説明

ギガフォトン株式会社により出願された特許

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【課題】レーザ光の安定性と制御性とを向上する。
【解決手段】チャンバ装置は、レーザ装置3と共に用いられるチャンバ装置であって、前記レーザ装置3から出力されるレーザ光31を内部に導入するための少なくとも1の入射口が設けられたチャンバ2と、前記レーザ装置3から出力される前記レーザ光31のビーム断面を拡大する拡大光学系50と、ビーム断面が拡大された前記レーザ光31を集光する集光光学系22と、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】レーザ光の低空間コヒーレンス化をはかり、スペックルノイズの発生によるレジストパターン形成への悪影響を低減化すること。
【解決手段】発振段レーザ(MO)10からのビームは、MOビームステアリングユニット30を介して増幅段レーザ(PO)20の共振器内に注入され増幅発振される。増幅段レーザ(PO)20からのビームは、POビームステアリングユニット40を介してOPS50に入射し、OPS50からの光はコヒーレンスモニタ60を介して出力される。レーザコヒーレンスコントローラ66は、コヒーレンスモニタ60の検出値に基づいて、MOビームステアリングユニット30のミラー、POビームステアリングユニット40のミラー等のアクチュエータに駆動信号を送り、これらのミラーの角度などを制御し、出力レーザ光のコヒーレンスが所望の値になるように制御する。 (もっと読む)


【課題】レーザ光の低空間コヒーレンス化をはかり、スペックルノイズの発生によるレジストパターン形成への悪影響を低減化すること。
【解決手段】発振段レーザ(MO)10からのビームは、MOビームステアリングユニット30を介して増幅段レーザ(PO)20の共振器内に注入され増幅発振される。増幅段レーザ(PO)20からのビームは、POビームステアリングユニット40を介してOPS50に入射し、OPS50からの光はコヒーレンスモニタ60を介して出力される。レーザコヒーレンスコントローラ66は、コヒーレンスモニタ60の検出値に基づいて、増幅段レーザ(PO)20の共振器のミラー、MOビームステアリングユニット30のミラー、POビームステアリングユニット40のミラー等のアクチュエータに駆動信号を送り、これらのミラーの角度などを制御する。 (もっと読む)


【課題】レーザ光の低空間コヒーレンス化をはかり、スペックルノイズの発生によるレジストパターン形成への悪影響を低減化すること。
【解決手段】発振段レーザ(MO)10からのビームは、MOビームステアリングユニット30を介して増幅段レーザ(PO)20の共振器内に注入され増幅発振される。増幅段レーザ(PO)20からのビームは、POビームステアリングユニット40を介してOPS50に入射し、OPS50からの光はコヒーレンスモニタ60を介して出力される。レーザコヒーレンスコントローラ66は、コヒーレンスモニタ60の検出値に基づいて、増幅段レーザ(PO)20の共振器のミラー、MOビームステアリングユニット30のミラー、POビームステアリングユニット40のミラー等のアクチュエータに駆動信号を送り、これらのミラーの角度などを制御する。 (もっと読む)


【課題】チャンバ内に配置された要素の特性や性能が劣化することを抑制する。
【解決手段】チャンバ装置は、レーザシステムおよび前記レーザシステムから出力されるレーザ光を集光する集光光学系と共に用いられるチャンバ装置であって、前記レーザ光を内部へ導入するための入射口を有するチャンバと、前記チャンバに取り付けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給システムと、前記チャンバ内に配置され、前記チャンバ内で前記ターゲット物質に前記レーザ光が照射されて発生した帯電粒子を回収するための回収部と、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】ターゲット物質又はプラズマによって反射されてドライバレーザに戻る反射光(戻り光)によるドライバレーザの故障を防止する極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】この極端紫外光源装置は、チャンバ内にターゲットを供給するターゲット供給部と、ドライバレーザから出射されるレーザ光をターゲットに集光することによってプラズマを発生させるレーザ集光光学系と、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射するEUV集光光学系と、所定の光路を通過したレーザ光の第1の直線偏光成分を円偏光成分に変換しながら反射し、集光されたレーザ光がターゲット又はプラズマによって反射されて生じた戻り光の円偏光成分を第2の直線偏光成分に変換しながら反射するリターダーと、レーザ光の光路に配置され、第1の直線偏光成分を反射して第2の直線偏光成分を吸収するコーティングミラーとを具備する。 (もっと読む)


【課題】LPP型EUV光源装置において、簡単な構成によりプラズマ発生室内の真空度や清浄度を高める。
【解決手段】液滴生成室100と、該液滴生成室と開口部101aを介して接続されているプラズマ発生室110と、プラズマ生成室内にターゲット物質を供給するノズル102と、ノズルから供給される溶融金属のターゲット物質に基づいて、繰り返し滴下する溶融金属の液滴108を生成するピエゾ素子103及びピエゾドライバ106と、生成されたターゲット物質の液滴108aが、開口部を通過するのを妨げる液滴遮断ユニット107と、液滴遮断ユニットが所定のタイミングで動作するように制御する制御部115と、レーザ光を出射するレーザ光源111と、レーザ光源から出射したレーザ光を、液滴生成室において生成され、開口部を通過してプラズマ発生室に導入されたターゲット物質の液滴108bに照射させるレンズ112とを含む。 (もっと読む)


【課題】ほぼ均一な強度で所望のパルス幅を実現できるドライバレーザを用いて、効率的にEUV光を得ることができる極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】この極端紫外光源装置は、ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生するレーザ生成プラズマ型極端紫外光源装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内の所定の位置に液体又は固体の金属ターゲットを供給するターゲット供給手段と、互いに異なる遅延を伴う複数のパルスレーザビームを合成して強度が略均一の単一パルスレーザビーム又はパルス列レーザビームを生成し、ターゲット供給手段によって供給されるターゲットに該レーザビームを照射することによりプラズマを生成するレーザビーム生成部と、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射するコレクタミラーとを具備する。 (もっと読む)


【課題】変換効率の良い波長変換装置及び紫外光生成レーザ装置を提供すること。
【解決手段】光入射面と、光出射面とを備え、前記光入射面から入射した光の第2高調波光を発生する波長変換素子と、前記波長変換素子に入射する光が通る入射部と、前記波長変換素子から出射した光が通る出射部とを備える液体セルと、前記波長変換素子と共に前記液体セル内に収容されて、かつ前記波長変換素子が少なくとも前記光出射面が液体と接するように浸漬される浸漬液と、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】エネルギー変換効率を向上する。
【解決手段】レーザ装置は、一方の主面側に入射した第1レーザ光の一部を第1反射光として反射するとともに残りの一部を第1透過光として透過し、且つ、他方の主面に入射した第2レーザ光の一部を第2透過光として透過するとともに残りの一部を第2反射光として反射するミラーと、前記第1透過光と前記第2反射光との光軸、もしくは、前記第1反射光と前記第2透過光との光軸が略一致するように、前記ミラーへ前記第1および第2レーザ光を入射させる光学系と、前記第1透過光または前記第1反射光のビームパラメータを計測する第1計測部と、前記第2反射光または前記第2透過光のビームパラメータを計測する第2計測部と、前記第1計測部の計測結果に基づいて前記第1レーザ光を調整する第1調整部と、前記第2計測部の計測結果に基づいて前記第2レーザ光を調整する第2調整部と、を備えてもよい。 (もっと読む)


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