説明

ギガフォトン株式会社により出願された特許

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【課題】 遠隔地において、レーザ装置の状態を示す情報を、予め設定されるイベント毎にデータ収集することにより、消耗部品の寿命の予測やレーザ装置のトラブルの事前予測を行うことのできるレーザ装置管理システムを提供すること。
【解決手段】 レーザ装置2を制御しているレーザ制御装置10は、例えば一定の放電パルス数発生など予め設定された特定のイベントが発生する毎に、当該レーザ装置2の状態を示す状態情報をレーザ装置2から取得して、監視端末20へ送信する。監視端末20は、受信した状態情報を通信回線50を介してサーバ装置30へ転送する。サーバ装置30では、転送された状態情報を基に、自己内のデータベースを変更すると共に出力情報を生成する。この出力情報は、通信回線50を介して表示端末40に入力され、ここで表示される。 (もっと読む)


【課題】ウィンドウのレーザ光による熱負荷による特性の悪化を改善させる。
【解決手段】ウィンドウユニットは、レーザ光を透過するウィンドウと、前記ウィンドウの外縁を保持し、内部に前記ウィンドウの外側または内側の周辺に液体を流す流路が設けられたホルダとが設けられたウィンドウホルダと、を備えていてもよい。流路には、たとえば冷却装置から供給された冷却媒体が流れてもよい。 (もっと読む)


【課題】高効率に高電圧短パルスを負荷に印加可能な高電圧パルス発生装置、及びこれを用いた放電励起ガスレーザ装置を提供する。
【解決手段】高電圧パルスを発生するパルス発生回路24と、発生した高電圧パルスを圧縮するパルス圧縮回路25とを備え、パルス発生回路24及びパルス圧縮回路25を構成する要素部品のうち、少なくとも一部が絶縁性冷媒に満たされた容器中に設置され、容器中に設置された要素部品と容器の外部に設置された要素部品との間が、電流導入端子44を介して電気的に接続される高電圧パルス発生装置において、電流導入端子44が、高圧側及び接地側の通電部材57、58を備え、前記高圧側及び接地側の通電部材57、58のうち少なくとも一方が面形状となっている。 (もっと読む)


【課題】短パルス化とマルチライン発振を同時に達成するEUV光源装置用ドライバーレーザを実現する。
【解決手段】このドライバーレーザは、(i)短パルスレーザ光を出力するレーザ装置と、レーザ装置から出力される短パルスレーザ光を光パラメトリック発振により広帯域化する光パラメトリック発振装置とを有するレーザ発振器と、(ii)レーザ発振器から出力されるレーザ光を入力し、該レーザ光を櫛状の利得スペクトルで増幅して出力する少なくとも1つのCOレーザ増幅器とを具備し、レーザ発振器が、COレーザの再生増幅器を用いてレーザ光を櫛状のスペクトルを有する光パルスに変換することにより、光パラメトリック発振装置によって広帯域化されたレーザ光を少なくとも1つの増幅器の利得スペクトルに整合させるスペクトル整合器をさらに有する。 (もっと読む)


【課題】常に安定にレーザ光の出力を検出可能な紫外線レーザ装置用エネルギー測定装置を提供する。
【解決手段】レーザ光の出力を検出する光検出器(37)と、光検出器(37)の前方に配置され、光検出器(37)に入射するレーザ光を拡散させる拡散板(36)とを備えたレーザ装置用エネルギー測定装置において、紫外線光を予め照射し、拡散板(36)の透過率の変化を略飽和させた拡散板を用いることを特徴とする、レーザ装置用エネルギー測定装置。 (もっと読む)


【課題】LPP式EUV光源装置において、EUVコレクタミラーのスパッタ量を正確に反映させることにより、ミラー交換の時期を適切に判断できるようにする。
【解決手段】このEUV光源装置は、真空チャンバ内に配置され、プラズマから発生したイオンを検出して、そのイオン量を表す検出信号を出力するイオン検出器と、該イオン検出器から出力された検出信号に基づいて、イオン量を積算して積算値を算出する計算部と、該計算部によって算出された積算値が所定の基準値に至った場合に、集光ミラーの交換時期又は修理時期を表す判定信号を出力する判定部とを含む。 (もっと読む)


【課題】LPP式EUV光源装置において、EUVコレクタミラーのスパッタ量を正確に反映させることにより、ミラー交換の時期を適切に判断できるようにする。
【解決手段】このEUV光源装置は、真空チャンバ内に配置され、表面に膜が形成されているセンサを有し、プラズマから発生したイオンを含む粒子が該センサ表面に形成された膜をスパッタすることにより生じる膜厚の変化をモニタして、膜厚の変化を表す検出信号を出力するスパッタ量検出器と、該スパッタ量検出器から出力された検出信号に基づいて、膜厚の変化量を算出する計算部と、該計算部によって算出された膜厚の変化量が所定の基準値に至った場合に、集光ミラーの交換時期又は修理時期を表す判定信号を出力する判定部とを含む。 (もっと読む)


【課題】ノズルから噴射されたドロップレットターゲットを加速する場合に、加速後のドロップレットターゲットの速度を一定に維持することができるターゲット供給装置を提供する。
【解決手段】液滴状又は固体粒状のターゲット物質を噴射するターゲットノズル1と、該液滴状又は固体粒状のターゲット物質を帯電させる電荷供給装置3と、該電荷供給装置によって帯電させられたターゲット物質の帯電量を計測する帯電量モニタ4及び帯電量計測部7と、帯電量計測部7の計測結果に基づいて、上記電荷供給装置をフィードバック制御する帯電量制御部8と、帯電したターゲット物質を加速する加速器5とを含む。 (もっと読む)


【課題】エテンデュが小さく、高出力を取り出すことができ、デブリによる損傷の少ない光源装置を提供する。
【解決手段】この光源装置は、ターゲットとなる物質を供給するターゲット供給部と、ターゲットにパルスレーザビームを照射することによりプラズマを発生させるレーザ部と、プラズマから放出される極端紫外光を集光する集光光学系とを備え、レーザ部は、パルスレーザビームを所定の繰り返し周波数で発生する発振段と、パルスレーザビームを低次の横モードにするアダプティブ光学素子と、媒質として二酸化炭素ガスを含み、パルスレーザビームを増幅する少なくとも1つの増幅段とを備え、発振段と少なくとも1つの増幅段とは、MOPA方式で直列に接続され、アダプティブ光学素子は、パルスレーザビームの光路上に配置されたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 最も硬い結晶面(111)面でCaF2 結晶をカットし、この結晶面を表面粗さの小さな高精度研磨を行うことにより、潜傷を少なくし、レーザ照射によるCaF2 結晶の表面損傷を防止する。そして、P偏光のフレネル反射率を小さくし、真性複屈折による偏光純度の悪化を防止するCaF2 結晶を用いたガスレーザ用光学素子及びそれを用いたガスレーザ装置を提供する。
【解決手段】 少なくとも入射平面と射出平面のどちらか一方の平面がCaF2 結晶の(111)結晶面に平行であり、入射平面から入射したレーザ光が[111]軸と[001]軸を含む面内で、[111]軸と[001]軸との間、[111]軸と[010]軸を含む面内で、[111]軸と[010]軸との間、又は、[111]軸と[100]軸を含む面内で、[111]軸と[100]軸との間、を通過し、射出平面から射出されることを特徴とする。 (もっと読む)


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