好ましくない副反応を抑制しつつ、高効率で連続的にフッ素化された化合物を得る方法を提供する。フッ素の導入部、フッ素化されうる原料化合物の導入部、フッ素化領域、およびフッ素化された化合物の排出部を、不活性液体を一方向に流動する循環回路で連結し、該回路の不活性液体に原料化合物およびフッ素を導入してフッ素化を行う方法において、原料化合物が実質的に存在しない不活性液体の流れにフッ素を導入することを特徴とするフッ素化された化合物の製造方法。
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【課題】透明性、外観に優れる含フッ素共重合体のフィルムの提供。
【解決手段】エチレンに基づく繰り返し単位、テトラフルオロエチレンに基づく繰り返し単位、ヘキサフルオロプロピレンに基づく繰り返し単位及びＣＦ_２＝ＣＦＯＲ^ｆ（Ｒ^ｆは炭素数１〜１０のフルオロアルキル基を示す。）で表されるフルオロアルキルビニルエーテルに基づく繰り返し単位からなり、前記繰り返し単位が特性組成範囲であり、２９７℃における容量流速が０．１〜３０ｍｍ^３／秒である含フッ素共重合体が、３２０℃以下の成形温度で成形されてなる含フッ素共重合体のフィルム。 （もっと読む）

【課題】高温においても剥離や磨耗が生じにくく、ガラスにロール素材成分の脱離による欠点を生じないガラス製造設備用被覆部品およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス製部材との当接部を有する母材と、少なくとも当接部の表面に形成されたコージェライトおよび／またはジルコンを主成分とする被覆第一層と、この被覆第１層の上に形成された酸化ジルコニウムおよび／または酸化アルミニウムを主成分とする被覆第二層とを備える。母材は、シリカ製のロールであることが好ましい。シリカを主成分とする母材の表面に、コージェライトおよび／またはジルコンを主成分とする被覆第一層と、酸化ジルコニウムおよび／または酸化アルミニウムを主成分とする被覆第二層を形成することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 生産性が高く、かつ貯蔵に特別な配慮の必要がなく、さらに十分な低温特性を有し、圧縮永久歪が小さく、架橋性の優れた含フッ素エラストマー、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 四フッ化エチレン、パーフルオロ（メチルビニルエーテル）およびＣＦ_２＝ＣＦＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｂｒを、共重合比率が４５〜５８／４２〜５５／０．０１〜１０（モル比）の割合になるように乳化重合することにより含フッ素エラストマーを得る。 （もっと読む）

【課題】優れた低抵抗性、優れた耐湿性、及びパターニング性を有する積層体と、それを備えた有機ＥＬ表示素子を得る。
【解決手段】基体１の上に第１の電極層３、第１の電極層３上に形成される有機ＥＬ層４と、有機ＥＬ層４上に形成される第２の電極層５とを備える有機ＥＬ表示素子の製造方法であって、第１の電極層３又は第２の電極層５に導電接続される積層体３５を形成するステップを備え、積層体３５を形成するステップは、Ａｇ又はＡｇ合金を主成分とする導体層１１を形成するステップと、導体層１１上にＮｉ−Ｍｏ合金を主成分とするキャップ層１２を形成するステップとを有する。
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【課題】高温においてもガラス板に傷を付与し難く、被膜のクラックや剥離が生じず、長期間使用可能なガラス製造設備用被覆部品を提供する。
【解決手段】ガラス製部材との当接部を有する母材と、前記当接部の表面に形成されたコージェライトを主成分とする被覆層とを備える。母材は、シリカ製のロールであることが好ましい。被覆層におけるコージェライト相の比率は、６０体積％以上であることが好ましい。被覆層の厚さは、０．０５ｍｍ以上かつ０．５ｍｍ以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】Ｆ_２レーザ露光用マスクに好適なペリクルに用いられるペリクル板を提供する。
【解決手段】ペリクルフレームと、前記ペリクルフレームの一方の開口部に接着したペリクル板とを備えたペリクルであって、前記ペリクル板に外力を印加し、ペリクル板の形状を所望の形状に変形させる外力印加手段を前記ペリクル板に備えることを特徴とするペリクル、または、前記ペリクル板に備えられた外力印加手段により前記ペリクル板に外力を印加し、ペリクル板の形状を所望の形状に変形させることを特徴とするペリクル板の形状補正方法。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用反射型マスクなどに使用されるガラス基板のように極めて高い表面平滑性と表面精度が要求されるガラス基板の研磨方法を提供する。
【解決手段】平均一次粒子径が５０ｎｍ以下のコロイダルシリカ、酸および水を含み、ｐＨが０．５〜４の範囲になるように調整してなる研磨スラリーを用いて、ＳｉＯ_２を主成分とするガラス基板の表面を、原子間力顕微鏡で測定した表面粗さＲｍｓが０．１５ｎｍ以下になるように研磨する。 （もっと読む）

【課題】高平行度、高平滑度を備えたガラス板の製造方法とＦ_２レーザー露光用マスクに好適なペリクル板を備えたペリクルを提供する。
【解決手段】平均粒径が１０〜２００ｎｍの範囲の研磨剤と、圧縮率が１０％以下、圧縮弾性率が９０％以下の研磨布と、を用いてガラス板を研磨することによって、平行度が０．１μｍ／５０ｍｍ以下であって、表面粗さ（ｒｍｓ）が０．１５ｎｍ以下の合成石英ガラス板を製造し、上面と底面に開口部を有する枠体形状であるペリクルフレーム１の一方の開口部に当該合成石英ガラス板からなるペリクル膜２を接着する。 （もっと読む）

【課題】 反応性ケイ素基含有重合体の混合物、およびそれを含む硬化性組成物の貯蔵安定性が良好で、かつ優れた耐候性を有する弾性硬化性組成物。
【解決手段】 主鎖がポリオキシアルキレン鎖からなり、分子末端の少なくとも一部に下記式（１）： −ＳｉＸ_aＲ¹_3-a （１）（式（１）中、Ｒ¹は独立して炭素数１〜２０の置換または非置換の１価の有機基を表し、Ｘは独立して水酸基または加水分解性基を表し、ａは１、２または３を表す。）で表される反応性ケイ素基を有するオキシアルキレン重合体（Ａ）、ならびに、前記式（１）で表される反応性ケイ素基を有し、かつ主鎖が、炭素数１〜２のアルキルアルコール、炭素数４のアルキルアルコール、および炭素数７〜９のアルキルアルコールの（メタ）アクリレートのそれぞれの少なくとも一種のモノマー単位を含む（メタ）アクリレート共重合体（Ｂ）からなる硬化性組成物。 （もっと読む）