図３Ａに示すように、可動トリガー１３０が基板Ｐによって押されない際は、弾性体１５０は可動トリガー１３０の閉塞部１３４の上昇を防止することができる。図３Ｂに示すように、可動トリガー１３０が基板Ｐによって押圧されると、弾性体１５０も押圧される。この時、押圧された弾性体１５０が復元力を与えることができ、可動トリガー１３０が基板Ｐによって覆われていない際に、弾性体１５０は、可動トリガー１３０が元の状態に戻ることを手助けすることができる。
【００３１】
図４Ａ及び４Ｂを参照すれば、本実施例では、可動トリガー１３０の接続部１３６が突起１１０ｃに枢着されて、可動トリガー１３０が突起１１０ｃを回転軸として用いることによって回転する。例えば、可動トリガー１３０はヒンジＡによって突起１１０ｃに枢着される。可動トリガー１３０の回転範囲は、ヒンジＡによって効果的に制御することができる。図５Ａ、５Ｂ、６Ａ、６Ｂに示すように、真空吸引装置１００は更に、各吸引フラッドベッド１１０と各可動トリガー１３０との間に配置された弾性体１５０’を具えることができ、弾性体１５０’は、可動トリガー１３０が元の状態に戻ることを手助けする。図５Ａ、５Ｂ、６Ａ及び６Ｂに示す弾性体１５０’は、図２Ａ、２Ｂ、３Ａ及び３Ｂに示す弾性体１５０と同様である。従って、弾性体１５０’の詳細な説明は省略する。
【００３２】
（実施例２）
図７Ａ〜７Ｂは、本発明の第２実施例による真空吸引装置を示す概略断面図である。図７Ａ及び７Ｂを参照すれば、本実施例の真空吸引装置２００は、吸引フラッドベッド２１０、基部２２０、少なくとも１つの可動トリガー２３０（図には複数の可動トリガー２３０を示す)、及び空気抜き２４０を具えている。吸引フラッドベッド２１０は、基板Ｐに接触する接触面２１０ａ、及び接触面２１０ａ上に配置された少なくとも１つの吸引孔２１０ｂ（図には複数の吸引孔２１０ｂを示す）を有する。基部２２０は吸引フラッドベッド２１０に接続され、吸引孔２１０ｂに連通する真空室Ｖは、吸引フラッドベッド２１０及び基部２２０によって規定される。可動トリガー２３０の各々は、１つの吸引孔２２０ｂ内に組み立てられ、可動トリガー２３０は、接触面２１０ａを超えて突出した接触部２３２、及び吸引孔２１０ｂの１つと真空室Ｖとの間の連通を塞ぐための閉塞部２３４を有する。基板Ｐが接触面２１０ａに接触すると、基板Ｐは可動トリガー２３０を押して、吸引孔２１０ｂ内の可動トリガー２３０の状態を、閉塞部２３４が吸引孔２１０ｂと真空室Ｖとの間の連通を塞ぐことができない状態に変化させる。これに加えて、空気抜き２４０は真空室Ｖに連通する。本実施例では、空気抜き２４０は例えば真空ポンプである。
【００３３】
図７Ａ及び７Ｂを参照すれば、吸引フラットベッド２１０が、接触面２１０ａの反対側に内面２１０ｃを具え、接触部２３２は閉塞部２３４に直接接続されている。接触部２３２が基板に接触する前は、閉塞部２３４が吸引フラッドベッド２１０の内面２１０ｃ上にもたれて、吸引孔２１０ｂを完全に塞ぐ。この時、吸引孔２１０ｂは基板Ｐを吸引することができない。真空吸引装置２００が重力の向きに基板Ｐに向かって移動して基板Ｐを吸引すると、基板Ｐに接触している可動トリガー２３０は基板Ｐによって押される。同時に、吸引孔２１０ｂは基板Ｐを吸引することができる。
【００３４】
なお、本実施例の真空吸引装置２００では、弾性体（即ちバネ、板バネ、等）を随意的に利用して、可動トリガー２３０が元の状態に戻ることを手助けすることができる。
【００３５】
上述したように、可動トリガーの接触部が移送する基板によって押されると、吸引孔内の可動トリガーの状態が変化するので、本発明の真空吸引装置は、その吸引範囲を自動的に調整することができる。
【００３６】
以上の実施例を参照して本発明を説明してきたが、本発明の範囲から逸脱することなしに、説明した実施例に変更を加えることができることは、当業者にとって明らかである。従って、本発明の範囲は、以上の詳細な説明ではなく請求項によって規定される。
【符号の説明】
【００３７】
１００ 真空吸引装置
１１０ 吸引フラッドベッド
１１０ａ 接触面
１１０ｂ 吸引孔
１１０ｃ 突起
１２０ 基部
１３０ 可動トリガー
１３２ 接触部
１３４ 閉塞部
１３６ 接続部
１４０ 空気抜き
２００ 真空吸引装置
２１０ 吸引フラッドベッド
２１０ａ 接触面
２１０ｂ 吸引孔
２１０ｃ 内面
２２０ 基部
２３０ 可動トリガー
２３２ 接触部
２３４ 閉塞部
２４０ 空気抜き
Ｈ 連通孔
Ｐ 基板
Ｓ 収容空間
Ｖ 真空室
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を吸引する真空吸引装置において、
前記基板に接触する接触面、及びこの接触面上に配置された少なくとも１つの吸引孔を有する吸引フラッドベッドと；
前記吸引フラッドベッドに接続された基部であって、前記吸引フラッドベッド及び前記基部が、前記吸引孔に連通する真空室を規定する基部と；
前記吸引孔内に組み立てられた少なくとも１つの可動トリガーであって、前記接触面を超えて突出した接触部、及び前記吸引孔と前記真空室との間の連通を塞ぐための閉塞部を有する可動トリガーと；
前記真空室に連通する空気抜きとを具え、
前記基板が前記接触面に接触すると、前記基板が前記可動トリガーを押して、前記吸引孔内の前記可動トリガーの状態を、前記閉塞部が前記吸引孔と前記真空室との間の連通を塞ぐことができない状態に変化させ、
前記吸引フラッドベッドが、前記吸引孔内に配置された少なくとも１つの突起を具え、前記可動トリガーが、前記接触部と前記閉塞部との間に接続された接続部を具え、前記接続部が前記突起上にもたれて、前記可動トリガーが前記突起を回転軸として用いることによって回転することを特徴とする真空吸引装置。
【請求項２】
前記吸引孔の数が２つ以上であることを特徴とする請求項１に記載の真空吸引装置。
【請求項３】
前記吸引孔が、前記接触面上に規則的に配置されていることを特徴とする請求項２に記載の真空吸引装置。
【請求項４】
前記吸込み孔が、前記接触面上にランダムに配置されていることを特徴とする請求項２に記載の真空吸引装置。
【請求項５】
前記基板が前記接触面に接触すると、前記可動トリガーが前記基板によって前記吸引孔内に押し込まれることを特徴とする請求項１に記載の真空吸引装置。
【請求項６】
前記吸引孔が、前記可動トリガーを収容するための収容空間、及び前記収容空間と前記真空室との間に連結された連通孔を具え、前記接触部が前記基板に接触する前に、前記閉塞部が前記収容空間の底部上にもたれて前記連通孔を完全に塞ぎ、前記基板が前記接触部を押した後に、前記閉塞部が持ち上げられて前記連通孔が前記収容空間に連通することを特徴とする請求項１に記載の真空吸引装置。
【請求項７】
前記接続部が前記突起に枢着されていることを特徴とする請求項１に記載の真空吸引装置。
【請求項８】
前記吸引孔が、前記可動トリガーを収容するための収容空間、及び前記収容空間と前記真空室との間に連結された連通孔を具え、前記接触部が前記基板に接触する前に、前記閉塞部が前記収容空間の底部上にもたれて前記連通孔を完全に塞ぎ、前記基板が前記接触部を押した後に、前記閉塞部が持ち上げられて前記連通孔が前記収容空間に連通することを特徴とする請求項７に記載の真空吸引装置。
【請求項９】
前記吸引フラッドベッドが、前記接触面の反対側に内面を具え、前記接触部が前記閉塞部に直接接続され、前記接触部が前記基板に接触する前に、前記閉塞部が前記吸引フラッドベッドの前記内面上にもたれて前記吸引孔を完全に塞ぎ、前記基板が前記接触部を押した後に、前記閉塞部が押されて前記吸引孔が前記真空室に連通することを特徴とする請求項１に記載の真空吸引装置。
【請求項１０】
前記閉塞部が前記吸引孔の外部に配置されていることを特徴とする請求項９に記載の真空吸引装置。
【請求項１１】
前記空気抜きが真空ポンプで構成されることを特徴とする請求項１に記載の真空吸引装置。
【請求項１２】
更に、前記吸引フラッドベッドと前記可動トリガーとの間に配置された弾性体を具え、前記弾性体は、前記可動トリガーが元の状態に戻ることを手助けすることを特徴とする請求項１に記載の真空吸引装置。
【請求項１】
基板を吸引する真空吸引装置において、
前記基板に接触する接触面、及びこの接触面上に配置された少なくとも１つの吸引孔を有する吸引フラッドベッドと；
前記吸引フラッドベッドに接続された基部であって、前記吸引フラッドベッド及び前記基部が、前記吸引孔に連通する真空室を規定する基部と；
前記吸引孔内に組み立てられた少なくとも１つの可動トリガーであって、前記接触面を超えて突出した接触部、及び前記吸引孔と前記真空室との間の連通を塞ぐための閉塞部を有する可動トリガーと；
前記真空室に連通する空気抜きとを具え、
前記基板が前記接触面に接触すると、前記基板が前記可動トリガーを押して、前記吸引孔内の前記可動トリガーの状態を、前記閉塞部が前記吸引孔と前記真空室との間の連通を塞ぐことができない状態に変化させ、
前記吸引フラッドベッドが、前記吸引孔内に配置された少なくとも１つの突起を具え、前記可動トリガーが、前記接触部と前記閉塞部との間に接続された接続部を具え、前記接続部が前記突起上にもたれて、前記可動トリガーが前記突起を回転軸として用いることによって回転することを特徴とする真空吸引装置。
【請求項２】
前記吸引孔の数が２つ以上であることを特徴とする請求項１に記載の真空吸引装置。
【請求項３】
前記吸引孔が、前記接触面上に規則的に配置されていることを特徴とする請求項２に記載の真空吸引装置。
【請求項４】
前記吸込み孔が、前記接触面上にランダムに配置されていることを特徴とする請求項２に記載の真空吸引装置。
【請求項５】
前記基板が前記接触面に接触すると、前記可動トリガーが前記基板によって前記吸引孔内に押し込まれることを特徴とする請求項１に記載の真空吸引装置。
【請求項６】
前記吸引孔が、前記可動トリガーを収容するための収容空間、及び前記収容空間と前記真空室との間に連結された連通孔を具え、前記接触部が前記基板に接触する前に、前記閉塞部が前記収容空間の底部上にもたれて前記連通孔を完全に塞ぎ、前記基板が前記接触部を押した後に、前記閉塞部が持ち上げられて前記連通孔が前記収容空間に連通することを特徴とする請求項１に記載の真空吸引装置。
【請求項７】
前記接続部が前記突起に枢着されていることを特徴とする請求項１に記載の真空吸引装置。
【請求項８】
前記吸引孔が、前記可動トリガーを収容するための収容空間、及び前記収容空間と前記真空室との間に連結された連通孔を具え、前記接触部が前記基板に接触する前に、前記閉塞部が前記収容空間の底部上にもたれて前記連通孔を完全に塞ぎ、前記基板が前記接触部を押した後に、前記閉塞部が持ち上げられて前記連通孔が前記収容空間に連通することを特徴とする請求項７に記載の真空吸引装置。
【請求項９】
前記吸引フラッドベッドが、前記接触面の反対側に内面を具え、前記接触部が前記閉塞部に直接接続され、前記接触部が前記基板に接触する前に、前記閉塞部が前記吸引フラッドベッドの前記内面上にもたれて前記吸引孔を完全に塞ぎ、前記基板が前記接触部を押した後に、前記閉塞部が押されて前記吸引孔が前記真空室に連通することを特徴とする請求項１に記載の真空吸引装置。
【請求項１０】
前記閉塞部が前記吸引孔の外部に配置されていることを特徴とする請求項９に記載の真空吸引装置。
【請求項１１】
前記空気抜きが真空ポンプで構成されることを特徴とする請求項１に記載の真空吸引装置。
【請求項１２】
更に、前記吸引フラッドベッドと前記可動トリガーとの間に配置された弾性体を具え、前記弾性体は、前記可動トリガーが元の状態に戻ることを手助けすることを特徴とする請求項１に記載の真空吸引装置。
【図１Ａ】
【図１Ｂ】
【図１Ｃ】
【図１Ｄ】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図４Ａ】
【図４Ｂ】
【図５Ａ】
【図５Ｂ】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【図１Ｂ】
【図１Ｃ】
【図１Ｄ】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図４Ａ】
【図４Ｂ】
【図５Ａ】
【図５Ｂ】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【公開番号】特開２０１１−２３８９５４（Ｐ２０１１−２３８９５４Ａ）
【公開日】平成２３年１１月２４日（２０１１．１１．２４）
【国際特許分類】
【外国語出願】
【出願番号】特願２０１１−１５４１１６（Ｐ２０１１−１５４１１６）
【出願日】平成２３年７月１２日（２０１１．７．１２）
【分割の表示】特願２００９−１２６９３６（Ｐ２００９−１２６９３６）の分割
【原出願日】平成２１年５月２６日（２００９．５．２６）
【出願人】（５０１３５８０７９）友達光電股▲ふん▼有限公司 (220)
【氏名又は名称原語表記】ＡＵ Ｏｐｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ
【住所又は居所原語表記】Ｎｏ．１，Ｌｔ−Ｈｓｉｎ Ｒｄ，ＩＩ，Ｓｃｉｅｎｃｅ−Ｂａｓｅｄ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｐａｒｋ，Ｈｓｉｎｃｈｕ，Ｔａｉｗａｎ，Ｒ．Ｏ．Ｃ．
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１１月２４日（２０１１．１１．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１５４１１６（Ｐ２０１１−１５４１１６）
【出願日】平成２３年７月１２日（２０１１．７．１２）
【分割の表示】特願２００９−１２６９３６（Ｐ２００９−１２６９３６）の分割
【原出願日】平成２１年５月２６日（２００９．５．２６）
【出願人】（５０１３５８０７９）友達光電股▲ふん▼有限公司 (220)
【氏名又は名称原語表記】ＡＵ Ｏｐｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ
【住所又は居所原語表記】Ｎｏ．１，Ｌｔ−Ｈｓｉｎ Ｒｄ，ＩＩ，Ｓｃｉｅｎｃｅ−Ｂａｓｅｄ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｐａｒｋ，Ｈｓｉｎｃｈｕ，Ｔａｉｗａｎ，Ｒ．Ｏ．Ｃ．
【Ｆターム（参考）】
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