配線基板の非接触搬送装置、配線基板の製造方法
【課題】イオンエアを基板主面全体に拡散させることにより、異物の除去や除電を確実にかつ均一に行うことができる配線基板の非接触搬送装置を提供すること。
【解決手段】本発明の非接触搬送装置は吸引部を備える。吸引部は、吸引面に凹部73が設けられるとともに、凹部73の内周面にて開口する6個のエア吹出穴81が設けられる。また、凹部73の中心部には、基板主面120に向けてイオンエアを吹き付けるためのイオンエア吹出穴82が設けられる。各エア吹出穴81は、仮想円C2上においてイオンエア吹出穴82を取り囲むように設けられ、中心軸C1を基準として等角度間隔で配置されるとともに、仮想円C2の接線L1に対して同じ角度θ1だけ傾斜した状態で開口する。
【解決手段】本発明の非接触搬送装置は吸引部を備える。吸引部は、吸引面に凹部73が設けられるとともに、凹部73の内周面にて開口する6個のエア吹出穴81が設けられる。また、凹部73の中心部には、基板主面120に向けてイオンエアを吹き付けるためのイオンエア吹出穴82が設けられる。各エア吹出穴81は、仮想円C2上においてイオンエア吹出穴82を取り囲むように設けられ、中心軸C1を基準として等角度間隔で配置されるとともに、仮想円C2の接線L1に対して同じ角度θ1だけ傾斜した状態で開口する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、被搬送物である配線基板を、気流の作用を利用して搬送する配線基板の非接触搬送装置、非接触搬送装置を用いた配線基板の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【0002】
従来より、配線基板は、複数の製造工程を経て製造され、導通検査を行う検査工程を受けた後に出荷される。また、配線基板は、製造工程が終了する度に、次の工程を行うためのラインに搬送されるようになっている。なお、従来の搬送方法としては、エア吸着穴が開口された吸着ヘッドの下面に配線基板の表面を負圧で吸着し、この状態で、配線基板を吸着ヘッドとともに搬送する方法などが提案されている。しかし、吸着ヘッドで配線基板を搬送すると、吸着ヘッドの汚れや磨耗によって生じた異物(粉塵)が配線基板に付着するなどの問題がある。
【0003】
そこで、配線基板などの被搬送物を非接触状態で吸引しながら搬送することにより、配線基板への異物の付着を少なくした搬送装置が提案されている(例えば特許文献1参照)。かかる搬送装置は、搬送ヘッド、搬送ヘッドの先端面(吸引面)にて開口する気体供給孔、及び、搬送ヘッドに装着されるとともに円板部を有するノズルなどを備えている。そして、搬送ヘッドの吸引面を配線基板に接近させ、気体供給孔から供給されたエアを吸引面と円板部との間に形成されたスリットを介して外部に導出すると、エアが搬送ヘッドの外側に放射状に放出される。その結果、ノズル付近と配線基板との空間が負圧となり、配線基板が搬送ヘッドに吸引保持される。この状態において、ロボットアームなどを用いて搬送ヘッドを搬送すれば、配線基板を非接触状態で搬送することができる。
【0004】
ところが、エアが搬送ヘッド内を流れる際に、エアと搬送ヘッドとの摩擦によって静電気が発生し、搬送ヘッドが帯電してしまう。さらに、放出されたエアの一部が配線基板に衝突するため、エアと配線基板との摩擦によって静電気が発生し、配線基板も帯電してしまう。このとき、配線基板の表面には周囲に浮遊している異物が付着しやすくなっており、一旦付着すると異物の除去が困難である。また、配線基板搬送後に実施される上記の検査工程では、配線基板の表面上のはんだバンプに対してプローブなどの検査用治具を当接させることにより、配線基板の導通検査を行っている。従って、はんだバンプの表面に異物が付着した状態で導通検査を行うと、プローブとはんだバンプとの間に導通しない異物が噛み込んでしまうため、本来良品であるにもかかわらず、検査工程において不良品であると判定される可能性がある。
【0005】
そこで、イオンエア吹出穴から配線基板の基板主面に向けてイオンエアを吹き付けることで、基板主面上の異物をイオンエアで吹き飛ばして除去するとともに、配線基板に帯電した静電気の中和(除電)を行う技術が提案されている。また、2個のエア吹出穴をイオンエア吹出穴とは異なる位置に設け、各エア吹出穴から噴出したエアによってイオンエアを基板主面全体に拡散させる技術も提案されている。上記のようにすれば、導通検査において、異物の付着に起因して配線基板が不良品であると判定されにくくなるため、配線基板の歩留まりが向上する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特開2005−219922号公報(図1〜図5など)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
しかしながら、配線基板の周辺にイオンエアを放出したとしても、帯電した搬送ヘッドが配線基板に近付いた際に、イオンエアに含まれているイオンが搬送ヘッド側に流れてしまう。その結果、イオンが配線基板に届かなくなるため、配線基板に帯電した静電気を中和できないという問題が生じてしまう。また、エア吹出穴は2個しか設けられておらず、各エア吹出穴から噴出したエアは、殆どがエア吹出穴が開口する方向に流れてしまう。その結果、イオンエアは、殆どがエア吹出穴の近傍において拡散し、基板主面の全体に拡散しないため、異物の除去や除電を均一に行うことが困難になる。
【0008】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その第1の目的は、イオンエアを基板主面全体に拡散させることにより、異物の除去や除電を確実にかつ均一に行うことができる配線基板の非接触搬送装置を提供することにある。また、第2の目的は、上記の非接触搬送装置を用いた好適な配線基板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0009】
そして上記課題を解決するための手段(手段1)としては、吸引面に凹部が設けられるとともに、前記凹部の内周面にて開口する複数のエア吹出穴が設けられた吸引部を備え、前記複数のエア吹出穴から前記凹部の内周面に沿って噴出したエアにより発生する負圧によって、被搬送物である配線基板の基板主面を前記吸引面に吸引保持して搬送する非接触搬送装置において、前記基板主面にイオンエアを吹き付けるためのイオンエア吹出穴が、前記凹部の中心部に設けられ、前記複数のエア吹出穴が、前記凹部の中心軸と同心状に設定された仮想円上において前記イオンエア吹出穴を取り囲むように3個以上設けられ、前記凹部の中心軸を基準として等角度間隔で配置されるとともに、前記エア吹出穴の位置にて接する前記仮想円の接線に対して同じ角度だけ傾斜した状態で開口していることを特徴とする配線基板の非接触搬送装置がある。
【0010】
従って、上記手段1の非接触搬送装置によると、複数のエア吹出穴が、イオンエア吹出穴を取り囲むように3個以上設けられ、凹部の中心軸を基準として等角度間隔で配置されるとともに、エア吹出穴の位置にて接する仮想円の接線に対して同じ角度だけ傾斜した状態で開口している。即ち上記手段1では、同じ向きに開口するエア吹出穴が均等に配置されている。このため、各エア吹出穴から噴出したエアがエア吹出穴が開口する方向に流れ、イオンエアがエア吹出穴から噴出したエアによってそれぞれのエア吹出穴の近傍において拡散したとしても、イオンエアは、基板主面の全体に確実に拡散する。よって、イオンエアを用いた基板主面上の異物の除去や、イオンエアを用いた配線基板の除電を、確実にかつ均一に行うことができる。ゆえに、例えば搬送後の導通検査において、異物の付着に起因して配線基板が不良品であると判定されにくくなるため、配線基板の歩留まりを向上させることができる。
【0011】
また、エア吹出穴が3個以上設けられることにより、各エア吹出穴から噴出するエアの流量を大きくすることができるため、エア吹出穴が2個しか設けられていない従来の構造よりも、配線基板を吸引する力が大きくなる。しかも、エア吹出穴を3個以上設けた結果、気流が安定するようになるため、吸引時に配線基板が回転することを防止できる。
【0012】
なお、「配線基板」は、単一製品の配線基板だけでなく、配線基板となるべき基板形成領域が平面方向に沿って複数配置された多数個取り用配線基板も含むものとする。上記配線基板の形成材料としては、セラミック、金属、半導体などの無機材料や、樹脂などの有機材料を挙げることができ、コスト性、加工性、絶縁性、機械的強度などを考慮してそれらの中から適宜選択することができる。セラミック材料の好適例としては、例えばアルミナ、ガラスセラミック、結晶化ガラス等の低温焼成材料、窒化アルミニウム、炭化珪素、窒化珪素などがある。金属材料の好適例としては、銅、銅合金、鉄ニッケル合金などがある。半導体材料の好適例としては、例えばシリコンなどがある。そして、樹脂材料の好適例としては、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ビスマレイミド−トリアジン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂などがある。そのほか、これらの樹脂とガラス繊維(ガラス織布やガラス不織布)やポリアミド繊維等の有機繊維との複合材料を使用してもよい。あるいは、連続多孔質PTFE等の三次元網目状フッ素系樹脂基材にエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂を含浸させた樹脂−樹脂複合材料等を使用してもよい。特に、低コスト化などの観点からすれば、配線基板の形成材料として樹脂材料などの有機材料を選択することが好ましい。このような配線基板であれば、微細な導体層を比較的簡単にかつ正確に形成することができる。
【0013】
また、配線基板の形成材料は樹脂材料などの有機材料であることが好ましいが、特に、配線基板は、複数の突起電極が配置された電極形成領域を基板主面上に有する樹脂製配線基板であることが好ましい。その理由は、配線基板を接触状態で搬送しようとする場合に、配線基板の基板主面に形成された突起電極が吸引部に押し潰されて変形するという問題が起こり、これを解決するうえで上記手段の非接触搬送装置を採用する意義が発生するからである。また、樹脂製配線基板には静電気が溜まりやすく、異物が付着しやすいという問題があるため、これを解決するうえで上記手段を採用する意義が大きいからである。
【0014】
なお、エア吹出穴の数は3個以上であるが、特には3個以上10個以下であることが好ましい。仮に、吸引部がエア吹出穴を10個よりも多く有している場合、凹部の内周面にて全てのエア吹出穴を開口させることが困難になる。また、吸引部の加工コストが高くなるという問題もある。また、エア吹出穴の数が偶数個であれば、エア吹出穴を凹部の中心軸を基準として等角度間隔に配置しやすくなるため、吸引部の設計が容易になる。
【0015】
ここで、複数のエア吹出穴は、例えば、接線に対して凹部の中心側に15°以上45°以下だけ傾斜した状態で開口していることが好ましい。仮に、エア吹出穴が接線に対して凹部の中心側に傾斜する角度が15°未満になると、エア吹出穴から噴出したエアをイオンエアに接触させることが困難になるため、エアによってイオンエアを十分に拡散させることができない可能性がある。一方、エア吹出穴が接線に対して凹部の中心側に傾斜する角度が45°よりも大きくなると、イオンエアから噴出したエアがイオンエアに衝突した際にイオンエアの流れが乱れてしまうため、イオンエアによって基板主面上の異物を確実に除去できなくなる。
【0016】
また、複数のエア吹出穴は、例えば、吸引面に対して凹部の外側に−20°以上20°以下だけ傾斜した状態で開口していることが好ましい。仮に、エア吹出穴が吸引面に対して凹部の外側に傾斜する角度が−20°よりも小さくになると、配線基板を吸引面に吸引保持した際に吸引面と基板主面との距離が小さくなるため、エア吹出穴から噴出したエアの流速が高くなりすぎてしまう。その結果、エアと配線基板との摩擦によって静電気が発生しやすくなるため、配線基板が帯電しやすくなってしまう。一方、エア吹出穴が吸引面に対して凹部の外側に傾斜する角度が20°よりも大きくなると、配線基板を吸引面に吸引保持した際に吸引面と基板主面との距離が大きくなりすぎてしまう。その結果、エア吹出穴から噴出したエアの流速が低くなりすぎるため、エアによってイオンエアを基板主面全体に拡散させにくくなる。
【0017】
さらに、複数のエア吹出穴の内径は特に限定されないが、例えば、内径が0.5mm以上2.0mm以下に設定されていてもよい。なお、内径が0.5mm未満になると、エア吹出穴を通過するエアの量が少なくなるため、エア吹出穴から噴出したエアによってイオンエアを十分に拡散させることができない可能性がある。一方、内径が2.0mmよりも大きくなると、エア吹出穴を通過するエアの流速が低くなりすぎるため、この場合も、エア吹出穴から噴出したエアによってイオンエアを十分に拡散させることができない可能性がある。
【0018】
また、イオンエア吹出穴の形状等は特に限定されないが、例えば、イオンエア吹出穴の中心軸線は、配線基板の基板主面に対して垂直に配置されていることが好ましい。このようにすれば、イオンエア吹出穴から基板主面に向けて垂直にエアを吹き付けることができる。その結果、基板主面に向けて斜めにエアを吹き付ける場合よりも、エアが基板主面に衝突する勢いが強くなるため、基板主面上の異物をより確実に除去することができる。
【0019】
なお、吸引部は、例えば、複数のエア吹出穴にエアを供給するエア流路と、イオンエア吹出穴にイオンエアを供給するイオンエア流路とをそれぞれ別々に有している。イオンエア流路の構造としては特に限定されないが、例えば、イオンエア流路は、イオンエア吹出穴の中心軸線に沿って延びる直線状の流路であることが好ましい。仮に、イオンエア流路が複雑に屈曲していると、イオンエア流路を流れるイオンエアの抵抗が大きくなるため、イオンエア流路の内圧が上昇する。その結果、イオンエア流路内にイオンが飽和し、これに伴ってイオナイザからのイオンの放出も停止してしまう。
【0020】
また、吸引部がエア流路とイオンエア流路とを別々に有する場合、通常、イオンエア流路の側方にエア流路を配置することが考えられる。しかし、イオンエアの流量を増やすためにイオンエア流路の流路面積を大きくすると、その分だけ吸引部に占めるエア流路の割合が少なくなるため、エア流路の流路面積が小さくなり、エア流路を流れるエアの流量が低下してしまう。この問題を解決するためには、エア流路の流路面積を大きくすることが考えられるが、そうすると、吸引部の大型化につながってしまう。そこで、エア流路は、例えば、吸引部の外周面からイオンエア吹出穴側に延びる導入流路と、イオンエア流路を包囲するとともにイオンエア流路の中心軸線に沿って延びる環状をなし、上流側の端部において導入流路に連通し、下流側の端部において複数のエア吹出穴に連通する環状流路とからなることが好ましい。このようにすれば、エア流路を構成する環状流路がイオンエア流路を包囲するため、イオンエア流路の側方にエア流路を配置する場合に比べて、吸引部を小型化することができる。しかも、エア流路の一部が環状の流路となるため、エア流路の流路面積を確保することができ、エア流路を流れるエアの流量を大きくすることができる。
【0021】
また、上記課題を解決するための別の手段(手段2)としては、上記手段1に記載の非接触搬送装置を用いて、被搬送物である配線基板の基板主面を前記吸引面に吸引保持して搬送することにより、配線基板を製造する方法において、前記イオンエア吹出穴から前記基板主面に向けてイオンエアを吹き付けるとともに、前記複数のエア吹出穴から前記凹部の内周面に沿って噴出したエアにより、前記イオンエア吹出穴から吹き付けられたイオンエアを前記基板主面全体に拡散させることで、前記基板主面上の異物を除去することを特徴とする配線基板の製造方法がある。
【0022】
従って、上記手段2の製造方法によると、上記手段1の非接触搬送装置を用いて異物の除去や配線基板の除電を確実にかつ均一に行うことにより、配線基板を製造することができる。ゆえに、例えば搬送後の導通検査において、異物の付着に起因して配線基板が不良品であると判定されにくくなるため、配線基板の歩留まりを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【0023】
【図1】本実施形態における非接触搬送装置の概略構成を示す正面図。
【図2】配線基板の概略構成を示す断面図。
【図3】非接触搬送装置の概略構成を示す下面図。
【図4】吸引部を示す下面図。
【図5】図4のA−A線断面図。
【図6】エア吹出穴の位置関係を示す下面図。
【図7】吸引部を示す要部断面図。
【図8】非接触搬送装置を示す回路図。
【図9】他の実施形態における樹脂製パッドを示す正面図。
【図10】樹脂製パッド及び下側部材を示す側面図。
【発明を実施するための形態】
【0024】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図面に基づき詳細に説明する。
【0025】
図1に示されるように、非接触搬送装置が備える搬送ヘッド11は、被搬送物である配線基板110を気流の作用を利用して搬送するものである。
【0026】
図2に示されるように、本実施形態の配線基板110は、ICチップ搭載用のオーガニック・パッケージ(樹脂製配線基板)であり、複数の製造工程後であって検査工程前の状態を示している。配線基板110は、略矩形板状のコア基板111と、コア基板111のコア主面112(図2では上面)上に形成される第1ビルドアップ層114と、コア基板111のコア裏面113(図2では下面)上に形成される第2ビルドアップ層115とからなる。ビルドアップ層114,115は、熱硬化性樹脂(エポキシ樹脂)からなる樹脂絶縁層と、銅からなる導体層とを交互に積層した構造を有している。また、配線基板110の基板主面120上(第1ビルドアップ層114の上面上)における複数箇所には、端子パッド116(突起電極)がアレイ状に形成され、配線基板110の基板裏面121上(第2ビルドアップ層115の下面上)における複数箇所には、BGA用パッド117がアレイ状に形成されている。さらに、端子パッド116の表面上には、複数のはんだバンプ118(突起電極)が配設されている。各はんだバンプ118には、矩形平板状をなすICチップの端子が接続されるようになっている。なお、各端子パッド116及び各はんだバンプ118からなる領域は、ICチップを搭載可能な電極形成領域119である。
【0027】
図1,図3に示される搬送ヘッド11は、搬送用多関節ロボット(図示略)のアームの先端に装着されている。搬送ヘッド11は、スライドテーブル2と、正面視L字状をなす接続板12を介してスライドテーブル2に取り付けられる吸引部20とを備えている。スライドテーブル2は、上下方向に沿って延びるテーブル本体3に取り付けられており、上下動可能になっている。吸引部20は、吸引面21を配線基板110に向けた状態で配線基板110に対して接近及び離間するようになっている。
【0028】
また、搬送ヘッド11は、配線基板110を位置ずれ不能に保持固定するエアチャック181を備えている。エアチャック181は、チャック本体183と、基端部においてチャック本体183に固定されるとともに互いに離間した状態で吸引部20側に延びる一対の腕部182と、腕部182の先端部に接続されるとともに互いに対向する一対の接触部184とを備えている。チャック本体183は、両腕部182を駆動することにより、両接触部184を互いに接近及び離間させるようになっている。また、両接触部184は、配線基板110よりも硬度が高い樹脂(本実施形態ではPEEK樹脂)によって形成され、内側にそれぞれ係合凹部185を有している。両係合凹部185は、スライドテーブル2を下降させた基板保持固定時に、配線基板110を構成する4つの角部のうち互いに反対側に位置する2つの角部を保持するようになっている。
【0029】
図4,図5に示されるように、吸引部20は、吸引部本体22、ノズル支持体51及び樹脂製パッド40を備えている。吸引部本体22は、金属材料(本実施形態では、プラチナを含有するアルミニウム合金)によって形成され、縦50mm×横50mm×高さ67mmの略直方体状をなしている。吸引部本体22は、同吸引部本体22の上部を構成する上側部材201と、吸引部本体22の下部を構成する下側部材211とからなり、両部材201,211は互いに分割可能な構造となっている。上側部材201は、縦50mm×横50mm×高さ22mmの略直方体状をなすブロック材によって形成されている。
【0030】
上側部材201の中央部には、同上側部材201の上面202にて開口する第1ポート取付孔30が設けられている。第1ポート取付孔30には第1ポート90が取り付けられている。なお、第1ポート90は、導電性金属によって形成され、第1ポート90には、ポリウレタンにカーボンブラックを混入させた材料からなる帯電防止チューブ(図示略)が接続されている。また、上側部材201の下面203における中央部には、ノズル61が突設されている。さらに、上側部材201における第1ポート取付孔30の外側領域には、上面202にて開口する一対のネジ挿通孔34が設けられている。なお、搬送ヘッド11の接続板12を貫通したネジ(図示略)をネジ挿通孔34に螺着させることにより、吸引部20が搬送ヘッド11に取り付けられる。さらに、上側部材201には、同上側部材201の下面203にて開口する上側ピン収容穴35と、上側部材201の側面(吸引部20の外周面25)にて開口するとともに上側ピン収容穴35に連通する係合ピン孔36とが設けられている。そして、上側部材201の側面には、部材接続コネクタ37が装着されている。部材接続コネクタ37は係合ピン38を備え、係合ピン38の先端部は係合ピン孔36内に挿入されている。係合ピン38は、バネ39によって上側ピン収容穴35側に付勢されるようになっている。
【0031】
図4,図5に示されるように、下側部材211は、縦50mm×横50mm×高さ45mmの略直方体状をなすブロック材によって形成されている。下側部材211には、下側部材211の側面(吸引部20の外周面25)にて開口する第2ポート取付孔31、第3ポート取付孔32及び第4ポート取付孔33が設けられている。第2ポート取付孔31には第2ポート91が取り付けられ、第3ポート取付孔32には第3ポート92が取り付けられている。さらに、第4ポート取付孔33には第4ポート93が取り付けられている。なお、各ポート91〜93は、導電性金属によって形成され、各ポート91〜93には帯電防止チューブが接続されている。
【0032】
また、下側部材211の中央部には、同下側部材211の上面23及び下面24を貫通する第1ノズル挿通孔26が設けられている。なお、第1ノズル挿通孔26の上面23側端部はネジ孔となっており、第1ノズル挿通孔26の下面24側端部は、後述するエア流路221の環状流路223となる凹部となっている。さらに、下側部材211における第1ノズル挿通孔26の外側領域には、下側部材211の上面23にて開口する下側ピン収容穴28と、下側部材211の側面(吸引部20の外周面25)にて開口するとともに下側ピン収容穴28に連通する空気抜き穴29とが設けられている。よって、上側部材201側の上側ピン収容穴35にピン19の先端部を挿入するとともに、下側ピン収容穴28にピン19の基端部を挿入した状態で、ピン19の先端部に設けられたくびれ部18に係合ピン38の先端部を係合させることにより、両部材201,211が互いに固定される。
【0033】
図5に示されるように、下側部材211には、下面24にて開口する16個の集塵流路191が設けられている。各集塵流路191は、下側部材211における第1ノズル挿通孔26の外側領域に配置されている。そして、各集塵流路191は、第3ポート取付孔32に連通し、集塵ユニット151(図8参照)に接続されている。また、下側部材211には、下面24にて開口する4個の吸着流路195が設けられている。各吸着流路195は、下側部材211における第1ノズル挿通孔26及び各集塵流路191の外側領域に配置されている。そして、吸着流路195は、第4ポート取付孔33に連通し、吸着ユニット161(図8参照)に接続されている。
【0034】
また、ノズル支持体51は、下側部材211の第1ノズル挿通孔26に収容され、上端部が第1ノズル挿通孔26の上面23側端部に螺着されている。ノズル支持体51は、金属材料(本実施形態ではアルミニウム)によって形成され、外径11mm×高さ42mmの略円環状をなしている。また、ノズル支持体51には、内径3.5mmの第2ノズル挿通孔55が設けられている。第2ノズル挿通孔55は、ノズル支持体51の上面52及び下面53(図7参照)を貫通している。
【0035】
図4〜図7に示されるように、ノズル61は、第2ノズル挿通孔55に挿入され、外径7mm×高さ42mmの略円環状をなしている。ノズル61の内部には、イオンエアを供給する内径2.5mmのイオンエア流路71が設けられている。イオンエア流路71は、吸引面21の一部を構成するノズル61の下端面62にて開口している。また、イオンエア流路71は、第1ポート取付孔30に連通し、イオナイザ141(図8参照)に接続されている。さらに、ノズル61の下端面62(吸引部20の吸引面21)には、下方から見て円形状をなす凹部73が設けられている。また、凹部73の中心には、断面略台形状であって下方から見て円形状をなすノズル先端部75が突設されている。
【0036】
また、凹部73の中心部には、イオンエア流路71に連通するイオンエア吹出穴82が6箇所に設けられている。具体的に言うと、各イオンエア吹出穴82は、凹部73の中心軸C1を基準として等角度(60°)間隔で配置されており、ノズル先端部75の外周部にて開口している。そして、各イオンエア吹出穴82は、中心軸線が配線基板110の基板主面120に対して垂直に配置されており、イオンエア流路71から供給されてきたイオンエアを基板主面120に向けて垂直に吹き付けるようになっている。即ち、イオンエア流路71は、イオンエア吹出穴82の中心軸線に沿って延びる直線状の流路である。
【0037】
図5,図7に示されるように、下側部材211には、エアを供給するエア流路221がイオンエア流路71とは別々に設けられている。エア流路221は、導入流路222及び環状流路223からなっている。導入流路222は、吸引部20の外周面25からイオンエア吹出穴82側に延びている。また、導入流路222は、第2ポート91に連通し、エアユニット231(図8参照)に接続されている。環状流路223は、第1ノズル挿通孔26とノズル支持体51との間に形成された流路であり、イオンエア流路71を包囲するとともに、イオンエア流路71の中心軸線に沿って延びる環状をなしている。環状流路223は、上流側の端部において導入流路222に連通している。
【0038】
図4〜図7に示されるように、吸引部20には、環状流路223の下流側の端部に連通するとともに、凹部73の内周面にて開口するエア吹出穴81が6箇所に設けられている。各エア吹出穴81は、エア流路221から供給されてきたエアを凹部73内に噴出するようになっている。そして、それぞれのエア吹出穴81から噴出されるエアは、凹部73の周方向に沿って導かれ、イオンエア吹出穴82から基板主面120に向けて吹き付けられたイオンエアに衝突することにより、イオンエアを基板主面120全体に拡散させるようになっている。なお、本実施形態の吸引部20は、吸引部本体22と配線基板110との間に発生する空気流によって生じるベルヌーイ効果を利用して配線基板110を保持するようにしたベルヌーイチャックである。
【0039】
なお図6に示されるように、各エア吹出穴81は、凹部73の中心軸C1を基準としたときに回転対称となるように配置されており、凹部73の周方向に沿って開口している。詳述すると、各エア吹出穴81は、中心軸C1と同心状に設定された仮想円C2上において、各イオンエア吹出穴82を取り囲むように設けられている。また、各エア吹出穴81は、中心軸C1を基準として等角度(60°)間隔で配置されている。さらに、各エア吹出穴81は、エア吹出穴81の位置にて接する仮想円C2の接線L1に対して、凹部73の中心側に同じ角度θ1(本実施形態では30°)だけ傾斜した状態で開口している。また、各エア吹出穴81は、吸引面21に対して凹部73の外側に傾斜していない状態で開口している。即ち、各エア吹出穴81は、吸引面21に対して平行に開口している。さらに、エア吹出穴81は、隣接するエア吹出穴81に向かって開口している。なお、各エア吹出穴81の内径は1.2mmに設定されている。
【0040】
図4に示されるように、樹脂製パッド40は、下側部材211に取り付けられ、正面(下面)が吸引面21となっている。樹脂製パッド40は、樹脂材料(本実施形態ではエーテル系ウレタン)によって形成され、縦37mm×横37mm×高さ2.0mmの略矩形板状をなしている。また、樹脂製パッド40の中央部には、直径16mmの貫通孔41が設けられている。貫通孔41は、吸引部本体22の凹部73等を露出させるようになっている。さらに、樹脂製パッド40には、集塵流路191に連通する16個の集塵穴42が設けられている。各集塵穴42は、貫通孔41及び凹部73の外側領域にて開口するように配設され、凹部73を包囲するように樹脂製パッド40の外周縁(四辺)に沿って等間隔で配置されている。
【0041】
図4に示されるように、吸引面21の最外周部、即ち、樹脂製パッド40の4つの角部には、吸引面21より1.0mmだけ突出した凸部44が形成されている。さらに、樹脂製パッド40には、4個の真空吸着穴45がそれぞれの凸部44にて開口するように配設されている。即ち、各真空吸着穴45は、貫通孔41及び凹部73の外側領域にて開口するように配設されている。そして、各真空吸着穴45は、下側部材211の吸着流路195に連通している(図5参照)。
【0042】
なお、エアチャック181の接触部184には、静電電位センサ105(図8参照)が設置されている。静電電位センサ105は、接触部184内に埋設されており、接触部184の係合凹部185から露出するように配置されている。つまり、静電電位センサ105は、配線基板110の外周縁に接触する位置に設けられている。静電電位センサ105は、配線基板110に帯電した静電気を測定して、静電気測定信号を出力するようになっている。
【0043】
次に、非接触搬送装置のシステム構成について説明する。
【0044】
図8に示されるように、非接触搬送装置は、加圧エアを送り出すエア供給源131を備えている。また、非接触搬送装置は、エア供給源131と吸引部20との間を連通しうるエア供給流路130を備えている。エア供給流路130は、下流側において、第1エア流路140、第2エア流路150及び第3エア流路160に分岐している。第1エア流路140は、帯電防止チューブ及び第1ポート90(図5,図8のP3参照)を介して吸引部20のイオンエア流路71に連通している。第2エア流路150は、帯電防止チューブ及び第2ポート91(図5,図8のP2参照)を介して吸引部20のエア流路221に連通している。第3エア流路160は、帯電防止チューブ及び第4ポート93(図5,図8のP1参照)を介して吸引部20の吸着流路195に連通している。
【0045】
図8に示されるように、エア供給流路130上にはエア供給バルブ132が設置されている。エア供給バルブ132は、エア供給源131の下流側に配置されており、エア供給流路130を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。エア供給バルブ132は、開状態に切り替えられた際に、下流側にエアを供給可能とするようになっている。なお、本実施形態のエア供給バルブ132は、図示しないソレノイドにより作動する電磁弁である。
【0046】
また、エア供給流路130上には、エア供給流路130内のエア圧力を一定値に調整する空気圧調整ユニット133が設置されている。即ち、空気圧調整ユニット133は、エア供給流路130を介してエア供給バルブ132及びエア供給源131と流路的に接続されている。空気圧調整ユニット133は、エアフィルタ134、圧力計135及び減圧弁136を備えている。エアフィルタ134は、エア供給バルブ132の下流側に配置されており、エア供給流路130内を通過するエアに含まれる異物を除去するようになっている。また、圧力計135は、エアフィルタ134の下流側に配置されており、エア供給流路130内を通過するエアの圧力を計測するようになっている。さらに、減圧弁136は、圧力計135の下流側に配置されており、エア供給流路130内を通過するエアの減圧を行い、減圧したエアを下流側に供給するようになっている。また、エア供給流路130上にはエアフィルタ137が設置されている。エアフィルタ137は、減圧弁136の下流側に配置されており、エア供給流路130内を通過するエアに含まれる水分を除去するようになっている。
【0047】
図8に示されるように、第1エア流路140上にはイオンエアユニット147が設置されている。イオンエアユニット147は、減圧弁145、圧力計146、電磁弁143、エアフィルタ144及びイオナイザ141を備えている。減圧弁145は、エアフィルタ137の下流側に配置されており、第1エア流路140内を通過するエアの減圧を行い、減圧したエアを下流側に供給するようになっている。圧力計146は、減圧弁145の下流側に配置されており、第1エア流路140内を通過するエアの圧力を計測するようになっている。
【0048】
また、電磁弁143は、圧力計146の下流側に配置されており、第1エア流路140を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。電磁弁143は、開状態に切り替えられた際に、下流側にエアを供給可能とするとともに、エアを適宜排気してエア圧力を減圧調整するようになっている。なお、本実施形態の電磁弁143は、単動ソレノイドによって作動する2位置、直動ノーマルクローズの電磁弁であり、後述する制御装置101から出力される制御信号に基づいて開状態に切り替えられる。また、エアフィルタ144は、電磁弁143の下流側に配置されており、第1エア流路140内を通過するイオンエアに含まれる異物を除去するようになっている。
【0049】
図8に示されるように、イオナイザ141は、DC方式のイオナイザであり、エアフィルタ144の下流側に配置されている。イオナイザ141は、第1エア流路140と連通するイオナイザ本体142と、イオナイザ本体142内に突出する2本の放電針(正極側及び負極側の放電針)と、各放電針に直流電圧を印加する高圧電源とを備えている。各放電針は、直流電圧が印加された際にコロナ放電を行うことにより、先端部分の周囲にイオンを発生させるようになっている。詳述すると、正極側の放電針は、印加する直流電圧の極性が正(+)である場合に陽イオンを発生させ、負極側の放電針は、印加する直流電圧の極性が負(−)である場合に陰イオンを発生させるようになっている。そして、イオナイザ141は、イオナイザ本体142内に導かれてきたエアに発生させたイオンを混合させることにより、イオンエアを生成するようになっている。さらに、イオナイザ141は、生成したイオンエアを第1エア流路140の下流側に放出するようになっている。なお、イオンエアは、帯電防止チューブ及び第1ポート90を介して吸引部20のイオンエア流路71に導かれる。
【0050】
図8に示されるように、第2エア流路150上にはエアユニット231が設置されている。エアユニット231は、電磁弁232、流量調整弁233及びエアフィルタ234を備えている。電磁弁232は、エアフィルタ137の下流側に配置されており、第2エア流路150を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。電磁弁232は、開状態に切り替えられた際に、下流側にエアを供給可能とするとともに、エアを適宜排気してエア圧力を減圧調整するようになっている。なお、本実施形態の電磁弁232は、単動ソレノイドによって作動する2位置、直動ノーマルクローズの電磁弁であり、制御装置101から出力される制御信号に基づいて開状態に切り替えられる。また、流量調整弁233は、電磁弁232とエアフィルタ234とをつなぐ流路の途中に配置されており、第2エア流路150を流れるエアを定量的に排気してそのエアの圧力が一定値となるよう減圧調整する絞り弁である。エアフィルタ234は、流量調整弁233の下流側に配置されており、第2エア流路150内を通過するエアに含まれる異物を除去するようになっている。
【0051】
図8に示されるように、第3エア流路160上には吸着ユニット161が設置されている。また、吸着ユニット161は、基板吸着流路158と、第3エア流路160に連通する真空破壊流路159とに分岐している。
【0052】
基板吸着流路158上には、第1電磁弁162及びエアフィルタ167が設置されている。第1電磁弁162は、エアフィルタ137の下流側に配置されており、基板吸着流路158を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。第1電磁弁162は、開状態に切り替えられた際に、吸引部20の真空吸着穴45近傍にあるエアを、吸着流路195、第4ポート93及びエアフィルタ167等を介して真空引きするとともに、エアを適宜吸入してエア圧力を加圧調整するようになっている。なお、本実施形態の第1電磁弁162は、単動ソレノイドによって作動する2位置、直動ノーマルクローズの電磁弁であり、制御装置101から出力される制御信号に基づいて開状態に切り替えられる。
【0053】
図8に示されるように、真空破壊流路159上には、第2電磁弁168、流量調整弁169及び圧力スイッチ170が設置されている。第2電磁弁168は、エアフィルタ137の下流側に配置されており、真空破壊流路159を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。第2電磁弁168は、開状態に切り替えられた際に、エアフィルタ167と吸引部20とをつなぐ接続流路にエアを供給して、その接続流路の真空度を弱めるようになっている。それとともに、第2電磁弁168は、開状態に切り替えられた際に、真空破壊流路159を流れるエアを適宜排気して減圧調整するようになっている。なお、本実施形態の第2電磁弁168は、単動ソレノイドによって作動する2位置、直動ノーマルクローズの電磁弁であり、制御装置101から出力される制御信号に基づいて開状態に切り替えられる。また、流量調整弁169は、第2電磁弁168と圧力スイッチ170とをつなぐ流路の途中に配置されており、真空破壊流路159を流れるエアを定量的に排気してそのエアの圧力が一定値となるよう減圧調整する絞り弁である。圧力スイッチ170は、流量調整弁169及びエアフィルタ167の下流側に配置されている。圧力スイッチ170は、真空破壊流路159内の圧力が所定値を超えたこと(即ち、真空破壊されていること)を契機としてオン状態となり、真空破壊信号を制御装置101のCPU102に対して出力するようになっている。
【0054】
図8に示されるように、非接触搬送装置は真空流路153を備え、真空流路153上には集塵ユニット151が設置されている。真空流路153は、帯電防止チューブ及び第3ポート92(図5,図8のP4参照)を介して吸引部20の集塵流路191に連通している。集塵ユニット151は、電磁弁152及びエアフィルタ157を備えている。電磁弁152は、真空流路153を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。電磁弁152は、開状態に切り替えられた際に、吸引部20の集塵穴42近傍にあるエアを、集塵流路191、第3ポート92及びエアフィルタ157等を介して吸引するとともに、エアを適宜吸入してエア圧力を加圧調整するようになっている。なお、本実施形態の電磁弁152は、単動ソレノイドによって作動する2位置、直動ノーマルクローズの電磁弁であり、制御装置101から出力される制御信号に基づいて開状態に切り替えられる。
【0055】
次に、非接触搬送装置の電気的構成について説明する。
【0056】
図8に示されるように、非接触搬送装置は、装置全体を制御する制御装置101を備えている。制御装置101は、CPU102、ROM103、RAM104及び入出力回路等により構成されている。CPU102は、エア供給バルブ132、イオナイザ141、電磁弁143,152,232、第1電磁弁162及び第2電磁弁168に電気的に接続されており、各種の駆動信号によってそれらを制御する。
【0057】
また、CPU102には、静電電位センサ105から出力された静電気測定信号が入力されるようになっている。そして、CPU102は、静電気測定信号が示す静電気の電荷の極性に基づいて、吸引部20によって吸引される配線基板110が正(+)に帯電しているか負(−)に帯電しているかを判定するようになっている。配線基板110が正に帯電していると判定された場合、CPU102は、イオナイザ141に駆動信号を出力し、直流電圧を印加して負極側の放電針に陰イオンを発生させる制御を行うようになっている。一方、配線基板110が負に帯電していると判定された場合、CPU102は、イオナイザ141に駆動信号を出力し、直流電圧を印加して正極側の放電針に陽イオンを発生させる制御を行うようになっている。このような制御によれば、配線基板110に帯電した静電気を確実に中和させることができる。
【0058】
なお本実施形態では、DC方式のイオナイザ141を用いているが、それに代えてAC方式のイオナイザを用いてもよい。AC方式のイオナイザは、イオナイザ本体と、イオナイザ本体内に突出する1本の放電針と、放電針に交流電圧を印加する高圧電源とを備えている。放電針は、交流電圧が印加された際に、印加する交流電圧の極性に応じて陽イオンまたは陰イオンを発生させるようになっている。この場合、CPU102は、静電電位センサ105から出力された静電気測定信号が入力されると、静電気測定信号が示す静電気の電荷量に基づいて配線基板110が帯電しているか否かを判定する。配線基板110が帯電していると判定された場合、CPU102は、イオナイザ141に駆動信号を出力し、イオナイザ141の出力を強くする制御を行う。一方、配線基板110が帯電していないと判定された場合、CPU102は、イオナイザ141に駆動信号を出力し、イオナイザ141の出力を弱くする制御を行う。このような制御によれば、配線基板110の帯電を確実に防止することができる。また、イオナイザ141が必要以上に作動することを防止することができる。
【0059】
次に、配線基板110の非接触搬送方法を説明する。
【0060】
本実施形態の配線基板110は、複数の製造工程を経て製造され、導通検査を行う検査工程を受けた後に出荷される。なお、配線基板110は、製造工程が終了する度に基板支持台(図示略)上に配置される。この状態において、非接触搬送装置を用いて配線基板110を搬送する。詳述すると、搬送用多関節ロボットのアームを駆動して搬送ヘッド11を下降させる。
【0061】
続くエア噴出工程において、CPU102は、エア供給バルブ132及び電磁弁232に駆動信号を出力して、エア供給バルブ132及び電磁弁232を開状態に切り替える。その結果、エア供給源131から送り出された加圧エアが、エア供給流路130を通過して第2エア流路150に導かれる。そして、第2エア流路150に導かれたエアは、第2ポート91(図5,図8のP2参照)を介して吸引部20内に流入し、エア流路221に導かれる。
【0062】
なお本実施形態では、エア流路221に導かれたエアは、エア吹出穴81を通過し、エア吹出穴81から凹部73の内周面に沿って噴出する。その結果、エア吹出穴81から噴出したエアの大部分は、エア吹出穴81が開口する方向に流れて凹部73外に流出した後、吸引面21と基板主面120との隙間を通過し、この際に高速流となって吸引部20の外側に放出される。その結果、吸引面21と基板主面120との間に生じた空間が負圧となり、配線基板110の基板主面120が吸引面21に吸引保持される(図1参照)。また、エア吹出穴81から噴出されたエアの一部は、凹部73の周方向に沿って流れて旋回流を形成する。
【0063】
続く集塵工程において、CPU102は、電磁弁152に駆動信号を出力して、電磁弁152を開状態に切り替える。その結果、吸引部20の集塵穴42近傍にあるエアが、集塵流路191及び第3ポート92(図5,図8のP4参照)を介して吸引される。その結果、配線基板110の基板主面120上に付着している異物がエアとともに回収される。
【0064】
続くイオンエア噴出工程において、CPU102は、イオナイザ141及び電磁弁143に駆動信号を出力する。その結果、電磁弁143が開状態に切り替わるとともに、イオナイザ141が作動する。そして、エア供給源131から送り出された加圧エアが、エア供給流路130を通過して第1エア流路140上のイオナイザ141に流入する。イオナイザ141は、イオナイザ本体142内に導かれてきたエアにイオンを混合させることにより、イオンエアを生成する。そして、イオナイザ141は、生成したイオンエアをイオナイザ141の下流側に放出する。さらに、イオナイザ141から放出されたイオンエアが、第1エア流路140及び第1ポート90(図5,図8のP3参照)を介して吸引部20内に流入し、イオンエア流路71に導かれる。
【0065】
なお本実施形態では、イオンエア流路71に導かれたイオンエアを、イオンエア吹出穴82から配線基板110の基板主面120に向けて垂直に吹き付けることにより、基板主面120上の異物を除去する。また、イオンエア吹出穴82から吹き付けられたイオンエアには、エア吹出穴81から噴出したエアが衝突する。その結果、イオンエアが基板主面120全体に拡散するため、基板主面120上の異物が、吹き飛ばされることによって確実に除去される。
【0066】
続く位置決め工程では、搬送用多関節ロボットのアームを駆動して搬送ヘッド11とともに配線基板110を上昇させる。さらに、搬送ヘッド11のスライドテーブル2を駆動して吸引部20を下降させ、配線基板110の基板主面120に吸引部20の吸引面21を接近させる。そして、搬送ヘッド11のエアチャック181を駆動して腕部182の接触部184を配線基板110に近付ける。その結果、各接触部184の係合凹部185が配線基板110の2つの角部に係合し、配線基板110が位置ずれ不能に保持固定される。
【0067】
続く吸着工程において、CPU102は、第1電磁弁162に駆動信号を出力する。その結果、第1電磁弁162が開状態に切り替わり、吸引部20の真空吸着穴45近傍にあるイオンエアが、吸着流路195及び第4ポート93(図5,図8のP1参照)を介して真空引きされる。その結果、ベルヌーイ効果による吸引力と真空引きによる吸着力とによって、配線基板110の基板主面120が吸引面21により安定的に吸引保持される。
【0068】
その後、搬送ヘッド11のエアチャック181を駆動して接触部184を配線基板110から離間させる。その結果、配線基板110の角部に対する係合凹部185の係合が解除される。さらに、搬送ヘッド11のスライドテーブル2を駆動して、吸引部20を上昇させる。
【0069】
そして、搬送用多関節ロボットのアームを駆動し、検査工程用のラインに配線基板110を搬送する。配線基板110が検査工程用のラインに到達すると、配線基板110の釈放を行い、検査工程用のラインの支持台上に配線基板110を配置する。具体的に言うと、CPU102は、電磁弁143を閉状態に切り替える制御を行い、第1エア流路140を遮断する。その結果、吸引部20へのイオンエアの供給が停止され、イオンエア吹出穴82からのイオンエアの噴出が終了する。それと同時に、CPU102は、電磁弁152を閉状態に切り替える制御を行って真空流路153を遮断する。その結果、集塵穴42からのエアの吸引が終了する。また、搬送用多関節ロボットのアームを駆動して搬送ヘッド11とともに配線基板110を下降させる。
【0070】
次に、CPU102は、電磁弁232を閉状態に切り替える制御を行い、第2エア流路150を遮断する。その結果、吸引部20へのエアの供給が停止され、エア吹出穴81からのエアの噴出が終了する。それと同時に、CPU102は、第1電磁弁162を閉状態に切り替える制御を行って真空流路153を遮断する。
【0071】
また、CPU102は、第2電磁弁168に駆動信号を出力する。その結果、第2電磁弁168が開状態に切り替わり、エア供給源131から送り出された加圧エアが、エア供給流路130及び第3エア流路160を通過して真空破壊流路159に導かれ、エアフィルタ167と吸引部20とをつなぐ接続流路に供給される。そして、接続流路の真空破壊が行われ、接続流路の真空度が弱められ、配線基板110を吸引する力が弱くなる。その結果、真空吸着穴45からのイオンエアの真空引きが終了する。その後、CPU102は、第2電磁弁168を閉状態に切り替える制御を行って第3エア流路160を遮断する。
【0072】
そして、搬送用多関節ロボットのアームを駆動して搬送ヘッド11を上昇させる。その結果、搬送ヘッド11が配線基板110から離間し、配線基板110が検査工程用のラインの支持台上に配置される。
【0073】
従って、本実施形態によれば以下の効果を得ることができる。
【0074】
(1)本実施形態の非接触搬送装置では、6個のエア吹出穴81が、イオンエア吹出穴82を取り囲むように設けられ、凹部73の中心軸C1を基準として等角度間隔で配置されるとともに、仮想円C2の接線L1に対して同じ角度θ1だけ傾斜した状態で開口している。即ち本実施形態では、同じ向きに開口するエア吹出穴81が均等に配置されている。このため、各エア吹出穴81から噴出したエアがエア吹出穴81が開口する方向に流れ、イオンエアがエア吹出穴81から噴出したエアによってそれぞれのエア吹出穴81の近傍において拡散したとしても、イオンエアは、基板主面120の全体に確実に拡散する。よって、イオンエアを用いた基板主面120上の異物の除去や、イオンエアを用いた配線基板110の除電を、確実にかつ均一に行うことができる。ゆえに、搬送後の導通検査において、基板主面120上のはんだバンプ118に対してプローブ(図示略)を当接させた際に、プローブとはんだバンプ118との間に導通しない異物が噛み込むことが防止される。その結果、配線基板110が異物の存在に起因して不良品であると判定されにくくなるため、配線基板110の歩留まりが向上する。
【0075】
(2)本実施形態では、エア吹出穴81が6個設けられることにより、各エア吹出穴81から噴出するエアの流量を大きくすることができるため、エア吹出穴が2個しか設けられていない従来の構造よりも、配線基板110を吸引する力を大きくすることができる。その結果、基板主面120に吹き付けられたイオンエアが、配線基板110の吸引に伴って吸引面21側に押し戻された後、エア吹出穴81から噴出するエアに混合されるため、イオンエアをより確実に拡散させることができる。しかも、エア吹出穴81を3個以上設けた結果、気流が安定するようになるため、吸引時に配線基板110が回転することを防止できる。
【0076】
(3)エア吹出穴が2個しか設けられていない従来の構造の場合、異物の存在によってエア吹出穴が1つでも塞がってしまうと、エア吹出穴から噴出するエアの総量が半分になるため、エアによってイオンエアを十分に拡散できなくなる。一方、本実施形態では、6個のエア吹出穴81が設けられているため、一部のエア吹出穴81が塞がったとしても、エア吹出穴81から噴出するエアの総量は殆ど低下しない。このため、エア吹出穴81から噴出するエアを用いてイオンエアを確実に拡散させることができる。
【0077】
(4)本実施形態では、配線基板110の搬送時に、エア噴出工程→集塵工程→イオンエア噴出工程→位置決め工程→吸着工程の順で各工程を実施している。即ち、位置決め工程前にイオンエア吹出穴82からイオンエアを噴出することによって、配線基板110の吸引力を弱めておくことができるため、位置決め工程後において樹脂製パッド40の凸部44と配線基板110との接触抵抗を減らすことができる。ゆえに、凸部44との摩擦によって配線基板110が傷付いたり汚れたりすることを防止できる。
【0078】
(5)本実施形態では、配線基板110の搬送中においても、エア及びイオンエアを噴出し続けることによって異物の除去や配線基板110の除電を行っている。即ち、配線基板110の搬送工程と、異物の除去や除電を行う工程とを同時に行うことができるため、配線基板110の製造効率が向上する。
【0079】
(6)本実施形態では、第1ノズル挿通孔26の下面24側端部が、エア流路221の環状流路223となる凹部となっており、第1ノズル挿通孔26に収容したノズル支持体51の上端部を第1ノズル挿通孔26の上面23側端部に螺着させるだけで、環状流路223が形成される。このため、下側部材211を加工して環状流路223を形成する場合に比べて、環状流路223を容易に形成することができる。
【0080】
なお、本実施形態を以下のように変更してもよい。
【0081】
・上記実施形態では、エア吹出穴81から噴出されるエアとして、イオンが混合されていない通常のエアが用いられていた。しかし、エア吹出穴81から噴出されえるエアは、イオナイザ141から放出されるイオンエアであってもよい。
【0082】
・上記実施形態において、樹脂製パッド40及び吸引部20の構造を変更してもよい。例えば図9,図10に示される樹脂製パッド240には、4個の長孔242が設けられている。各長孔242は、上記実施形態において集塵穴42が設けられていた領域よりも外側領域にて開口するように配設され、樹脂製パッド40の外周縁(四辺)に沿って延びている。なお、各長孔242は、吸引部を構成する下側部材243に設けられた集塵流路244に連通している。集塵流路244は、下面245及び側面246にて開口するとともに、中心軸線C3が下面245に対して60°だけ傾斜した状態に配置されている。そして、各集塵流路244は、集塵ユニット151(図8参照)に接続されるのではなく、下側部材243の外側に連通している。即ち、長孔242及び集塵流路244は、吸引部の長孔242近傍にあるエアやイオンエアを上方に放出させる空気抜きとして機能する。
【0083】
・上記実施形態では、上側部材201の下面203における中央部にノズル61が突設されていた。即ち、ノズル61は上側部材201に一体形成されていた。しかし、ノズル61を上側部材201から分離できる構造としてもよい。例えば、ノズル61を上側部材201に対してネジ止めするようにしてもよい。
【0084】
・上記実施形態において、集塵ユニット151及び吸着ユニット161の少なくとも一方を省略してもよい。また、吸着ユニット161を省略しない場合、吸着ユニット161の真空破壊流路159上に設置された機器(第2電磁弁168、流量調整弁169及び圧力スイッチ170)を省略してもよい。
【0085】
・上記実施形態では、エア供給バルブ132、イオナイザ141、電磁弁143、電磁弁152、電磁弁232、第1電磁弁162及び第2電磁弁168の制御を1つのCPU102で制御するようにしたが、各制御を別々のCPUで行うように構成してもよい。
【0086】
・上記実施形態の非接触搬送装置は、単一製品の配線基板110を搬送するようになっていたが、例えば、配線基板110となるべき基板形成領域が平面方向に沿って複数配置された多数個取り用配線基板を搬送するようにしてもよい。
【0087】
・上記実施形態では、吸引部20を装着した搬送用多関節ロボットを用いて配線基板110を搬送していたが、吸引部20を装着したコンベアなどの搬送手段を用いて配線基板110を搬送してもよい。
【0088】
次に、前述した実施形態によって把握される技術的思想を以下に列挙する。
【0089】
(1)上記手段1において、前記吸引部とは別体にイオナイザを設け、前記イオナイザから放出されるイオンエアを前記イオンエア吹出穴から吹き付けられるイオンエアとして用いることを特徴とする配線基板の非接触搬送装置。
【0090】
(2)上記手段1において、前記基板主面上の異物を回収する集塵穴を前記吸引面における前記凹部の外側領域にて開口するように配設したことを特徴とする配線基板の非接触搬送装置。
【0091】
(3)上記手段1において、真空引きするための真空吸着穴を、前記凹部の外側領域にて開口するように配設したことを特徴とする配線基板の非接触搬送装置。
【符号の説明】
【0092】
20…吸引部
21…吸引面
25…吸引部の外周面
71…イオンエア流路
73…凹部
81…エア吹出穴
82…イオンエア吹出穴
110…被搬送物としての配線基板
116…突起電極としての端子パッド
118…突起電極としてのはんだバンプ
119…電極形成領域
120…基板主面
221…エア流路
222…導入流路
223…環状流路
C1…凹部の中心軸
C2…仮想円
L1…仮想円の接線
θ1…角度
【技術分野】
【0001】
本発明は、被搬送物である配線基板を、気流の作用を利用して搬送する配線基板の非接触搬送装置、非接触搬送装置を用いた配線基板の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【0002】
従来より、配線基板は、複数の製造工程を経て製造され、導通検査を行う検査工程を受けた後に出荷される。また、配線基板は、製造工程が終了する度に、次の工程を行うためのラインに搬送されるようになっている。なお、従来の搬送方法としては、エア吸着穴が開口された吸着ヘッドの下面に配線基板の表面を負圧で吸着し、この状態で、配線基板を吸着ヘッドとともに搬送する方法などが提案されている。しかし、吸着ヘッドで配線基板を搬送すると、吸着ヘッドの汚れや磨耗によって生じた異物(粉塵)が配線基板に付着するなどの問題がある。
【0003】
そこで、配線基板などの被搬送物を非接触状態で吸引しながら搬送することにより、配線基板への異物の付着を少なくした搬送装置が提案されている(例えば特許文献1参照)。かかる搬送装置は、搬送ヘッド、搬送ヘッドの先端面(吸引面)にて開口する気体供給孔、及び、搬送ヘッドに装着されるとともに円板部を有するノズルなどを備えている。そして、搬送ヘッドの吸引面を配線基板に接近させ、気体供給孔から供給されたエアを吸引面と円板部との間に形成されたスリットを介して外部に導出すると、エアが搬送ヘッドの外側に放射状に放出される。その結果、ノズル付近と配線基板との空間が負圧となり、配線基板が搬送ヘッドに吸引保持される。この状態において、ロボットアームなどを用いて搬送ヘッドを搬送すれば、配線基板を非接触状態で搬送することができる。
【0004】
ところが、エアが搬送ヘッド内を流れる際に、エアと搬送ヘッドとの摩擦によって静電気が発生し、搬送ヘッドが帯電してしまう。さらに、放出されたエアの一部が配線基板に衝突するため、エアと配線基板との摩擦によって静電気が発生し、配線基板も帯電してしまう。このとき、配線基板の表面には周囲に浮遊している異物が付着しやすくなっており、一旦付着すると異物の除去が困難である。また、配線基板搬送後に実施される上記の検査工程では、配線基板の表面上のはんだバンプに対してプローブなどの検査用治具を当接させることにより、配線基板の導通検査を行っている。従って、はんだバンプの表面に異物が付着した状態で導通検査を行うと、プローブとはんだバンプとの間に導通しない異物が噛み込んでしまうため、本来良品であるにもかかわらず、検査工程において不良品であると判定される可能性がある。
【0005】
そこで、イオンエア吹出穴から配線基板の基板主面に向けてイオンエアを吹き付けることで、基板主面上の異物をイオンエアで吹き飛ばして除去するとともに、配線基板に帯電した静電気の中和(除電)を行う技術が提案されている。また、2個のエア吹出穴をイオンエア吹出穴とは異なる位置に設け、各エア吹出穴から噴出したエアによってイオンエアを基板主面全体に拡散させる技術も提案されている。上記のようにすれば、導通検査において、異物の付着に起因して配線基板が不良品であると判定されにくくなるため、配線基板の歩留まりが向上する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特開2005−219922号公報(図1〜図5など)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
しかしながら、配線基板の周辺にイオンエアを放出したとしても、帯電した搬送ヘッドが配線基板に近付いた際に、イオンエアに含まれているイオンが搬送ヘッド側に流れてしまう。その結果、イオンが配線基板に届かなくなるため、配線基板に帯電した静電気を中和できないという問題が生じてしまう。また、エア吹出穴は2個しか設けられておらず、各エア吹出穴から噴出したエアは、殆どがエア吹出穴が開口する方向に流れてしまう。その結果、イオンエアは、殆どがエア吹出穴の近傍において拡散し、基板主面の全体に拡散しないため、異物の除去や除電を均一に行うことが困難になる。
【0008】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その第1の目的は、イオンエアを基板主面全体に拡散させることにより、異物の除去や除電を確実にかつ均一に行うことができる配線基板の非接触搬送装置を提供することにある。また、第2の目的は、上記の非接触搬送装置を用いた好適な配線基板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0009】
そして上記課題を解決するための手段(手段1)としては、吸引面に凹部が設けられるとともに、前記凹部の内周面にて開口する複数のエア吹出穴が設けられた吸引部を備え、前記複数のエア吹出穴から前記凹部の内周面に沿って噴出したエアにより発生する負圧によって、被搬送物である配線基板の基板主面を前記吸引面に吸引保持して搬送する非接触搬送装置において、前記基板主面にイオンエアを吹き付けるためのイオンエア吹出穴が、前記凹部の中心部に設けられ、前記複数のエア吹出穴が、前記凹部の中心軸と同心状に設定された仮想円上において前記イオンエア吹出穴を取り囲むように3個以上設けられ、前記凹部の中心軸を基準として等角度間隔で配置されるとともに、前記エア吹出穴の位置にて接する前記仮想円の接線に対して同じ角度だけ傾斜した状態で開口していることを特徴とする配線基板の非接触搬送装置がある。
【0010】
従って、上記手段1の非接触搬送装置によると、複数のエア吹出穴が、イオンエア吹出穴を取り囲むように3個以上設けられ、凹部の中心軸を基準として等角度間隔で配置されるとともに、エア吹出穴の位置にて接する仮想円の接線に対して同じ角度だけ傾斜した状態で開口している。即ち上記手段1では、同じ向きに開口するエア吹出穴が均等に配置されている。このため、各エア吹出穴から噴出したエアがエア吹出穴が開口する方向に流れ、イオンエアがエア吹出穴から噴出したエアによってそれぞれのエア吹出穴の近傍において拡散したとしても、イオンエアは、基板主面の全体に確実に拡散する。よって、イオンエアを用いた基板主面上の異物の除去や、イオンエアを用いた配線基板の除電を、確実にかつ均一に行うことができる。ゆえに、例えば搬送後の導通検査において、異物の付着に起因して配線基板が不良品であると判定されにくくなるため、配線基板の歩留まりを向上させることができる。
【0011】
また、エア吹出穴が3個以上設けられることにより、各エア吹出穴から噴出するエアの流量を大きくすることができるため、エア吹出穴が2個しか設けられていない従来の構造よりも、配線基板を吸引する力が大きくなる。しかも、エア吹出穴を3個以上設けた結果、気流が安定するようになるため、吸引時に配線基板が回転することを防止できる。
【0012】
なお、「配線基板」は、単一製品の配線基板だけでなく、配線基板となるべき基板形成領域が平面方向に沿って複数配置された多数個取り用配線基板も含むものとする。上記配線基板の形成材料としては、セラミック、金属、半導体などの無機材料や、樹脂などの有機材料を挙げることができ、コスト性、加工性、絶縁性、機械的強度などを考慮してそれらの中から適宜選択することができる。セラミック材料の好適例としては、例えばアルミナ、ガラスセラミック、結晶化ガラス等の低温焼成材料、窒化アルミニウム、炭化珪素、窒化珪素などがある。金属材料の好適例としては、銅、銅合金、鉄ニッケル合金などがある。半導体材料の好適例としては、例えばシリコンなどがある。そして、樹脂材料の好適例としては、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ビスマレイミド−トリアジン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂などがある。そのほか、これらの樹脂とガラス繊維(ガラス織布やガラス不織布)やポリアミド繊維等の有機繊維との複合材料を使用してもよい。あるいは、連続多孔質PTFE等の三次元網目状フッ素系樹脂基材にエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂を含浸させた樹脂−樹脂複合材料等を使用してもよい。特に、低コスト化などの観点からすれば、配線基板の形成材料として樹脂材料などの有機材料を選択することが好ましい。このような配線基板であれば、微細な導体層を比較的簡単にかつ正確に形成することができる。
【0013】
また、配線基板の形成材料は樹脂材料などの有機材料であることが好ましいが、特に、配線基板は、複数の突起電極が配置された電極形成領域を基板主面上に有する樹脂製配線基板であることが好ましい。その理由は、配線基板を接触状態で搬送しようとする場合に、配線基板の基板主面に形成された突起電極が吸引部に押し潰されて変形するという問題が起こり、これを解決するうえで上記手段の非接触搬送装置を採用する意義が発生するからである。また、樹脂製配線基板には静電気が溜まりやすく、異物が付着しやすいという問題があるため、これを解決するうえで上記手段を採用する意義が大きいからである。
【0014】
なお、エア吹出穴の数は3個以上であるが、特には3個以上10個以下であることが好ましい。仮に、吸引部がエア吹出穴を10個よりも多く有している場合、凹部の内周面にて全てのエア吹出穴を開口させることが困難になる。また、吸引部の加工コストが高くなるという問題もある。また、エア吹出穴の数が偶数個であれば、エア吹出穴を凹部の中心軸を基準として等角度間隔に配置しやすくなるため、吸引部の設計が容易になる。
【0015】
ここで、複数のエア吹出穴は、例えば、接線に対して凹部の中心側に15°以上45°以下だけ傾斜した状態で開口していることが好ましい。仮に、エア吹出穴が接線に対して凹部の中心側に傾斜する角度が15°未満になると、エア吹出穴から噴出したエアをイオンエアに接触させることが困難になるため、エアによってイオンエアを十分に拡散させることができない可能性がある。一方、エア吹出穴が接線に対して凹部の中心側に傾斜する角度が45°よりも大きくなると、イオンエアから噴出したエアがイオンエアに衝突した際にイオンエアの流れが乱れてしまうため、イオンエアによって基板主面上の異物を確実に除去できなくなる。
【0016】
また、複数のエア吹出穴は、例えば、吸引面に対して凹部の外側に−20°以上20°以下だけ傾斜した状態で開口していることが好ましい。仮に、エア吹出穴が吸引面に対して凹部の外側に傾斜する角度が−20°よりも小さくになると、配線基板を吸引面に吸引保持した際に吸引面と基板主面との距離が小さくなるため、エア吹出穴から噴出したエアの流速が高くなりすぎてしまう。その結果、エアと配線基板との摩擦によって静電気が発生しやすくなるため、配線基板が帯電しやすくなってしまう。一方、エア吹出穴が吸引面に対して凹部の外側に傾斜する角度が20°よりも大きくなると、配線基板を吸引面に吸引保持した際に吸引面と基板主面との距離が大きくなりすぎてしまう。その結果、エア吹出穴から噴出したエアの流速が低くなりすぎるため、エアによってイオンエアを基板主面全体に拡散させにくくなる。
【0017】
さらに、複数のエア吹出穴の内径は特に限定されないが、例えば、内径が0.5mm以上2.0mm以下に設定されていてもよい。なお、内径が0.5mm未満になると、エア吹出穴を通過するエアの量が少なくなるため、エア吹出穴から噴出したエアによってイオンエアを十分に拡散させることができない可能性がある。一方、内径が2.0mmよりも大きくなると、エア吹出穴を通過するエアの流速が低くなりすぎるため、この場合も、エア吹出穴から噴出したエアによってイオンエアを十分に拡散させることができない可能性がある。
【0018】
また、イオンエア吹出穴の形状等は特に限定されないが、例えば、イオンエア吹出穴の中心軸線は、配線基板の基板主面に対して垂直に配置されていることが好ましい。このようにすれば、イオンエア吹出穴から基板主面に向けて垂直にエアを吹き付けることができる。その結果、基板主面に向けて斜めにエアを吹き付ける場合よりも、エアが基板主面に衝突する勢いが強くなるため、基板主面上の異物をより確実に除去することができる。
【0019】
なお、吸引部は、例えば、複数のエア吹出穴にエアを供給するエア流路と、イオンエア吹出穴にイオンエアを供給するイオンエア流路とをそれぞれ別々に有している。イオンエア流路の構造としては特に限定されないが、例えば、イオンエア流路は、イオンエア吹出穴の中心軸線に沿って延びる直線状の流路であることが好ましい。仮に、イオンエア流路が複雑に屈曲していると、イオンエア流路を流れるイオンエアの抵抗が大きくなるため、イオンエア流路の内圧が上昇する。その結果、イオンエア流路内にイオンが飽和し、これに伴ってイオナイザからのイオンの放出も停止してしまう。
【0020】
また、吸引部がエア流路とイオンエア流路とを別々に有する場合、通常、イオンエア流路の側方にエア流路を配置することが考えられる。しかし、イオンエアの流量を増やすためにイオンエア流路の流路面積を大きくすると、その分だけ吸引部に占めるエア流路の割合が少なくなるため、エア流路の流路面積が小さくなり、エア流路を流れるエアの流量が低下してしまう。この問題を解決するためには、エア流路の流路面積を大きくすることが考えられるが、そうすると、吸引部の大型化につながってしまう。そこで、エア流路は、例えば、吸引部の外周面からイオンエア吹出穴側に延びる導入流路と、イオンエア流路を包囲するとともにイオンエア流路の中心軸線に沿って延びる環状をなし、上流側の端部において導入流路に連通し、下流側の端部において複数のエア吹出穴に連通する環状流路とからなることが好ましい。このようにすれば、エア流路を構成する環状流路がイオンエア流路を包囲するため、イオンエア流路の側方にエア流路を配置する場合に比べて、吸引部を小型化することができる。しかも、エア流路の一部が環状の流路となるため、エア流路の流路面積を確保することができ、エア流路を流れるエアの流量を大きくすることができる。
【0021】
また、上記課題を解決するための別の手段(手段2)としては、上記手段1に記載の非接触搬送装置を用いて、被搬送物である配線基板の基板主面を前記吸引面に吸引保持して搬送することにより、配線基板を製造する方法において、前記イオンエア吹出穴から前記基板主面に向けてイオンエアを吹き付けるとともに、前記複数のエア吹出穴から前記凹部の内周面に沿って噴出したエアにより、前記イオンエア吹出穴から吹き付けられたイオンエアを前記基板主面全体に拡散させることで、前記基板主面上の異物を除去することを特徴とする配線基板の製造方法がある。
【0022】
従って、上記手段2の製造方法によると、上記手段1の非接触搬送装置を用いて異物の除去や配線基板の除電を確実にかつ均一に行うことにより、配線基板を製造することができる。ゆえに、例えば搬送後の導通検査において、異物の付着に起因して配線基板が不良品であると判定されにくくなるため、配線基板の歩留まりを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【0023】
【図1】本実施形態における非接触搬送装置の概略構成を示す正面図。
【図2】配線基板の概略構成を示す断面図。
【図3】非接触搬送装置の概略構成を示す下面図。
【図4】吸引部を示す下面図。
【図5】図4のA−A線断面図。
【図6】エア吹出穴の位置関係を示す下面図。
【図7】吸引部を示す要部断面図。
【図8】非接触搬送装置を示す回路図。
【図9】他の実施形態における樹脂製パッドを示す正面図。
【図10】樹脂製パッド及び下側部材を示す側面図。
【発明を実施するための形態】
【0024】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図面に基づき詳細に説明する。
【0025】
図1に示されるように、非接触搬送装置が備える搬送ヘッド11は、被搬送物である配線基板110を気流の作用を利用して搬送するものである。
【0026】
図2に示されるように、本実施形態の配線基板110は、ICチップ搭載用のオーガニック・パッケージ(樹脂製配線基板)であり、複数の製造工程後であって検査工程前の状態を示している。配線基板110は、略矩形板状のコア基板111と、コア基板111のコア主面112(図2では上面)上に形成される第1ビルドアップ層114と、コア基板111のコア裏面113(図2では下面)上に形成される第2ビルドアップ層115とからなる。ビルドアップ層114,115は、熱硬化性樹脂(エポキシ樹脂)からなる樹脂絶縁層と、銅からなる導体層とを交互に積層した構造を有している。また、配線基板110の基板主面120上(第1ビルドアップ層114の上面上)における複数箇所には、端子パッド116(突起電極)がアレイ状に形成され、配線基板110の基板裏面121上(第2ビルドアップ層115の下面上)における複数箇所には、BGA用パッド117がアレイ状に形成されている。さらに、端子パッド116の表面上には、複数のはんだバンプ118(突起電極)が配設されている。各はんだバンプ118には、矩形平板状をなすICチップの端子が接続されるようになっている。なお、各端子パッド116及び各はんだバンプ118からなる領域は、ICチップを搭載可能な電極形成領域119である。
【0027】
図1,図3に示される搬送ヘッド11は、搬送用多関節ロボット(図示略)のアームの先端に装着されている。搬送ヘッド11は、スライドテーブル2と、正面視L字状をなす接続板12を介してスライドテーブル2に取り付けられる吸引部20とを備えている。スライドテーブル2は、上下方向に沿って延びるテーブル本体3に取り付けられており、上下動可能になっている。吸引部20は、吸引面21を配線基板110に向けた状態で配線基板110に対して接近及び離間するようになっている。
【0028】
また、搬送ヘッド11は、配線基板110を位置ずれ不能に保持固定するエアチャック181を備えている。エアチャック181は、チャック本体183と、基端部においてチャック本体183に固定されるとともに互いに離間した状態で吸引部20側に延びる一対の腕部182と、腕部182の先端部に接続されるとともに互いに対向する一対の接触部184とを備えている。チャック本体183は、両腕部182を駆動することにより、両接触部184を互いに接近及び離間させるようになっている。また、両接触部184は、配線基板110よりも硬度が高い樹脂(本実施形態ではPEEK樹脂)によって形成され、内側にそれぞれ係合凹部185を有している。両係合凹部185は、スライドテーブル2を下降させた基板保持固定時に、配線基板110を構成する4つの角部のうち互いに反対側に位置する2つの角部を保持するようになっている。
【0029】
図4,図5に示されるように、吸引部20は、吸引部本体22、ノズル支持体51及び樹脂製パッド40を備えている。吸引部本体22は、金属材料(本実施形態では、プラチナを含有するアルミニウム合金)によって形成され、縦50mm×横50mm×高さ67mmの略直方体状をなしている。吸引部本体22は、同吸引部本体22の上部を構成する上側部材201と、吸引部本体22の下部を構成する下側部材211とからなり、両部材201,211は互いに分割可能な構造となっている。上側部材201は、縦50mm×横50mm×高さ22mmの略直方体状をなすブロック材によって形成されている。
【0030】
上側部材201の中央部には、同上側部材201の上面202にて開口する第1ポート取付孔30が設けられている。第1ポート取付孔30には第1ポート90が取り付けられている。なお、第1ポート90は、導電性金属によって形成され、第1ポート90には、ポリウレタンにカーボンブラックを混入させた材料からなる帯電防止チューブ(図示略)が接続されている。また、上側部材201の下面203における中央部には、ノズル61が突設されている。さらに、上側部材201における第1ポート取付孔30の外側領域には、上面202にて開口する一対のネジ挿通孔34が設けられている。なお、搬送ヘッド11の接続板12を貫通したネジ(図示略)をネジ挿通孔34に螺着させることにより、吸引部20が搬送ヘッド11に取り付けられる。さらに、上側部材201には、同上側部材201の下面203にて開口する上側ピン収容穴35と、上側部材201の側面(吸引部20の外周面25)にて開口するとともに上側ピン収容穴35に連通する係合ピン孔36とが設けられている。そして、上側部材201の側面には、部材接続コネクタ37が装着されている。部材接続コネクタ37は係合ピン38を備え、係合ピン38の先端部は係合ピン孔36内に挿入されている。係合ピン38は、バネ39によって上側ピン収容穴35側に付勢されるようになっている。
【0031】
図4,図5に示されるように、下側部材211は、縦50mm×横50mm×高さ45mmの略直方体状をなすブロック材によって形成されている。下側部材211には、下側部材211の側面(吸引部20の外周面25)にて開口する第2ポート取付孔31、第3ポート取付孔32及び第4ポート取付孔33が設けられている。第2ポート取付孔31には第2ポート91が取り付けられ、第3ポート取付孔32には第3ポート92が取り付けられている。さらに、第4ポート取付孔33には第4ポート93が取り付けられている。なお、各ポート91〜93は、導電性金属によって形成され、各ポート91〜93には帯電防止チューブが接続されている。
【0032】
また、下側部材211の中央部には、同下側部材211の上面23及び下面24を貫通する第1ノズル挿通孔26が設けられている。なお、第1ノズル挿通孔26の上面23側端部はネジ孔となっており、第1ノズル挿通孔26の下面24側端部は、後述するエア流路221の環状流路223となる凹部となっている。さらに、下側部材211における第1ノズル挿通孔26の外側領域には、下側部材211の上面23にて開口する下側ピン収容穴28と、下側部材211の側面(吸引部20の外周面25)にて開口するとともに下側ピン収容穴28に連通する空気抜き穴29とが設けられている。よって、上側部材201側の上側ピン収容穴35にピン19の先端部を挿入するとともに、下側ピン収容穴28にピン19の基端部を挿入した状態で、ピン19の先端部に設けられたくびれ部18に係合ピン38の先端部を係合させることにより、両部材201,211が互いに固定される。
【0033】
図5に示されるように、下側部材211には、下面24にて開口する16個の集塵流路191が設けられている。各集塵流路191は、下側部材211における第1ノズル挿通孔26の外側領域に配置されている。そして、各集塵流路191は、第3ポート取付孔32に連通し、集塵ユニット151(図8参照)に接続されている。また、下側部材211には、下面24にて開口する4個の吸着流路195が設けられている。各吸着流路195は、下側部材211における第1ノズル挿通孔26及び各集塵流路191の外側領域に配置されている。そして、吸着流路195は、第4ポート取付孔33に連通し、吸着ユニット161(図8参照)に接続されている。
【0034】
また、ノズル支持体51は、下側部材211の第1ノズル挿通孔26に収容され、上端部が第1ノズル挿通孔26の上面23側端部に螺着されている。ノズル支持体51は、金属材料(本実施形態ではアルミニウム)によって形成され、外径11mm×高さ42mmの略円環状をなしている。また、ノズル支持体51には、内径3.5mmの第2ノズル挿通孔55が設けられている。第2ノズル挿通孔55は、ノズル支持体51の上面52及び下面53(図7参照)を貫通している。
【0035】
図4〜図7に示されるように、ノズル61は、第2ノズル挿通孔55に挿入され、外径7mm×高さ42mmの略円環状をなしている。ノズル61の内部には、イオンエアを供給する内径2.5mmのイオンエア流路71が設けられている。イオンエア流路71は、吸引面21の一部を構成するノズル61の下端面62にて開口している。また、イオンエア流路71は、第1ポート取付孔30に連通し、イオナイザ141(図8参照)に接続されている。さらに、ノズル61の下端面62(吸引部20の吸引面21)には、下方から見て円形状をなす凹部73が設けられている。また、凹部73の中心には、断面略台形状であって下方から見て円形状をなすノズル先端部75が突設されている。
【0036】
また、凹部73の中心部には、イオンエア流路71に連通するイオンエア吹出穴82が6箇所に設けられている。具体的に言うと、各イオンエア吹出穴82は、凹部73の中心軸C1を基準として等角度(60°)間隔で配置されており、ノズル先端部75の外周部にて開口している。そして、各イオンエア吹出穴82は、中心軸線が配線基板110の基板主面120に対して垂直に配置されており、イオンエア流路71から供給されてきたイオンエアを基板主面120に向けて垂直に吹き付けるようになっている。即ち、イオンエア流路71は、イオンエア吹出穴82の中心軸線に沿って延びる直線状の流路である。
【0037】
図5,図7に示されるように、下側部材211には、エアを供給するエア流路221がイオンエア流路71とは別々に設けられている。エア流路221は、導入流路222及び環状流路223からなっている。導入流路222は、吸引部20の外周面25からイオンエア吹出穴82側に延びている。また、導入流路222は、第2ポート91に連通し、エアユニット231(図8参照)に接続されている。環状流路223は、第1ノズル挿通孔26とノズル支持体51との間に形成された流路であり、イオンエア流路71を包囲するとともに、イオンエア流路71の中心軸線に沿って延びる環状をなしている。環状流路223は、上流側の端部において導入流路222に連通している。
【0038】
図4〜図7に示されるように、吸引部20には、環状流路223の下流側の端部に連通するとともに、凹部73の内周面にて開口するエア吹出穴81が6箇所に設けられている。各エア吹出穴81は、エア流路221から供給されてきたエアを凹部73内に噴出するようになっている。そして、それぞれのエア吹出穴81から噴出されるエアは、凹部73の周方向に沿って導かれ、イオンエア吹出穴82から基板主面120に向けて吹き付けられたイオンエアに衝突することにより、イオンエアを基板主面120全体に拡散させるようになっている。なお、本実施形態の吸引部20は、吸引部本体22と配線基板110との間に発生する空気流によって生じるベルヌーイ効果を利用して配線基板110を保持するようにしたベルヌーイチャックである。
【0039】
なお図6に示されるように、各エア吹出穴81は、凹部73の中心軸C1を基準としたときに回転対称となるように配置されており、凹部73の周方向に沿って開口している。詳述すると、各エア吹出穴81は、中心軸C1と同心状に設定された仮想円C2上において、各イオンエア吹出穴82を取り囲むように設けられている。また、各エア吹出穴81は、中心軸C1を基準として等角度(60°)間隔で配置されている。さらに、各エア吹出穴81は、エア吹出穴81の位置にて接する仮想円C2の接線L1に対して、凹部73の中心側に同じ角度θ1(本実施形態では30°)だけ傾斜した状態で開口している。また、各エア吹出穴81は、吸引面21に対して凹部73の外側に傾斜していない状態で開口している。即ち、各エア吹出穴81は、吸引面21に対して平行に開口している。さらに、エア吹出穴81は、隣接するエア吹出穴81に向かって開口している。なお、各エア吹出穴81の内径は1.2mmに設定されている。
【0040】
図4に示されるように、樹脂製パッド40は、下側部材211に取り付けられ、正面(下面)が吸引面21となっている。樹脂製パッド40は、樹脂材料(本実施形態ではエーテル系ウレタン)によって形成され、縦37mm×横37mm×高さ2.0mmの略矩形板状をなしている。また、樹脂製パッド40の中央部には、直径16mmの貫通孔41が設けられている。貫通孔41は、吸引部本体22の凹部73等を露出させるようになっている。さらに、樹脂製パッド40には、集塵流路191に連通する16個の集塵穴42が設けられている。各集塵穴42は、貫通孔41及び凹部73の外側領域にて開口するように配設され、凹部73を包囲するように樹脂製パッド40の外周縁(四辺)に沿って等間隔で配置されている。
【0041】
図4に示されるように、吸引面21の最外周部、即ち、樹脂製パッド40の4つの角部には、吸引面21より1.0mmだけ突出した凸部44が形成されている。さらに、樹脂製パッド40には、4個の真空吸着穴45がそれぞれの凸部44にて開口するように配設されている。即ち、各真空吸着穴45は、貫通孔41及び凹部73の外側領域にて開口するように配設されている。そして、各真空吸着穴45は、下側部材211の吸着流路195に連通している(図5参照)。
【0042】
なお、エアチャック181の接触部184には、静電電位センサ105(図8参照)が設置されている。静電電位センサ105は、接触部184内に埋設されており、接触部184の係合凹部185から露出するように配置されている。つまり、静電電位センサ105は、配線基板110の外周縁に接触する位置に設けられている。静電電位センサ105は、配線基板110に帯電した静電気を測定して、静電気測定信号を出力するようになっている。
【0043】
次に、非接触搬送装置のシステム構成について説明する。
【0044】
図8に示されるように、非接触搬送装置は、加圧エアを送り出すエア供給源131を備えている。また、非接触搬送装置は、エア供給源131と吸引部20との間を連通しうるエア供給流路130を備えている。エア供給流路130は、下流側において、第1エア流路140、第2エア流路150及び第3エア流路160に分岐している。第1エア流路140は、帯電防止チューブ及び第1ポート90(図5,図8のP3参照)を介して吸引部20のイオンエア流路71に連通している。第2エア流路150は、帯電防止チューブ及び第2ポート91(図5,図8のP2参照)を介して吸引部20のエア流路221に連通している。第3エア流路160は、帯電防止チューブ及び第4ポート93(図5,図8のP1参照)を介して吸引部20の吸着流路195に連通している。
【0045】
図8に示されるように、エア供給流路130上にはエア供給バルブ132が設置されている。エア供給バルブ132は、エア供給源131の下流側に配置されており、エア供給流路130を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。エア供給バルブ132は、開状態に切り替えられた際に、下流側にエアを供給可能とするようになっている。なお、本実施形態のエア供給バルブ132は、図示しないソレノイドにより作動する電磁弁である。
【0046】
また、エア供給流路130上には、エア供給流路130内のエア圧力を一定値に調整する空気圧調整ユニット133が設置されている。即ち、空気圧調整ユニット133は、エア供給流路130を介してエア供給バルブ132及びエア供給源131と流路的に接続されている。空気圧調整ユニット133は、エアフィルタ134、圧力計135及び減圧弁136を備えている。エアフィルタ134は、エア供給バルブ132の下流側に配置されており、エア供給流路130内を通過するエアに含まれる異物を除去するようになっている。また、圧力計135は、エアフィルタ134の下流側に配置されており、エア供給流路130内を通過するエアの圧力を計測するようになっている。さらに、減圧弁136は、圧力計135の下流側に配置されており、エア供給流路130内を通過するエアの減圧を行い、減圧したエアを下流側に供給するようになっている。また、エア供給流路130上にはエアフィルタ137が設置されている。エアフィルタ137は、減圧弁136の下流側に配置されており、エア供給流路130内を通過するエアに含まれる水分を除去するようになっている。
【0047】
図8に示されるように、第1エア流路140上にはイオンエアユニット147が設置されている。イオンエアユニット147は、減圧弁145、圧力計146、電磁弁143、エアフィルタ144及びイオナイザ141を備えている。減圧弁145は、エアフィルタ137の下流側に配置されており、第1エア流路140内を通過するエアの減圧を行い、減圧したエアを下流側に供給するようになっている。圧力計146は、減圧弁145の下流側に配置されており、第1エア流路140内を通過するエアの圧力を計測するようになっている。
【0048】
また、電磁弁143は、圧力計146の下流側に配置されており、第1エア流路140を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。電磁弁143は、開状態に切り替えられた際に、下流側にエアを供給可能とするとともに、エアを適宜排気してエア圧力を減圧調整するようになっている。なお、本実施形態の電磁弁143は、単動ソレノイドによって作動する2位置、直動ノーマルクローズの電磁弁であり、後述する制御装置101から出力される制御信号に基づいて開状態に切り替えられる。また、エアフィルタ144は、電磁弁143の下流側に配置されており、第1エア流路140内を通過するイオンエアに含まれる異物を除去するようになっている。
【0049】
図8に示されるように、イオナイザ141は、DC方式のイオナイザであり、エアフィルタ144の下流側に配置されている。イオナイザ141は、第1エア流路140と連通するイオナイザ本体142と、イオナイザ本体142内に突出する2本の放電針(正極側及び負極側の放電針)と、各放電針に直流電圧を印加する高圧電源とを備えている。各放電針は、直流電圧が印加された際にコロナ放電を行うことにより、先端部分の周囲にイオンを発生させるようになっている。詳述すると、正極側の放電針は、印加する直流電圧の極性が正(+)である場合に陽イオンを発生させ、負極側の放電針は、印加する直流電圧の極性が負(−)である場合に陰イオンを発生させるようになっている。そして、イオナイザ141は、イオナイザ本体142内に導かれてきたエアに発生させたイオンを混合させることにより、イオンエアを生成するようになっている。さらに、イオナイザ141は、生成したイオンエアを第1エア流路140の下流側に放出するようになっている。なお、イオンエアは、帯電防止チューブ及び第1ポート90を介して吸引部20のイオンエア流路71に導かれる。
【0050】
図8に示されるように、第2エア流路150上にはエアユニット231が設置されている。エアユニット231は、電磁弁232、流量調整弁233及びエアフィルタ234を備えている。電磁弁232は、エアフィルタ137の下流側に配置されており、第2エア流路150を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。電磁弁232は、開状態に切り替えられた際に、下流側にエアを供給可能とするとともに、エアを適宜排気してエア圧力を減圧調整するようになっている。なお、本実施形態の電磁弁232は、単動ソレノイドによって作動する2位置、直動ノーマルクローズの電磁弁であり、制御装置101から出力される制御信号に基づいて開状態に切り替えられる。また、流量調整弁233は、電磁弁232とエアフィルタ234とをつなぐ流路の途中に配置されており、第2エア流路150を流れるエアを定量的に排気してそのエアの圧力が一定値となるよう減圧調整する絞り弁である。エアフィルタ234は、流量調整弁233の下流側に配置されており、第2エア流路150内を通過するエアに含まれる異物を除去するようになっている。
【0051】
図8に示されるように、第3エア流路160上には吸着ユニット161が設置されている。また、吸着ユニット161は、基板吸着流路158と、第3エア流路160に連通する真空破壊流路159とに分岐している。
【0052】
基板吸着流路158上には、第1電磁弁162及びエアフィルタ167が設置されている。第1電磁弁162は、エアフィルタ137の下流側に配置されており、基板吸着流路158を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。第1電磁弁162は、開状態に切り替えられた際に、吸引部20の真空吸着穴45近傍にあるエアを、吸着流路195、第4ポート93及びエアフィルタ167等を介して真空引きするとともに、エアを適宜吸入してエア圧力を加圧調整するようになっている。なお、本実施形態の第1電磁弁162は、単動ソレノイドによって作動する2位置、直動ノーマルクローズの電磁弁であり、制御装置101から出力される制御信号に基づいて開状態に切り替えられる。
【0053】
図8に示されるように、真空破壊流路159上には、第2電磁弁168、流量調整弁169及び圧力スイッチ170が設置されている。第2電磁弁168は、エアフィルタ137の下流側に配置されており、真空破壊流路159を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。第2電磁弁168は、開状態に切り替えられた際に、エアフィルタ167と吸引部20とをつなぐ接続流路にエアを供給して、その接続流路の真空度を弱めるようになっている。それとともに、第2電磁弁168は、開状態に切り替えられた際に、真空破壊流路159を流れるエアを適宜排気して減圧調整するようになっている。なお、本実施形態の第2電磁弁168は、単動ソレノイドによって作動する2位置、直動ノーマルクローズの電磁弁であり、制御装置101から出力される制御信号に基づいて開状態に切り替えられる。また、流量調整弁169は、第2電磁弁168と圧力スイッチ170とをつなぐ流路の途中に配置されており、真空破壊流路159を流れるエアを定量的に排気してそのエアの圧力が一定値となるよう減圧調整する絞り弁である。圧力スイッチ170は、流量調整弁169及びエアフィルタ167の下流側に配置されている。圧力スイッチ170は、真空破壊流路159内の圧力が所定値を超えたこと(即ち、真空破壊されていること)を契機としてオン状態となり、真空破壊信号を制御装置101のCPU102に対して出力するようになっている。
【0054】
図8に示されるように、非接触搬送装置は真空流路153を備え、真空流路153上には集塵ユニット151が設置されている。真空流路153は、帯電防止チューブ及び第3ポート92(図5,図8のP4参照)を介して吸引部20の集塵流路191に連通している。集塵ユニット151は、電磁弁152及びエアフィルタ157を備えている。電磁弁152は、真空流路153を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。電磁弁152は、開状態に切り替えられた際に、吸引部20の集塵穴42近傍にあるエアを、集塵流路191、第3ポート92及びエアフィルタ157等を介して吸引するとともに、エアを適宜吸入してエア圧力を加圧調整するようになっている。なお、本実施形態の電磁弁152は、単動ソレノイドによって作動する2位置、直動ノーマルクローズの電磁弁であり、制御装置101から出力される制御信号に基づいて開状態に切り替えられる。
【0055】
次に、非接触搬送装置の電気的構成について説明する。
【0056】
図8に示されるように、非接触搬送装置は、装置全体を制御する制御装置101を備えている。制御装置101は、CPU102、ROM103、RAM104及び入出力回路等により構成されている。CPU102は、エア供給バルブ132、イオナイザ141、電磁弁143,152,232、第1電磁弁162及び第2電磁弁168に電気的に接続されており、各種の駆動信号によってそれらを制御する。
【0057】
また、CPU102には、静電電位センサ105から出力された静電気測定信号が入力されるようになっている。そして、CPU102は、静電気測定信号が示す静電気の電荷の極性に基づいて、吸引部20によって吸引される配線基板110が正(+)に帯電しているか負(−)に帯電しているかを判定するようになっている。配線基板110が正に帯電していると判定された場合、CPU102は、イオナイザ141に駆動信号を出力し、直流電圧を印加して負極側の放電針に陰イオンを発生させる制御を行うようになっている。一方、配線基板110が負に帯電していると判定された場合、CPU102は、イオナイザ141に駆動信号を出力し、直流電圧を印加して正極側の放電針に陽イオンを発生させる制御を行うようになっている。このような制御によれば、配線基板110に帯電した静電気を確実に中和させることができる。
【0058】
なお本実施形態では、DC方式のイオナイザ141を用いているが、それに代えてAC方式のイオナイザを用いてもよい。AC方式のイオナイザは、イオナイザ本体と、イオナイザ本体内に突出する1本の放電針と、放電針に交流電圧を印加する高圧電源とを備えている。放電針は、交流電圧が印加された際に、印加する交流電圧の極性に応じて陽イオンまたは陰イオンを発生させるようになっている。この場合、CPU102は、静電電位センサ105から出力された静電気測定信号が入力されると、静電気測定信号が示す静電気の電荷量に基づいて配線基板110が帯電しているか否かを判定する。配線基板110が帯電していると判定された場合、CPU102は、イオナイザ141に駆動信号を出力し、イオナイザ141の出力を強くする制御を行う。一方、配線基板110が帯電していないと判定された場合、CPU102は、イオナイザ141に駆動信号を出力し、イオナイザ141の出力を弱くする制御を行う。このような制御によれば、配線基板110の帯電を確実に防止することができる。また、イオナイザ141が必要以上に作動することを防止することができる。
【0059】
次に、配線基板110の非接触搬送方法を説明する。
【0060】
本実施形態の配線基板110は、複数の製造工程を経て製造され、導通検査を行う検査工程を受けた後に出荷される。なお、配線基板110は、製造工程が終了する度に基板支持台(図示略)上に配置される。この状態において、非接触搬送装置を用いて配線基板110を搬送する。詳述すると、搬送用多関節ロボットのアームを駆動して搬送ヘッド11を下降させる。
【0061】
続くエア噴出工程において、CPU102は、エア供給バルブ132及び電磁弁232に駆動信号を出力して、エア供給バルブ132及び電磁弁232を開状態に切り替える。その結果、エア供給源131から送り出された加圧エアが、エア供給流路130を通過して第2エア流路150に導かれる。そして、第2エア流路150に導かれたエアは、第2ポート91(図5,図8のP2参照)を介して吸引部20内に流入し、エア流路221に導かれる。
【0062】
なお本実施形態では、エア流路221に導かれたエアは、エア吹出穴81を通過し、エア吹出穴81から凹部73の内周面に沿って噴出する。その結果、エア吹出穴81から噴出したエアの大部分は、エア吹出穴81が開口する方向に流れて凹部73外に流出した後、吸引面21と基板主面120との隙間を通過し、この際に高速流となって吸引部20の外側に放出される。その結果、吸引面21と基板主面120との間に生じた空間が負圧となり、配線基板110の基板主面120が吸引面21に吸引保持される(図1参照)。また、エア吹出穴81から噴出されたエアの一部は、凹部73の周方向に沿って流れて旋回流を形成する。
【0063】
続く集塵工程において、CPU102は、電磁弁152に駆動信号を出力して、電磁弁152を開状態に切り替える。その結果、吸引部20の集塵穴42近傍にあるエアが、集塵流路191及び第3ポート92(図5,図8のP4参照)を介して吸引される。その結果、配線基板110の基板主面120上に付着している異物がエアとともに回収される。
【0064】
続くイオンエア噴出工程において、CPU102は、イオナイザ141及び電磁弁143に駆動信号を出力する。その結果、電磁弁143が開状態に切り替わるとともに、イオナイザ141が作動する。そして、エア供給源131から送り出された加圧エアが、エア供給流路130を通過して第1エア流路140上のイオナイザ141に流入する。イオナイザ141は、イオナイザ本体142内に導かれてきたエアにイオンを混合させることにより、イオンエアを生成する。そして、イオナイザ141は、生成したイオンエアをイオナイザ141の下流側に放出する。さらに、イオナイザ141から放出されたイオンエアが、第1エア流路140及び第1ポート90(図5,図8のP3参照)を介して吸引部20内に流入し、イオンエア流路71に導かれる。
【0065】
なお本実施形態では、イオンエア流路71に導かれたイオンエアを、イオンエア吹出穴82から配線基板110の基板主面120に向けて垂直に吹き付けることにより、基板主面120上の異物を除去する。また、イオンエア吹出穴82から吹き付けられたイオンエアには、エア吹出穴81から噴出したエアが衝突する。その結果、イオンエアが基板主面120全体に拡散するため、基板主面120上の異物が、吹き飛ばされることによって確実に除去される。
【0066】
続く位置決め工程では、搬送用多関節ロボットのアームを駆動して搬送ヘッド11とともに配線基板110を上昇させる。さらに、搬送ヘッド11のスライドテーブル2を駆動して吸引部20を下降させ、配線基板110の基板主面120に吸引部20の吸引面21を接近させる。そして、搬送ヘッド11のエアチャック181を駆動して腕部182の接触部184を配線基板110に近付ける。その結果、各接触部184の係合凹部185が配線基板110の2つの角部に係合し、配線基板110が位置ずれ不能に保持固定される。
【0067】
続く吸着工程において、CPU102は、第1電磁弁162に駆動信号を出力する。その結果、第1電磁弁162が開状態に切り替わり、吸引部20の真空吸着穴45近傍にあるイオンエアが、吸着流路195及び第4ポート93(図5,図8のP1参照)を介して真空引きされる。その結果、ベルヌーイ効果による吸引力と真空引きによる吸着力とによって、配線基板110の基板主面120が吸引面21により安定的に吸引保持される。
【0068】
その後、搬送ヘッド11のエアチャック181を駆動して接触部184を配線基板110から離間させる。その結果、配線基板110の角部に対する係合凹部185の係合が解除される。さらに、搬送ヘッド11のスライドテーブル2を駆動して、吸引部20を上昇させる。
【0069】
そして、搬送用多関節ロボットのアームを駆動し、検査工程用のラインに配線基板110を搬送する。配線基板110が検査工程用のラインに到達すると、配線基板110の釈放を行い、検査工程用のラインの支持台上に配線基板110を配置する。具体的に言うと、CPU102は、電磁弁143を閉状態に切り替える制御を行い、第1エア流路140を遮断する。その結果、吸引部20へのイオンエアの供給が停止され、イオンエア吹出穴82からのイオンエアの噴出が終了する。それと同時に、CPU102は、電磁弁152を閉状態に切り替える制御を行って真空流路153を遮断する。その結果、集塵穴42からのエアの吸引が終了する。また、搬送用多関節ロボットのアームを駆動して搬送ヘッド11とともに配線基板110を下降させる。
【0070】
次に、CPU102は、電磁弁232を閉状態に切り替える制御を行い、第2エア流路150を遮断する。その結果、吸引部20へのエアの供給が停止され、エア吹出穴81からのエアの噴出が終了する。それと同時に、CPU102は、第1電磁弁162を閉状態に切り替える制御を行って真空流路153を遮断する。
【0071】
また、CPU102は、第2電磁弁168に駆動信号を出力する。その結果、第2電磁弁168が開状態に切り替わり、エア供給源131から送り出された加圧エアが、エア供給流路130及び第3エア流路160を通過して真空破壊流路159に導かれ、エアフィルタ167と吸引部20とをつなぐ接続流路に供給される。そして、接続流路の真空破壊が行われ、接続流路の真空度が弱められ、配線基板110を吸引する力が弱くなる。その結果、真空吸着穴45からのイオンエアの真空引きが終了する。その後、CPU102は、第2電磁弁168を閉状態に切り替える制御を行って第3エア流路160を遮断する。
【0072】
そして、搬送用多関節ロボットのアームを駆動して搬送ヘッド11を上昇させる。その結果、搬送ヘッド11が配線基板110から離間し、配線基板110が検査工程用のラインの支持台上に配置される。
【0073】
従って、本実施形態によれば以下の効果を得ることができる。
【0074】
(1)本実施形態の非接触搬送装置では、6個のエア吹出穴81が、イオンエア吹出穴82を取り囲むように設けられ、凹部73の中心軸C1を基準として等角度間隔で配置されるとともに、仮想円C2の接線L1に対して同じ角度θ1だけ傾斜した状態で開口している。即ち本実施形態では、同じ向きに開口するエア吹出穴81が均等に配置されている。このため、各エア吹出穴81から噴出したエアがエア吹出穴81が開口する方向に流れ、イオンエアがエア吹出穴81から噴出したエアによってそれぞれのエア吹出穴81の近傍において拡散したとしても、イオンエアは、基板主面120の全体に確実に拡散する。よって、イオンエアを用いた基板主面120上の異物の除去や、イオンエアを用いた配線基板110の除電を、確実にかつ均一に行うことができる。ゆえに、搬送後の導通検査において、基板主面120上のはんだバンプ118に対してプローブ(図示略)を当接させた際に、プローブとはんだバンプ118との間に導通しない異物が噛み込むことが防止される。その結果、配線基板110が異物の存在に起因して不良品であると判定されにくくなるため、配線基板110の歩留まりが向上する。
【0075】
(2)本実施形態では、エア吹出穴81が6個設けられることにより、各エア吹出穴81から噴出するエアの流量を大きくすることができるため、エア吹出穴が2個しか設けられていない従来の構造よりも、配線基板110を吸引する力を大きくすることができる。その結果、基板主面120に吹き付けられたイオンエアが、配線基板110の吸引に伴って吸引面21側に押し戻された後、エア吹出穴81から噴出するエアに混合されるため、イオンエアをより確実に拡散させることができる。しかも、エア吹出穴81を3個以上設けた結果、気流が安定するようになるため、吸引時に配線基板110が回転することを防止できる。
【0076】
(3)エア吹出穴が2個しか設けられていない従来の構造の場合、異物の存在によってエア吹出穴が1つでも塞がってしまうと、エア吹出穴から噴出するエアの総量が半分になるため、エアによってイオンエアを十分に拡散できなくなる。一方、本実施形態では、6個のエア吹出穴81が設けられているため、一部のエア吹出穴81が塞がったとしても、エア吹出穴81から噴出するエアの総量は殆ど低下しない。このため、エア吹出穴81から噴出するエアを用いてイオンエアを確実に拡散させることができる。
【0077】
(4)本実施形態では、配線基板110の搬送時に、エア噴出工程→集塵工程→イオンエア噴出工程→位置決め工程→吸着工程の順で各工程を実施している。即ち、位置決め工程前にイオンエア吹出穴82からイオンエアを噴出することによって、配線基板110の吸引力を弱めておくことができるため、位置決め工程後において樹脂製パッド40の凸部44と配線基板110との接触抵抗を減らすことができる。ゆえに、凸部44との摩擦によって配線基板110が傷付いたり汚れたりすることを防止できる。
【0078】
(5)本実施形態では、配線基板110の搬送中においても、エア及びイオンエアを噴出し続けることによって異物の除去や配線基板110の除電を行っている。即ち、配線基板110の搬送工程と、異物の除去や除電を行う工程とを同時に行うことができるため、配線基板110の製造効率が向上する。
【0079】
(6)本実施形態では、第1ノズル挿通孔26の下面24側端部が、エア流路221の環状流路223となる凹部となっており、第1ノズル挿通孔26に収容したノズル支持体51の上端部を第1ノズル挿通孔26の上面23側端部に螺着させるだけで、環状流路223が形成される。このため、下側部材211を加工して環状流路223を形成する場合に比べて、環状流路223を容易に形成することができる。
【0080】
なお、本実施形態を以下のように変更してもよい。
【0081】
・上記実施形態では、エア吹出穴81から噴出されるエアとして、イオンが混合されていない通常のエアが用いられていた。しかし、エア吹出穴81から噴出されえるエアは、イオナイザ141から放出されるイオンエアであってもよい。
【0082】
・上記実施形態において、樹脂製パッド40及び吸引部20の構造を変更してもよい。例えば図9,図10に示される樹脂製パッド240には、4個の長孔242が設けられている。各長孔242は、上記実施形態において集塵穴42が設けられていた領域よりも外側領域にて開口するように配設され、樹脂製パッド40の外周縁(四辺)に沿って延びている。なお、各長孔242は、吸引部を構成する下側部材243に設けられた集塵流路244に連通している。集塵流路244は、下面245及び側面246にて開口するとともに、中心軸線C3が下面245に対して60°だけ傾斜した状態に配置されている。そして、各集塵流路244は、集塵ユニット151(図8参照)に接続されるのではなく、下側部材243の外側に連通している。即ち、長孔242及び集塵流路244は、吸引部の長孔242近傍にあるエアやイオンエアを上方に放出させる空気抜きとして機能する。
【0083】
・上記実施形態では、上側部材201の下面203における中央部にノズル61が突設されていた。即ち、ノズル61は上側部材201に一体形成されていた。しかし、ノズル61を上側部材201から分離できる構造としてもよい。例えば、ノズル61を上側部材201に対してネジ止めするようにしてもよい。
【0084】
・上記実施形態において、集塵ユニット151及び吸着ユニット161の少なくとも一方を省略してもよい。また、吸着ユニット161を省略しない場合、吸着ユニット161の真空破壊流路159上に設置された機器(第2電磁弁168、流量調整弁169及び圧力スイッチ170)を省略してもよい。
【0085】
・上記実施形態では、エア供給バルブ132、イオナイザ141、電磁弁143、電磁弁152、電磁弁232、第1電磁弁162及び第2電磁弁168の制御を1つのCPU102で制御するようにしたが、各制御を別々のCPUで行うように構成してもよい。
【0086】
・上記実施形態の非接触搬送装置は、単一製品の配線基板110を搬送するようになっていたが、例えば、配線基板110となるべき基板形成領域が平面方向に沿って複数配置された多数個取り用配線基板を搬送するようにしてもよい。
【0087】
・上記実施形態では、吸引部20を装着した搬送用多関節ロボットを用いて配線基板110を搬送していたが、吸引部20を装着したコンベアなどの搬送手段を用いて配線基板110を搬送してもよい。
【0088】
次に、前述した実施形態によって把握される技術的思想を以下に列挙する。
【0089】
(1)上記手段1において、前記吸引部とは別体にイオナイザを設け、前記イオナイザから放出されるイオンエアを前記イオンエア吹出穴から吹き付けられるイオンエアとして用いることを特徴とする配線基板の非接触搬送装置。
【0090】
(2)上記手段1において、前記基板主面上の異物を回収する集塵穴を前記吸引面における前記凹部の外側領域にて開口するように配設したことを特徴とする配線基板の非接触搬送装置。
【0091】
(3)上記手段1において、真空引きするための真空吸着穴を、前記凹部の外側領域にて開口するように配設したことを特徴とする配線基板の非接触搬送装置。
【符号の説明】
【0092】
20…吸引部
21…吸引面
25…吸引部の外周面
71…イオンエア流路
73…凹部
81…エア吹出穴
82…イオンエア吹出穴
110…被搬送物としての配線基板
116…突起電極としての端子パッド
118…突起電極としてのはんだバンプ
119…電極形成領域
120…基板主面
221…エア流路
222…導入流路
223…環状流路
C1…凹部の中心軸
C2…仮想円
L1…仮想円の接線
θ1…角度
【特許請求の範囲】
【請求項1】
吸引面に凹部が設けられるとともに、前記凹部の内周面にて開口する複数のエア吹出穴が設けられた吸引部を備え、前記複数のエア吹出穴から前記凹部の内周面に沿って噴出したエアにより発生する負圧によって、被搬送物である配線基板の基板主面を前記吸引面に吸引保持して搬送する非接触搬送装置において、
前記基板主面にイオンエアを吹き付けるためのイオンエア吹出穴が、前記凹部の中心部に設けられ、
前記複数のエア吹出穴が、前記凹部の中心軸と同心状に設定された仮想円上において前記イオンエア吹出穴を取り囲むように3個以上設けられ、前記凹部の中心軸を基準として等角度間隔で配置されるとともに、前記エア吹出穴の位置にて接する前記仮想円の接線に対して同じ角度だけ傾斜した状態で開口している
ことを特徴とする配線基板の非接触搬送装置。
【請求項2】
前記複数のエア吹出穴は、前記接線に対して前記凹部の中心側に15°以上45°以下だけ傾斜した状態で開口していることを特徴とする請求項1に記載の配線基板の非接触搬送装置。
【請求項3】
前記複数のエア吹出穴は、前記吸引面に対して前記凹部の外側に−20°以上20°以下だけ傾斜した状態で開口していることを特徴とする請求項1または2に記載の配線基板の非接触搬送装置。
【請求項4】
前記複数のエア吹出穴は、内径が0.5mm以上2.0mm以下に設定されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の配線基板の非接触搬送装置。
【請求項5】
前記吸引部は、前記複数のエア吹出穴にエアを供給するエア流路と、前記イオンエア吹出穴にイオンエアを供給するイオンエア流路とをそれぞれ別々に有し、
前記イオンエア流路は、前記イオンエア吹出穴の中心軸線に沿って延びる直線状の流路であり、
前記エア流路は、前記吸引部の外周面から前記イオンエア吹出穴側に延びる導入流路と、前記イオンエア流路を包囲するとともに前記イオンエア流路の中心軸線に沿って延びる環状をなし、上流側の端部において前記導入流路に連通し、下流側の端部において前記複数のエア吹出穴に連通する環状流路とからなる
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の配線基板の非接触搬送装置。
【請求項6】
前記配線基板は、複数の突起電極が配置された電極形成領域を前記基板主面上に有する樹脂製配線基板であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の配線基板の非接触搬送装置。
【請求項7】
請求項1乃至6のいずれか1項に記載の非接触搬送装置を用いて、被搬送物である配線基板の基板主面を前記吸引面に吸引保持して搬送することにより、配線基板を製造する方法において、
前記イオンエア吹出穴から前記基板主面に向けてイオンエアを吹き付けるとともに、
前記複数のエア吹出穴から前記凹部の内周面に沿って噴出したエアにより、前記イオンエア吹出穴から吹き付けられたイオンエアを前記基板主面全体に拡散させることで、前記基板主面上の異物を除去する
ことを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項1】
吸引面に凹部が設けられるとともに、前記凹部の内周面にて開口する複数のエア吹出穴が設けられた吸引部を備え、前記複数のエア吹出穴から前記凹部の内周面に沿って噴出したエアにより発生する負圧によって、被搬送物である配線基板の基板主面を前記吸引面に吸引保持して搬送する非接触搬送装置において、
前記基板主面にイオンエアを吹き付けるためのイオンエア吹出穴が、前記凹部の中心部に設けられ、
前記複数のエア吹出穴が、前記凹部の中心軸と同心状に設定された仮想円上において前記イオンエア吹出穴を取り囲むように3個以上設けられ、前記凹部の中心軸を基準として等角度間隔で配置されるとともに、前記エア吹出穴の位置にて接する前記仮想円の接線に対して同じ角度だけ傾斜した状態で開口している
ことを特徴とする配線基板の非接触搬送装置。
【請求項2】
前記複数のエア吹出穴は、前記接線に対して前記凹部の中心側に15°以上45°以下だけ傾斜した状態で開口していることを特徴とする請求項1に記載の配線基板の非接触搬送装置。
【請求項3】
前記複数のエア吹出穴は、前記吸引面に対して前記凹部の外側に−20°以上20°以下だけ傾斜した状態で開口していることを特徴とする請求項1または2に記載の配線基板の非接触搬送装置。
【請求項4】
前記複数のエア吹出穴は、内径が0.5mm以上2.0mm以下に設定されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の配線基板の非接触搬送装置。
【請求項5】
前記吸引部は、前記複数のエア吹出穴にエアを供給するエア流路と、前記イオンエア吹出穴にイオンエアを供給するイオンエア流路とをそれぞれ別々に有し、
前記イオンエア流路は、前記イオンエア吹出穴の中心軸線に沿って延びる直線状の流路であり、
前記エア流路は、前記吸引部の外周面から前記イオンエア吹出穴側に延びる導入流路と、前記イオンエア流路を包囲するとともに前記イオンエア流路の中心軸線に沿って延びる環状をなし、上流側の端部において前記導入流路に連通し、下流側の端部において前記複数のエア吹出穴に連通する環状流路とからなる
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の配線基板の非接触搬送装置。
【請求項6】
前記配線基板は、複数の突起電極が配置された電極形成領域を前記基板主面上に有する樹脂製配線基板であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の配線基板の非接触搬送装置。
【請求項7】
請求項1乃至6のいずれか1項に記載の非接触搬送装置を用いて、被搬送物である配線基板の基板主面を前記吸引面に吸引保持して搬送することにより、配線基板を製造する方法において、
前記イオンエア吹出穴から前記基板主面に向けてイオンエアを吹き付けるとともに、
前記複数のエア吹出穴から前記凹部の内周面に沿って噴出したエアにより、前記イオンエア吹出穴から吹き付けられたイオンエアを前記基板主面全体に拡散させることで、前記基板主面上の異物を除去する
ことを特徴とする配線基板の製造方法。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【公開番号】特開2011−189490(P2011−189490A)
【公開日】平成23年9月29日(2011.9.29)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−60227(P2010−60227)
【出願日】平成22年3月17日(2010.3.17)
【出願人】(000004547)日本特殊陶業株式会社 (2,912)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成23年9月29日(2011.9.29)
【国際特許分類】
【出願日】平成22年3月17日(2010.3.17)
【出願人】(000004547)日本特殊陶業株式会社 (2,912)
【Fターム(参考)】
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