【課題】マイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明光学系を提供する。
【解決手段】マイクロリソグラフィ投影露光装置（１）用の照明光学系は、光源（２、２’）からの照明光（３、３’）で物体表面（１９）を照明するのに用いられる。少なくとも二つの照明設定を照明光学系の瞳面（１２）に設定するために、少なくとも二つの個々の光学モジュール（２８、２９）を用いる。光学モジュールの上流にある光路には、第１の光学モジュール（２８）及び／又は第２の光学モジュール（２９）に照明光（３、３’）を任意に送る分離要素（９）がある。二つの光学モジュール（２８、２９）の下流にある光路には、第１の光学モジュール（２８）及び／又は第２の光学モジュール（２９）を通過した照明光（３、３’）を照明領域に送る結合要素（３５）がある。これにより、照明光学系と光源をも有する照明系とがもたらされ、異なる照明設定間の高速切り換えが可能となる。 （もっと読む）

【課題】温度の影響による変形を低減する、ＥＵＶリソグラフィ用の光学機構、特に投影レンズと、光学素子を有する該光学機構を構成する方法とを提供する。
【解決手段】反射面３１ａ及び第１ゼロ交差温度Ｔ_ＺＣ１でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するＴｉＯ_２ドープ石英ガラスから構成された基板３２を備える第２ミラー２２と、反射面及び第１ゼロ交差温度とは異なる第２ゼロ交差温度でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するＴｉＯ_２ドープ石英ガラスから構成された第２基板を備える第２光学素子とを備え、第１ゼロ交差温度における第１基板３２の熱膨張率の勾配（ΔＣＴＥ_１>）及び／又は第２ゼロ交差温度における第２基板の熱膨張率の勾配（ΔＣＴＥ_２）は負の符号を有する光学機構に関する。 （もっと読む）

【課題】スペックルノイズが目立つことなく、被照明領域（像形成領域）を均一に照明する照明装置、光学装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る照明装置は、コヒーレント光を出射する光源１１と、光源１１から出射されたコヒーレント光を走査する光走査部１５と、複数の要素レンズを有し、光走査部で走査された光を発散させるレンズアレイ２２と、レンズアレイ２２の各点から出射される発散光の発散角度を抑えるとともに、発散角度の抑えられた発散光が被照明領域を経時的に重ねて照明するように設定された光路変換系２３と、を備え、レンズアレイ２２の入射側あるいは出射側には、隣接する要素レンズ間で通過光束同士が干渉しないように、偏光制御素子もしくは光路差長を与える光学素子が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】読取ヘッドの製造コストの低減と小型化を図る
【解決手段】光学素子１５は、光学ブロック２０と、この光学ブロック２０の第１，第２曲面２３，２５の表面に形成された第１反射膜２１及び第２反射膜２２と、補償光学ブロック１８ａから構成される。第１反射膜２１が形成された第１曲面２３は、Ｐ偏光を透過し、Ｓ偏光を反射する。光源部１３ａからＰ偏光の照明光が第１曲面２３の外面に入射し、これが透過して対物面２４から原稿１１に照射される。原稿１１からの物体光が対物面２４から第１曲面２３に入射する。物体光のうちＰ偏光の正反射光は、第１曲面２３を透過し、Ｓ偏光となる拡散反射光が第２曲面２５に向けて反射される。反射光は、第２反射膜２２が形成された第２曲面２５で反射されて射出面２６から光学ブロック２０の外部に射出されて結像する。 （もっと読む）

【課題】広いスペクトル幅を有する発光体を用いる場合であっても、色再現範囲の拡大を図ることを可能とする投写型映像表示装置を提供する。
【解決手段】投写型映像表示装置１００は、励起光を出射する励起光源（光源１０Ｂ_１）及び所定色成分光を出射する固体光源（光源１０Ｂ_２又は光源１０Ｒ）を有する光源ユニット１０と、カラーホイール２０と、複数のＤＭＤ４０と、投写ユニット５０とを備える。カラーホイール２０は、励起光に応じて発光光を発光する発光体が設けられた回転面２１を有する。分離光学素子（プリズム２２０又はプリズム２３０）は、発光光のうち、所定波長を有する主成分光を第１光変調素子（ＤＭＤ４０Ｇ）に至る第１光路に分離するとともに、発光光のうち、主成分光以外の残成分光を（ＤＭＤ４０Ｂ又はＤＭＤ４０Ｒ）に至る第２光路に分離する。 （もっと読む）

【課題】光学要素を取り付けるのに十分な設計空間を、特に対物系の前方部分に確保する投影対物系を提供する。
【解決手段】物体視野が形成される物体平面（２０、１００、３００、２１０３）と、入射瞳（ＶＥ）と、前記物体平面において前記入射瞳（ＶＥ）を鏡像化することによって得られる、鏡像化入射瞳平面（１０３）内の鏡像化入射瞳（ＲＥ）と、像平面（２１、１０２、３０２、２１０２）と、光軸（ＨＡ）と、少なくとも第１の鏡（Ｓ１）と第２の鏡（Ｓ２）とを備える。この投影対物系の入射瞳のバック・フォーカスが負であり、物体視野の中心点から発生して、物体平面から像平面にかけて対物系を横断する主光線（ＣＲ、ＣＲＰ）が、少なくとも１つの交差点（ＣＲＯＳＳ）において光軸（ＨＡ）と交差し、すべての交差点（ＣＲＯＳＳ、ＣＲＯＳＳ１、ＣＲＯＳＳ２）の幾何学的位置が、像平面（２１、１０２、３０２、２１０２）と鏡像化入射瞳平面（１０３）との間にある。 （もっと読む）

【課題】 極紫外スペクトル範囲（ＥＵＶ）内の波長に向けて構成された反射投影レンズを用いてマスクを層上に結像するためのマイクロリソグラフィ投影露光装置を提供する。
【解決手段】 マイクロリソグラフィ投影露光装置は、投影光源（ＰＬＳ）と、加熱光源（ＨＬＳ）と、反射投影レンズ（２６）と、好ましくは投影レンズ（２６）の外側に配置され、ドライバ（１２４）を用いて第１の位置と第２の位置との間で変位させることができる反射スイッチング要素（１２２；２２２；３２２；４２２；１４；１４，１４０）とを含む。この場合、スイッチング要素の第１の位置では、投影光（ＰＬ）のみが投影レンズ（２６）に入射することができ、スイッチング要素の第２の位置では、加熱光（ＨＬ）のみがこの投影レンズに入射することができる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ投影露光装置の投影対物器械を修正／修理する方法を提供する。
【解決手段】屈折力を有する少なくとも１つの第１の光学要素を含む複数の光学要素を対物面（１２）と像平面（１６）の間に含むリソグラフィ投影露光装置（１０）の投影対物器械を修正／修理する方法は、光学要素の全てを差し替えることなく、少なくとも１つの第１の光学要素を現場で投影対物器械から取り外す段階、少なくとも１つの第１の予備光学要素を少なくとも１つの第１の光学要素の位置で投影対物器械内に挿入する段階、及び投影対物器械の像品質を望ましい品質へと調節する段階を含む。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ露光プロセスに使用される、長期にわたって良好かつ信頼性の高い結像特性を有する光学結像装置を提供する。
【解決手段】マスクユニット３と、基板ユニット４と、光学素子ユニットのグループを有するパターンの転写に適合された光学投影ユニット２と、光学素子ユニットのうちの１つのコンポーネントである第１結像装置コンポーネントと、第１結像装置コンポーネントとは異なり、且つ、マスクユニット３、光学投影ユニット２、及び基板ユニット４のうちの１つのコンポーネントである第２結像装置コンポーネントと、計測装置１０と、を有する光学結像装置が提供されている。計測装置１０は、第１結像装置コンポーネントと第２結像装置コンポーネントとの間の空間的な関係をキャプチャしている。計測装置１０は、第１結像装置コンポーネントに直接的に機械的に接続されている基準素子１０．２を有している。 （もっと読む）

【課題】レンズアレイを構成するレンズが、遮光部材を開閉する方向に奇数行に配列されていても、遮光部材を閉じた状態での減光率を向上することができる調光装置およびプロジェクターを提供する。
【解決手段】調光装置１０は、照明光軸ＯＡに対して略垂直な方向（Ｙ方向）の両側に延在し、略垂直な方向に軸方向が設定される回動軸５２ａｘ，５２ｂｘを中心に回動し、第１レンズアレイ３１１から射出される光束を遮光して通過光量を調整する、照明光軸ＯＡを挟んで配置された一対の遮光部６０ａ，６０ｂを備え、第１レンズアレイ３１１はレンズ３１１ａの中心が略照明光軸ＯＡとなる位置に配置されたレンズ３１１ａを含み、照明光軸ＯＡ側から見て、一対の遮光部６０ａ，６０ｂの照明光軸ＯＡ側の端部６４ａ，６４ｂに挟まれる隙間Ｄ１に、レンズ３１１ａの中心が重ならない位置に配置されている。 （もっと読む）

【課題】強度分布が均一化された光を高効率で得られる光学素子を提供する。
【解決手段】光学素子３０は、第１端面３ａと第２端面４ａとを有する第１ロッドインテグレーター３１Ａと、第３端面３ｂと第４端面４ｂとを有する第２ロッドインテグレーター３１Ｂと、第１ロッドインテグレーター３１Ａと第２ロッドインテグレーター３１Ｂとに挟まれた第１媒体３２Ａおよび第２媒体３２Ｂと、を含み、第１媒体３２Ａは、第２媒体３２Ｂよりも第１面１側に位置し、第２媒体３２Ｂは、第１媒体３２Ａよりも第２面２側に位置し、第１媒体３２Ａの屈折率は、第１ロッドインテグレーター３１Ａの屈折率および第２ロッドインテグレーター３１Ｂの屈折率よりも小さく、第２媒体３２Ｂの屈折率は、第１ロッドインテグレーター３１Ａの屈折率および第２ロッドインテグレーター３１Ｂの屈折率と等しい。 （もっと読む）

【課題】遮光部材の端部間の離間距離を保持し、減光率を向上できる調光装置およびプロジェクターを提供する。
【解決手段】調光装置は、入射する光束を遮光して通過光量を調整する調光装置であって、光束の照明光軸ＯＡを挟み、照明光軸ＯＡに対して略垂直な方向に沿った回動軸５２ａｘ，５２ｂｘを有する一対の回動部５０ａ，５０ｂと、一対の回動部５０ａ，５０ｂに保持され、回動軸５２ａｘ，５２ｂｘに略平行に延びて形成され、回動部５０ａ，５０ｂの回動に従動して光束を遮光する一対の遮光部６０ａ，６０ｂと、を備え、通過光量が最も少なくなる状態において、一対の遮光部６０ａ，６０ｂの相対する照明光軸ＯＡ側の端部６４ａ，６４ｂは、照明光軸ＯＡ方向の位置がそれぞれ異なる。 （もっと読む）

【課題】従来よりも光利用効率を一層高くすることが可能な照明装置を提供することを目的とする。
【解決手段】光を射出する光源装置１１０と、複数の第１小レンズ１２２を有する第１レンズアレイ１２０と、複数の第１小レンズ１２２に対応する複数の第２小レンズ１３２を有する第２レンズアレイ１３０と、第２レンズアレイ１３０からの光を重畳させる重畳レンズ１５０とを備える照明装置１００であって、第１小レンズ１２２を通過した光が最も集まる点を集束点とするとき、第１小レンズ１２２の曲率は、集束点が第１レンズアレイ１２０より後段にある所定の光学要素中又は当該所定の光学要素近傍に位置するように、各第１小レンズ１２２ごとに設定されていることを特徴とする照明装置１００。 （もっと読む）

【課題】 グレイトーンマスクを用いたＴＦＴ基板の製造工程において、高画質かつ低価格の液晶パネルを高い歩留まりで生産し続けることが可能な露光装置および露光方法を提供すること。
【解決手段】 照明光学系と投影光学系を有する露光装置において、照明光学系内部に有効光源形状を変化させる有効光源形状調整手段と、投影光学系内部に静止ディストーションのばらつきを変化させる静止ディストーションばらつき調整手段と、プレートステージ上にあってマスク上のパターンを結像する２次元センサと、２次元センサが撮像した結果に基づき前記有効光源形状調整手段もしくは前記静止ディストーションばらつき調整手段のうち、少なくとも一つを調整する調整部を持つ。調整部は同一パターン内の光強度分布を調整することにより有効光源形状調整手段もしくは静止ディストーションばらつき調整手段を調整する。 （もっと読む）

【課題】ローカルディミング技術を採用したプロジェクターにおいて、観察者に認識され得る分割領域間の輝度ムラが少なく、より高画質の表示が可能なプロジェクターを提供する。
【解決手段】本発明のプロジェクター１は、第１の光源と第２の光源とを含む光源部２と、光源部２からの光を散乱させる散乱体と、光変調素子と、第１の光源からの第１の光束を散乱体の第１の領域に照射し、第２の光源からの第２の光束を散乱体の第２の領域に照射する集光光学系と、散乱体の第１の領域からの第１の散乱光を光変調素子の第１の分割領域に照射し、散乱体の第２の領域からの第２の散乱光を光変調素子の第２の分割領域に照射する結像光学系５と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】表示映像に悪影響を与えることなく、微細ミラーが駆動する角度が異なる複数種の反射型表示デバイスに対応可能な映像表示装置を得る。
【解決手段】回路基板３３は駆動角度が異なる２種類のＤＭＤに対して互いに異なる正向き状態及び逆向き状態で設置可能であり、正向き状態時における光検出素子１５の位置と、逆向き状態における光検出素子１５の位置とが、ねじ穴３５，３６間を結ぶ基準線の中心点となる基準点ＳＰに対して距離Ｌ隔てて互いに点対称の関係を有している。そして、オフ光１７ａの光軸中心線とオフ光１７ｂの光軸中心線との中線ＭＬは、上述した基準点ＳＰを通過する位置関係を有する。 （もっと読む）

【課題】設置姿勢に関わらず、励起光の照射位置の局所的な温度上昇を低減し、回転蛍光板の光変換率の低下や経年的な性能劣化を低減することのできる照明装置とこれを備えたプロジェクターを提供する。
【解決手段】本発明の照明装置は、励起光を射出する光源と、励起光を蛍光に変換する蛍光体層が設けられ、回転軸の回りに回転可能な回転蛍光板と、回転蛍光板の回転方向を切り替え可能な回転手段と、を備え、励起光が照射される回転蛍光板上の照射領域が回転軸の回りにかつ鉛直方向上方側に向かって移動するように回転蛍光板が回転することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表示画像の輝度低下を抑制できるプロジェクターを提供すること。
【解決手段】プロジェクターは、所定波長の光を出射する固体光源４１１と、固体光源４１１から入射される光の波長を変換する蛍光体を含む蛍光層４６１１を有する波長変換装置４６と、波長変換装置４６により波長が変換された光を変調する光変調装置と、変調された光を投射する投射光学装置と、固体光源４１１と波長変換装置４６との間に設けられ、蛍光層４６１１に対する固体光源４１１から出射された光の入射位置を調整可能な調整装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】簡単に照度を高めることができる照射装置を提供すること。
【解決手段】光を放射する装置光源４と、装置光源４の光を均一化して出力するインテグレータ光学系を構成するガラスロッド１８と、ガラスロッド１８の出射光を試験対象物に投射する光学素子であるレンズユニット２０とを備えた照射装置において、レンズユニット２０と試験対象物の間に、クローズアップレンズ８１を設けるようにした。 （もっと読む）

【課題】第１に、マスクパターンのエッジ付近で生じる回折像の波形パターンのスイングを抑制し、露光対象基板上に形成されるパターンのエッジ形成位置のばらつきを低減することができ、第２に、マスクパターンのエッジ付近における回折像の波形パターンのスロープを急峻化することで、パターン線幅のばらつきを抑えることができるアライナ装置を提供する。
【解決手段】斜入射光学系４０を駆動させて、少なくとも入射角度±θの２つの照明光で露光対象基板２を露光し、照明光の入射角度±θに応じて露光対象基板２上で略平行にシフトする２つの回折像を重複させ、これら回折像の回折によるスイングを抑制する構成としてある。また、偏光変換光学系２０により、照明光の偏光方向を、マスクパターン１Ａのエッジ１ａと平行な方向に揃えて、露光対象基板２上に形成される回折像の回折によるスロープを急峻化する構成としてある。 （もっと読む）