【課題】前置増幅部前段の性能特性の変動による影響が抑制されたＸ線分析装置を提供する。
【解決手段】標準サンプルから放出された蛍光Ｘ線を検出する半導体Ｘ線検出素子、及び半導体Ｘ線検出素子の出力信号を受信する初段ＦＥＴ回路を含む前置増幅部前段と、前置増幅部前段を冷却する冷却装置と、前置増幅部前段から出力される検出信号を分析する信号分析装置と、検出信号を分析して得られる前置増幅部前段の性能特性を示す性能値、及び前置増幅部前段の温度をリアルタイムで監視し、冷却装置を制御して性能値が規定値を満たすように前置増幅部前段の温度を調整させる制御装置とを備え、前置増幅部前段が調整された温度において、測定対象物から放出された蛍光Ｘ線を分析する。 （もっと読む）

【課題】第1の測定と第2の測定との間で測定サンプルが大気に触れないようにすることができ、またこれらの複数の測定にかかる時間を短縮化すること。
【解決手段】一つの気密（減圧）容器内に、第１の測定を行う第１の測定部と、第１とは異なる第２の測定を行う第２の測定部とを設ける。試料を取り付けたサンプルホルダの、第１の測定部から第２の測定部への移動は、サンプルホルダ移動手段により行う。 （もっと読む）

【課題】試料識別標記や特異元素で構成されたマスクや試料ホルダを要せず、試料を試料ホルダに搬送する前に試料ホルダを短時間で自動識別する分析装置を提供する。
【解決手段】本発明の分析装置は、カセット２１の種類を識別するカセット部２０と、試料Ｓが挿入される挿入口８３、および、試料が載置される輪状の台座８２を有する試料ホルダ８と、カセット２１から試料ホルダ８へ試料Ｓを搬送する搬送手段２３と、試料ホルダの挿入口の径方向端８４または輪状の台座の内径方向端８５を検出して、載置されるべき試料の直径に対応した試料ホルダの種類を識別する試料ホルダ識別信号を発信する試料ホルダ識別手段３５と、カセット識別信号および試料ホルダ識別信号に基づいて、カセット２１に収納されるべき試料の直径と試料ホルダ８の台座に載置されるべき試料の直径とが合致しているか、否かを判定する判定手段４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハに形成された半導体チップのメモリマット部の最周辺部まで高感度に欠陥判定できる検査装置およびその検査方法を提供する。
【解決手段】所定パターンがＸ方向，Ｙ方向ないしＸＹ両方向に所定のピッチで繰返し形成された回路パターンの形成領域を備えるダイの画像を取得して欠陥を判定する回路パターン検査装置において、前記取得された回路パターンの画像を記憶する画像メモリと、該画像メモリに記憶された画像を、当該画像データを前記Ｘ方向，前記Ｙ方向ないし前記ＸＹ両方向のいずれかの方向に加算平均して得られる加算平均画像と比較して差分画像を生成し、該差分画像の差分値が予め定められたしきい値より大きい領域を欠陥と判定するプロセッサエレメントと、を備える。 （もっと読む）

【課題】効率的な試料表面検査システムを提供する。
【解決手段】試料の表面を平坦化する表面平坦化機構と、試料上に抵抗膜を形成する抵抗膜コーティング機構と、試料表面の評価を行う表面検査機構を備えている。表面検査機構は、紫外線発生源３０と、電磁波を試料表面に斜め方向から導く光学系と、試料表面から放出された電子を試料表面に直交する方向に導く写像光学系４０と、検出器５０と、画像形成／信号処理回路６０とを備えている。写像光学系は、３つのレンズ系４１〜４３と、アパーチャ４４とを備えている。紫外線源の代わりにＸ線源を用いてもよい。また、電子線源から生成された電子線を試料の表面上に導く装置を設け、電磁波照射装置及び電子線照射装置の一方又は両方を駆動して、電磁波又は電子線の一方又は両方を試料の表面に照射するようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】試料が軽量な小片である場合でも外部から伝わる振動による試料の移動を防止し、試料の蛍光Ｘ線分析を精度良く行うことができる試料ホルダ及び試料分析方法を提供する。
【解決手段】上側チャンバ４１と下側チャンバ３１とを上下に仕切るベース板３２に形成された照射窓３６を塞ぐように２枚のフィルム１１ｂを載置するとともに、Ｘ線管３３により励磁Ｘ線が照射される試料１００を２枚のフィルム１１ｂで挟持した。 （もっと読む）

【課題】電子ビームを放出中であっても高真空を維持可能な小型荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子線装置の電子光学系の差動排気の上流に非蒸発ゲッター
ポンプを配し，下流に必要最小限のイオンポンプ配して，両者を併用することにより達成
される。さらに，取り外し可能なコイルを電子銃部に実装することにより，別の課題を解
決する。
【効果】カラム内の真空度を１０^−８Ｐａ台の高真空で維持できる小型荷電粒子線装置，例えば，小型の走査型電子顕微鏡，複数のカラムを有する荷電粒子ビーム装置を得ることができる。さらに，半導体の電気特性を直接計測するプローバ装置の探針の位置をモニタする小型ＳＥＭカラムを容易に内蔵できる。その他にも，半導体素子検査用のミラープロジェクション方式の電子線検査装置の電子線照射カラムの小型化が可能となる。 （もっと読む）

【課題】
観察座標を算出するのに不適当な，観察装置で検出するのが困難な欠陥(例えば，膜下欠陥など)が多発する品種・工程のウェーハにおいて，安定かつ高スループットに検査装置と観察装置の座標系のずれを補正する。
【解決手段】
観察装置を，座標変換情報を記憶する記憶手段と、検査装置で検出した複数の欠陥の座標情報を記憶手段に記憶しておいた座標変換情報を用いてそれぞれの欠陥に対応する観察装置上の座標情報に変換する座標情報変換手段と、座標情報変換手段で変換した観察装置上の座標情報に基づいてそれぞれの欠陥を撮像する撮像手段と、撮像手段で取得した画像から抽出した欠陥の座標情報と座標変換手段で変換したそれぞれの欠陥の座標情報とから記憶手段に記憶しておいた座標変換情報を修正する座標情報修正手段とを備えて構成した。 （もっと読む）

【課題】 電子線を使う半導体検査装置のスループットを向上する。
【解決手段】
電子線を試料に向けて照射する電子源１４・６と、該試料を保持する試料ステージ１４・２２と、該電子ビームの試料へ向けた照射によって該試料の表面の情報を得た電子を検出する検出器１４・４と、該検出器１４・４に検出された電子に基づいて試料表面の画像を生成する画像処理ユニット１４・５と、電子源１４・６から試料ステージ１４・２２への１次電子光学系と試料ステージ１４・２２から検出器１４・４への２次電子光学系を分離するウィーンフィルタ１４・３と、を備え、電子銃１４・６から放出された電子線はウィーンフィルタ１４・３においてクロスオーバを形成すると共に、試料表面から放出された放出電子はウィーンフィルタ１４・３においてクロスオーバを形成し、１次電子光学系と２次電子光学系のクロスオーバの位置は、ウィーンフィルタ１４・３上で異なっている。 （もっと読む）

【課題】エネルギー校正が必要であることを的確に分析者に知らせることで、不要なエネルギー校正作業をなくすとともに、大きなエネルギー位置ずれの下での信頼性の乏しい測定の実行も回避する。
【解決手段】被測定試料２に１次Ｘ線を照射して得られた検出信号に基づいて作成されるＸ線スペクトル上で、レイリー散乱線検出部１４はＸ線管１のターゲット元素に応じたエネルギー位置に出現する筈であるレイリー散乱線を検出する。エネルギー判定部１５は、この散乱線が検出されればエネルギー位置ずれがないと判断するが、散乱線が検出されない場合にエネルギー位置ずれが大きくエネルギー校正が必要であると判断する。その場合、制御部２０は測定を一時中断し、報知部２２はエネルギー校正が必要である旨の表示を行う。これにより、分析者は的確なタイミングでエネルギー校正を実施できる。 （もっと読む）

【課題】 弾性膜の試料室を形成する部位に、しわや弛み（撓み）を確実に無くすことができる蛍光Ｘ線分析装置のセルを提供する。
【解決手段】 弾性膜１１がセル本体１２と膜固定体１３との間に固定される際に、弾性膜１１の外周部がセル本体１２に係止されるように構成される蛍光Ｘ線分析装置のセル１において、セル本体１２は、外周部が係止された弾性膜１１を平面状にして支持すべく、凹部１２１ａの周りに環状の支持部１２１ｂを備え、膜固定体１３は、平面状にして支持された弾性膜１１における支持部１２１ｂよりも内方且つ開口部１３２よりも外方の部位を押圧すべく、環状の押圧部１３１ｃを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明はＸ線光電子分光装置並びに全反射Ｘ線光電子分光装置に関し、試料表面を極めて平坦にすることにより、高精度の試料分析ができるようにしたＸ線光電子分光装置，全反射Ｘ線光電子分光装置を提供することを目的としている。
【解決手段】試料表面上を帯電液滴エッチング法を用いてエッチングするエッチング手段と、エッチングした試料表面に全反射条件を満たす全反射臨界角以下の角度でＸ線を照射するＸ線照射手段と、Ｘ線を照射した試料表面から放出される光電子を解析することにより試料の表面近傍の深さ方向分析を行なう解析手段と、を含んで構成される。 （もっと読む）

【課題】培養された細胞等からなる試料の観察又は検査を良好に行うことのできる試料保持体、試料検査装置及び試料検査方法を提供する。
【解決手段】試料保持体４０は、外部からアクセス可能なように開放された試料保持面３７ａを有する本体部３７と、第１の面３２ａを試料保持面とする膜３２とを備え、該膜３２の第１の面３２ａに配置された試料３８に、該膜３２を介して試料観察又は検査のための一次線７が照射可能であり、該本体部３７における試料保持面３７ａの反対側の面（下面３０５）に、導電性を有する領域（導電膜３０１により覆われた領域）が存在するとともに、光が透過可能な領域３０２が設けられている。ここで、光が透過可能な当該領域３０２は、導電膜３０１により覆われていない。当該領域３０２を利用すれば、光学顕微鏡による試料３８の観察・検査を良好に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】ハードウエアの追加を伴わない簡単な構成で、Ｘ線照射の絞りを変更するためのＸ線遮蔽板の位置ずれを検知する。
【解決手段】設定されているものと異なる絞り孔４ａ〜４ｄの選択が指示されると、制御部１０は現在の絞り孔に応じた数のパルス信号をパルスモータに送ってＸ線遮蔽板４をホームポジションＰ２に戻し、その後、センサ１３により原点位置Ｐ１に来たことが検出されるまでパルス信号を計数しつつパルスモータを駆動する。その計数値と規定数との差が許容値以下であるか否かを判定し、許容値を超えている場合、ホームポジションが適切でなく元のＸ線遮蔽板４の位置が異常であると判断して表示部１２にエラー表示を行う。また、絞り孔の変更がない場合でも規定回数毎に同様の異常検知を実行することで、絞り孔の位置がずれた状態で取得された可能性のある信頼性のないデータの棄却を可能とする。 （もっと読む）

【課題】試料を交換する際に、複雑な機構を用いずに試料の位置ずれを抑制でき、且つ試料軸の正確な回転数を保つことができる試料交換機を提供する。
【解決手段】第１の回転軸の周りを回転可能な複数の試料台１０ａ，１０ｅを円周上に沿って配列した円板状の回転板４と、回転板４を回転させる試料位置逐次移動機構７と、複数の試料台１０ａ，１０ｅの回転軸に接続され極性の異なる複数の第１の磁石の作用極を回転軸を中心軸とする円周面上に交互に周期的に配列した複数の受動磁石配列ユニット１２ａ，１２ｅと、極性の異なる複数の第２の磁石の作用極を回転軸を中心軸とする円周面上に交互に周期的に配列して回転する駆動磁石配列ユニット８１と、測定位置の試料台１０ａに接続された受動磁石配列ユニット１２ａを、駆動磁石配列ユニット８１を回転させることにより第１及び第２の磁石間の磁力を介して回転させる試料台回転駆動部８とを備える。 （もっと読む）

【課題】安全にかつ短時間で被計測物の傾斜角度を調整できる被計測物の保持装置を提供する。
【解決手段】細長な被計測物３内の内容物をＸ線検査により確認すべくその被計測物３を傾斜させて保持する被計測物３の保持装置６において、基台１４上に、被計測物３を載置する傾斜調整トレイ１５を傾動自在に設け、基台１４上に傾斜調整トレイ１５の傾斜角度を調整する傾斜角度調整装置１６を設けたものである。 （もっと読む）

【課題】検量線を短時間に容易に作成できるようにして、定量分析を短時間に容易に行うことができるようにする。
【解決手段】被検試料をスキャン読取りすることによって回折強度プロファイルを求め、そのプロファイルに含まれているピーク波形の積分量を求め、検量線に基づいてその積分量から含有量を判定する定量分析方法である。含有量既知の標準試料に対して広いスキャン範囲（１１．０°≦２θ≦１３．２°）で所定の読取りステップ幅（０．０２°）で測定を行って回折線プロファイルＰ１〜Ｐ５を求め、その読取りステップ幅ごとの測定量（Ｉ）を標準試料ごとに記憶し、被検試料の測定結果に基づいて定量測定スキャン範囲を決め、記憶した標準試料についてのステップ幅ごとの強度データについて、定量測定スキャン範囲と同じ範囲（γ≦２θ≦δ）の積分値を演算によって求め、その積分値と標準試料の既知の含有量とによって検量線を求める。 （もっと読む）

【課題】システム自体と基板の汚染を防止する蛍光Ｘ線分析システム、それに用いるプログラムを提供する。
【解決手段】蛍光Ｘ線分析システム１００は、基板１を測定する蛍光Ｘ線分析装置４０と、基板１の被測定物２を反応性ガスにより溶解する気相分解装置２０と、溶液で被測定物２を回収して基板１の表面に保持する試料回収装置３０と、基板１を、蛍光Ｘ線分析装置４０から気相分解装置２０へ、気相分解装置２０から試料回収装置３０へ、および試料回収装置３０から蛍光Ｘ線分析装置４０への搬送を行う搬送装置５０と、蛍光Ｘ線分析装置４０、気相分解装置２０、試料回収装置３０および搬送装置５０を制御するとともに、被測定物２の測定値が所定の分析閾値未満の基板１であるか、否かを識別する制御装置６０とを有する制御装置６０とを備える。 （もっと読む）

【課題】ウェハに打ち込んだイオンの影響や、パターン接続の有無、パターンエッジの形状などの影響による検出画像誤差を生じることなく画像を検出する。
【解決手段】パターン検査方は、対象物基板を撮像してディジタル画像を得、このディジタル画像を用いて予め座標データで登録した領域、又は予め登録したパターンと一致するパターンをマスクして欠陥を検出し、この検出した欠陥を表示するようにした。又本発明によるパターン検査方法においては、対象物基板を撮像してディジタル画像を得、このディジタル画像を用いて欠陥を検出し、この検出した欠陥のうち登録した特徴に一致する欠陥の表示非表示を切替えるか他と識別可能なように表示するようにした。 （もっと読む）

【課題】
電子線を用いて欠陥を検出する検査装置において、電子線を用いた場合の、試料内のチップ内の回路パターンの種類や密度の差異によって生じる検査画像のコントラストの差異を原因とした検査性能の低下を防止する。
【解決手段】
試料に荷電粒子線を走査して得られる少なくとも２つの画像を比較して試料の回路パターンの欠陥を抽出する荷電粒子線を用いた検査方法または装置であって、あらかじめ定められた幅で荷電粒子線を走査しながら試料を連続的に移動し、回路パターンの種類または密度が異なる領域では、検査条件を変えて画像を取得する。 （もっと読む）