【課題】基体に塗布した際の膜厚が均一でピンホールやハジキ等の面状欠陥が発生しにくく、しかもプリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れ、高精細な永久パターンを効率良く形成可能な感光性フィルム、感光性フィルムの製造方法、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。
【解決手段】本発明の感光性フィルムの製造方法は、i）感光性基およびアルカリ現像性を付与するための酸基を導入した化合物、ii）重合性化合物、iii）光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物を含有する塗布液を調製する塗布液調製工程と、前記塗布液に脱泡処理を施す脱泡工程と、前記脱泡工程後に、前記塗布液を支持体に塗布する塗布工程と、前記塗布液を乾燥させて前記支持体上に感光層を形成する乾燥工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】膜厚の減少及びクラックの発生を抑制しながら、パターニングされたシリカ系被膜を優れた解像性で比較的容易に形成することを可能にする感光性樹脂組成物を製造する方法の提供。
【解決手段】（ａ）成分：下記一般式（１）で表される１種以上のシラン化合物を加水分解縮合して得られる縮合体であるシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：前記シロキサン樹脂を溶解する溶媒と、（ｃ）成分：ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルとを含有する溶液を、３０℃〜１４０℃に加熱する工程を備える、感光性樹脂組成物の製造方法。
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ（１）［式（１）中、ｎは０〜２の整数を示し、Ｒ^１は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基等を示し、Ｘは加水分解性基を示す。］ （もっと読む）

【課題】異物が少ないカラーフィルタを作製できる硬化性着色組成物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）顔料、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）重合性化合物、及び（Ｅ）溶剤を含む硬化性着色組成物を製造する過程で、濾過を３回以上行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 熱架橋剤としてエポキシ化合物を含み、保存安定性に優れる感光性組成物等の提供。
【解決手段】 本発明の感光性組成物は、バインダーと、光重合開始剤と、不飽和二重結合を少なくとも１つ有する重合性化合物と、熱架橋剤と、を含み、イオン交換樹脂を用いてイオン交換処理が施されていることを特徴とする。前記光重合開始剤は、例えば、オキシム誘導体からなる。前記イオン交換樹脂は、例えば、陽イオン交換樹脂及び陰イオン交換樹脂を混合してなるイオン交換樹脂からなる。該イオン交換処理は、例えば、バッチ法により行う。 （もっと読む）

【課題】段差シリコン基板等に設けられた微細な有底の孔部や溝部における内壁面及び底面に対して、均一な被膜を高精度且つ容易に形成することができる被膜形成方法及びそれに用いるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本被膜形成方法は、［１］（ａ）開口部の面積が２５〜１００００μｍ^２であり且つ深さが１０〜２００μｍである孔部１１及び（ｂ）開口部の線幅が５〜２００μｍであり且つ深さが１０〜２００μｍである溝部１２のうちの少なくとも一方を有する段差基板１に、溶剤１３を塗布する溶剤塗布工程と、［２］ポジ型感光性樹脂組成物を、孔部１１及び溝部１２内の溶剤１３と接触するように、段差基板１に塗布する樹脂組成物塗布工程と、［３］塗膜１４を乾燥する乾燥工程と、を備えており、且つ、孔部１１並びに溝部１２における内壁面及び底面に樹脂成分を含む被膜１６を形成する。 （もっと読む）

【課題】集積回路製造のための上塗りのフォトレジスト層と共に使用されるのに有用な反射防止コーティング組成物の提供。
【解決手段】第１の態様では、有機コーティング組成物が提供され、特にはスピンオン反射防止コーティング組成物であって、ポリエステル樹脂成分を有するものが提供される。さらなる態様においては、多ヒドロキシ化合物の重合により得られる樹脂成分を含むコーティング組成物が提供される。 （もっと読む）

【課題】 感光性樹脂組成物を、シリコン系基板に塗布する際に、塗布による塗膜の均一性の低下と泡の巻き込み等の欠陥を低減することのできる半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００重量部と、感光材（Ｂ）１〜１０
０重量部と、を含む感光性樹脂組成物を、シリコン系基板（Ｃ）上に塗布する直前に、前記シリコン系基板（Ｃ）上を溶剤（Ｄ）で前処理することを特徴とする半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高強度で、厚み精度および寸法精度が高く、短時間に作成できる印刷用中空芯材または中空円筒状印刷基材の提供することを目的とする。
【解決手段】短繊維を含む印刷用中空芯材用感光性樹脂組成物（Ａ１）であって、前記短繊維が、そのアスペクト比が５以上５０００以下であり、２０℃において液状であって、２０℃における粘度が０．１Ｐａ・ｓ以上５０ｋＰａ・ｓ以下である感光性樹脂組成物（Ａ１）を開示する。 （もっと読む）

【課題】基材との密着性に優れたグラフトポリマーパターンを、基材表面の所望の領域にのみ簡便に形成しうるグラフトポリマーパターン形成方法、エッチング工程を行うことなく微細な導電性パターンの形成が可能であり、且つ、基材表面の凹凸が少ない場合であっても基材との密着性に優れた導電性パターンを形成しうる導電性パターン形成方法を提供する。
【解決手段】（ａ）基材上に光ラジカル発生剤を含有する組成物をパターン状に直接付与する工程、（ｂ）光ラジカル発生剤を基材に固定化する工程、及び、（ｃ）固定化された前記光ラジカル発生剤を有する基材表面に、重合性の二重結合を有する化合物を接触させた後、該基材表面にエネルギーを付与して、固定化された光ラジカル発生剤が存在する領域にグラフトポリマーパターンを形成する工程、を有することを特徴とするグラフトポリマーパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト原液と溶剤を混合したレジスト液の濃度を正確に測定する。
【解決手段】レジスト濃度測定装置１００にはレジスト原液タンク１０１、溶剤タンク１０２、及びマーカー材タンク１０３が設けられ、これらタンクから供給されるレジスト原液、溶剤、及びレジスト原液の濃度に対して所定の比率で添加されるマーカー材溶液が混合ブロック１０６で混合される。マーカー材は６００ｎｍ〜９００ｎｍの波長の光に対して最大の吸光度を有しており、吸光度計１０８で６００ｎｍ〜９００ｎｍの波長の光をレジスト液に照射することで、マーカー材のみの一定の吸光度を測定することができる。そしてマーカー材の濃度を演算することにより、レジスト液の濃度を正確に測定することができる。 （もっと読む）

【課題】未露光の非硬化部における現像残査を少なく抑えてパターン形成性を保ちつつ、基材となる無機材料と着色パターンとの密着性を向上させる。
【解決手段】無機材料上に密着助剤を付与する密着処理工程と、密着助剤が付与された前記無機材料の上に、（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される有機シラン化合物〔Ｌ：１価の有機基；Ｒ^１〜Ｒ^２：炭化水素基；ｎ＝１〜３〕と（Ｂ）光重合開始剤と（Ｃ）エチレン性不飽和二重結合を有する化合物と（Ｄ）顔料とを含有する硬化性顔料組成物を付与して硬化性層を形成する層形成工程と、硬化性層をマスクを介してパターン状に露光する露光工程と、露光後の硬化性層を現像して着色パターンを形成する現像工程とを含んでいる。

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【解決手段】基板上に形成されたレジスト膜を液中で露光する液浸リソグラフィーによるパターン形成方法において、ヘキサフルオロイソプロピルアルコール基と加水分解性基を有するシラン化合物によってシリル化された基板を用いることを特徴とするパターン形成方法。
【効果】本発明の液浸リソグラフィーによるパターン形成方法は、撥水性を高めた基板を用いることによって、ウエハーエッジや裏面に露光後において水の残存や回り込みを防ぐことができる。 （もっと読む）

【解決手段】基板上に形成されたレジスト膜を液中で露光する液浸リソグラフィーによるパターン形成方法において、炭素数１〜１４のアルキル基を有するシラン又はシラザンと、少なくとも１つのフッ素原子で置換された炭素数３〜１３のアルキル基を有するシランとによってシリル化された基板を用いることを特徴とするパターン形成方法。
【効果】本発明の液浸リソグラフィーによるパターン形成方法は、撥水性を高めた基板を用いることによって、ウエハーエッジや裏面に露光後において水の残存や回り込みを防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】赤外線レーザーにより画像記録が可能であり、実用的なエネルギー量で良好な印刷物を多数枚得ることができ、しかも保存安定性に優れる平版印刷版原版およびその平版印刷方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、下塗り層、およびブロック化イソシアネート基を有する化合物を含有する画像形成層をこの順に有する平版印刷版原版において、該下塗り層が、（ａ）支持体表面と相互作用する官能基と、（ｂ）ブロック化イソシアネート基とを、それぞれ少なくとも１つ有する化合物を含有するか、または（ａ）支持体表面と相互作用する官能基と、（ｃ）イソシアネート基と反応する官能基とを、それぞれ少なくとも１つ有する化合物を含有することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】第一のレジスト膜上に第一のレジストパターンを形成した後、第一のレジストパターンの上に第二のレジスト膜を形成し第二のレジストパターンを形成するために、第一のレジストパターンに対して化学的な処理を行って第二のレジスト液に溶解しないように性状を変化させるフリージングプロセスにおいて、第一のレジストパターンが第二のレジスト液に溶解せず、第一のレジストパターンの寸法が変化しない、更には、第一のレジストパターンと第二のレジストパターンのドライエッチング耐性が同じであるという要件を満たすように、第一のレジストパターンに対して化学的な処理を行う為のフリージングプロセス用の表面処理剤及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】多価アルコール化合物を含有するパターン形成用表面処理剤、及び、当該表面処理剤を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】インプリント法において、モールドパターン破壊を低減するインプリントモールドおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のインプリント用モールドは、凹凸状パターンの少なくとも凹部の角をラウンド形状にしたことを特徴とすることにより、インプリントにおけるモールド離型時に、モールド材料中の応力集中を緩和することが出来る。このため、モールドパターンの破壊を低減することが可能となる。特に、高アスペクト比のパターン転写であってもモールドパターン破壊を低減することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】デバイスの微細化におけるパターニング寸法精度の向上を図れるようにすること。
【解決手段】半導体ウエハＷにレジスト塗布処理，露光処理及び現像処理等のリソグラフィ処理を施して所定のパターンを形成するリソグラフィ工程と、上記現像処理後のパターンをマスクとするエッチング工程と、を繰り返し行うパターン形成方法において、１回目のエッチング処理後のウエハの表面に、該ウエハに形成されたエッチングパターン２の空間を残して犠牲膜４を皮膜し、その後、２回目以降のリソグラフィ工程及びエッチング工程を行ってパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】液浸露光工程を利用した半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。
【解決手段】液浸露光工程でフォトレジスト膜の上部をアルカンまたはアルコール溶媒で前処理した後、オーバーコーティング膜を形成する段階を含むことにより、少量の溶媒でむらのないオーバーコーティング膜を形成することのできる半導体素子の微細パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】基板の表裏を反転させることなく基板の裏面を良好に洗浄することができる裏面洗浄装置、該裏面洗浄装置を備えた基板処理装置および裏面洗浄方法を提供する。
【解決手段】処理チャンバー１内に搬入された基板Ｗは、基板表面Ｗｆを上方に向けた状態でスピンチャック２に保持される。続いて、回転駆動される基板Ｗの裏面ＷｂにＤＩＷが供給され、基板裏面Ｗｂに液膜が形成される。次に、冷却ガス吐出ノズル３から冷却ガスを基板表面Ｗｆに向けて局部的に吐出させながら冷却ガス吐出ノズル３を基板Ｗの回転中心位置から基板Ｗの端縁位置に向けて揺動させる。これにより、基板裏面Ｗｂの全面に凍結膜が形成される。そして、基板裏面Ｗｂに対して膜除去処理を施すことによって基板裏面Ｗｂから凍結膜を除去する。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング法によるカラーフィルタの製造方法であって、微細かつ矩形な画素を有し平坦性に優れたカラーフィルタを製造することが可能なカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】支持体上に設けた第１の着色層上に、エッチングストッパー層を形成し、第２の着色層を形成すべき領域に対応する第１の着色層をドライエッチング法により除去する。その除去領域を埋め込むように第２の着色層を形成し、次いで、第３の着色層を形成すべき領域に対応する第１及び第２の着色層をドライエッチング法により除去する。その除去領域を埋め込むように第３の着色層を形成し、着色層上に積層された着色層をエッチングストッパー層が露出するまで除去するカラーフィルタの製造方法である。 （もっと読む）