【課題】チャンバ内光学要素の汚染を低減する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、レーザシステムと共に用いられる極端紫外光生成装置であって、前記レーザシステムから出力されるレーザ光を入射させるための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内のレーザ光が照射される所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、前記チャンバ内に配置される少なくとも１つの光学要素と、前記所定の領域付近に磁場を生成するための磁場生成部と、前記磁場の磁力線方向に配置され、レーザ光がターゲット物質に照射された際に発生し磁力線に沿って流れるイオンを回収するためのイオン回収部と、前記チャンバ内にエッチングガスを導入するガス導入部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の低コヒーレンス化と高強度とを実現する。
【解決手段】固体レーザ１０から出力されたシード光Ｌｂをシード光Ｌｂよりも短波長のレーザ光Ｌ１に変換した後、レーザ光Ｌ１を増幅して出力するレーザ装置１は、シード光Ｌｂを短波長のレーザ光Ｌ１に変換する前に、シード光Ｌｂを低コヒーレンス化する低コヒーレンス機構２０を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明の極端紫外光源装置は、ターゲット発生部からのターゲット物質がＥＵＶ集光ミラーに落下して付着するのを抑制する。
【解決手段】ターゲット発生部１２０の作動開始時及び作動停止時に、キャッチャー１６０は、ノズル部１２１の下側に位置する。定常運転時の速度よりも遅いドロップレット３１０は、重力Ｇの影響により、キャッチャー１６０内に落下して回収される。ターゲット発生部１２０が定常運転状態になると、キャッチャー１６０は、ノズル部１２１から離れた場所に退避する。 （もっと読む）

【課題】異なる処理装置の仕様に対してＥＵＶチャンバの仕様変更を少なくすることができるＥＵＶ光源装置を提供する。
【解決手段】極端紫外光を用いて処理を行う処理装置に極端紫外光を供給する極端紫外光源装置であって、処理装置に供給するための極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内において生成された極端紫外光を集光して前記処理装置に出射する集光ミラーと、チャンバと処理装置との間において極端紫外光の経路を画定するとともに、極端紫外光の経路を外部から隔離する光路接続モジュールとを具備する。 （もっと読む）

【課題】励起状態を経てターゲットをイオン化する場合でもターゲットの高いイオン化効率を実現する。
【解決手段】イオン化レーザ装置１は、ターゲットＴｓｎを励起させる第１、第２レーザ光ＬＳ１、ＬＳ２を出力する第１、第２レーザ１０２、２０２と、第１、第２レーザ光ＬＳ１、ＬＳ２の絶対波長を検出する第１、第２絶対波長検出器１１０、２１０と、第１、第２レーザ光ＬＳ１、ＬＳ２により励起したターゲットＴｓｎをイオン化する第３レーザ光ＬＳ３を出力する第３レーザ３０２と、第３レーザ光ＬＳ３の絶対波長を検出する第３絶対波長検出器３１０と、第１〜第３レーザ光ＬＳ１〜ＬＳ３の絶対波長に基づいて第１〜第３レーザ１０２〜３０２を制御するイオン化レーザコントローラ１０および第１〜第３コントローラ１０１〜３０１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】極端紫外線（ＥＵＶ）光源装置の部品を容易に交換することのできるＥＵＶ光源システムを提供する。
【解決手段】このシステムは、（ｉ）極端紫外光の生成が行われるチャンバと、ターゲット物質をチャンバ内に供給するターゲット供給部と、ターゲット供給部によって供給されたターゲット物質にレーザ光を照射することによりプラズマを発生させるドライバレーザと、該プラズマから放射される極端紫外光を集光して露光装置の投影光学系に入射させる集光ミラーと、を含む極端紫外光源装置と、（ii）極端紫外光源装置の一部である交換部品を持ち上げて移動させるように設置されている持ち上げ装置とを具備する。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内にある光学素子に付着したデブリを除去するクリーニング方法を提示する。
【解決手段】ターゲット物質にレーザ光を照射することにより生成されるプラズマから極端紫外光を発生する極端紫外光源装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバの内部に電場又は磁場を発生させる電磁場発生部と、チャンバの内部の光学素子に付着したデブリを帯電させて該光学素子から離脱させ、又は、該デブリを該光学素子から離脱させて帯電させるクリーニング部と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】高効率で安定してＥＵＶ光を発生させることができるＥＵＶ光源装置用ドライバレーザシステムを安価に提供する。
【解決手段】このドライバレーザシステムは、ＭＯＰＡ（master oscillator power amplifier）方式に従って構成されたレーザシステム３であって、単一のレーザ発振器３０１においてレーザ光を発生し、該レーザ光のパルス幅が所定の値まで短くなるようにレーザ光のパルス幅を制御して、並列して配置された複数の放電励起式ガスレーザ増幅系３０４（１）及び３０４（２）並びに３０５（１）及び３０５（２）において該レーザ光を増幅するレーザシステム３と、複数のレーザ増幅系からレーザ光が順次出射するようにレーザシステム３の動作タイミングを制御するレーザシステム制御装置４とを含む。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光源装置において、光学素子及びその他の構成要素がデブリで汚染または損傷されることを抑制し、これらの長寿命化を実現する。
【解決手段】チャンバ内においてターゲット物質のプラズマを発生させることにより極端紫外光を発生する極端紫外光源装置１であって、ターゲット物質に第１レーザ光３４を照射することによりプリプラズマを発生させる第１レーザ部と、プリプラズマに第２レーザ光３５を照射することにより極端紫外光を発生するメインプラズマを発生させる第２レーザ部と、チャンバ内に磁場Ｂを発生させてプリプラズマ及びメインプラズマの内の少なくとも１つの状態を制御する磁場発生部と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ光源のチャンバ装置において、ターゲット噴射ノズルから噴射される液滴ターゲットの噴射方向が所定の噴射方向から傾いた場合でも、ターゲット噴射ノズルの位置又は角度を調整してＥＵＶ光の安定供給を維持することができるターゲット軌道計測及び制御装置を提供する。
【解決手段】この装置は、ターゲット噴射ノズルの位置と角度との内の少なくとも一方を調整するノズル調整機構と、ターゲット軌道を計測することにより、ターゲット軌道に関する軌道情報を取得するターゲット軌道計測部と、軌道情報によって表されるターゲット軌道と所定のターゲット軌道との間の角度偏差に関する値を求めるターゲット軌道角度検出部と、角度偏差に関する値に基づいて、液滴ターゲットが所定のレーザ光照射位置を通過するようにノズル調整機構を制御するノズル調整コントローラとを含む。 （もっと読む）