【課題】一次元の高輝度ライン画像を形成するために、比較的低輝度の二次元変調光場をアナモルフィックに画像化しかつ集中させるべく反射屈折アナモルフィック光学系を利用した画像形成システムを提供する。
【解決手段】単一パス画像形成システム１００は、光源１１０および空間光変調器１２０を利用して二次元変調光場１１９Ｂを発生し、かつこの変調光を反射屈折アナモルフィック光学系１３０を用いてアナモルフィックに画像化しかつ集中させ、画像形成面１６２上へ高輝度の略一次元ライン画像ＳＬを発生する。反射屈折アナモルフィック光学系１３０は、変調光場１１９Ｂを工程方向へ画像化しかつ集中させる。ライン画像ＳＬは、画像形成面１６２から湿し溶液を気化するに足るエネルギーを用いて発生される。本画像形成システム１００は、ライン画像の全ての成分ピクセル画像を同時に発生し、よって、１２００ｄｐｉ以上の能力を有する印刷装置を容易にする。 （もっと読む）

【課題】好適なアルカリ性溶媒で迅速且つ効率的に除去することが可能な、プリントマスクに使用される固形インク組成物、該組成物から形成されるプリントマスク、及び該組成物を使用するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも１つのアルカリ加水分解性基を含む少なくとも１つの化合物と、少なくとも１つのエチレンオキシド基を含む少なくとも１つの化合物とを含む組成物に由来するプリントマスクであって、アルカリ性溶液を用いて約３０秒以内に除去可能である、プリントマスク。 （もっと読む）

本発明は、膜状の物質（２）をナノ構造化する方法に関する。本方法は、該物質（２）を水溶液（３）に浸漬させている間に、照明領域（６ｂ）および暗領域（６ａ）を有する干渉模様（６）を該物質（２）の少なくとも１つの面につけるステップを含む。本発明の方法によれば、上記物質は、光吸収作用によって水溶液に溶解可能になる無機半導体物質または無機酸化物である。上記物質（２）のナノ構造化を、水溶液（３）に接触する該物質（２）の表面で、該照明領域（６ａ）での光分解によって、および／または、該干渉模様（６）の暗領域（６ｂ）での成長によって行う。本発明は、このような形成方法によって得られる、ナノ構造化された被覆膜（５）、さらに、ナノ構造化された３Ｄ膜にも関する。
（もっと読む）

【課題】版厚を確実に制御しながら感光性樹脂凸版の連続製版を行う。
【解決手段】第１のフィルム層（カバーフィルム）２４、感光性樹脂層２５、及び第２のフィルム層（ベースフィルム）２６を含む積層体を、下部硬質板１４と上部硬質板１５とにより挟んだ状態で、感光性樹脂層の露光を行うものであり、下記（ａ）工程〜（ｄ）工程を有している感光性樹脂凸版の製造方法を提供する。
（ａ）上部硬質板及び／又は下部硬質板の温度、又は下部硬質板に積層される第１のフィルム層を介した下部硬質板の温度を、直接又は間接に計測する工程。
（ｂ）前記下部硬質板に積層した前記第１のフィルム層の上に、液状感光性樹脂を塗布する工程。
（ｃ）前記液状感光性樹脂の塗布厚みを調節する工程。
（ｄ）下部硬質板と上部硬質板との間隔を調節する工程。 （もっと読む）

【課題】高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる、層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成に好適な感放射線性組成物を提供すること。
【解決手段】重合性不飽和結合を有するポリシロキサン、および１，２−キノンジアジド化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】光学的性能が良く、両面のレンズ面の光軸ずれが小さい有機ＥＬラインヘッド等に用いるマイクロレンズアレイの製造方法。
【解決手段】マイクロレンズアレイの一方のレンズ面に対応する型面９２を持つ第１の金型８２に光硬化性樹脂７６＋７６’を注入し、マイクロレンズアレイの他方のレンズ面に対応する型面９３を持つ第２の金型８３に光硬化性樹脂７６＋７６’を注入し、型面それぞれに光硬化性樹脂を注入した第１の金型８２と第２の金型８３で型面を相互に向かい合わせ、かつ、相互に位置決めして、間に長方形の透明基板７１を挟み、透明基板７１の長手方向側面７１１、７１２に光硬化性樹脂を硬化させる光７８を照射して光硬化性樹脂７６＋７６’を硬化させることにより、透明基板７１の両面上にそれそれレンズアレイを成形する。 （もっと読む）

【課題】平行光線を発する高価な光源装置によらなくても、十分な解像度が得られ、レジスト液の塗布工程と露光工程を同一の装置で行うことができるレジスト液塗布兼露光装置及び方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、スペーサを含有するレジスト液をフォトマスクに塗布する塗布手段と、塗布された特定レジスト液面にガラス基板を圧着する圧着手段と、フォトマスク面側から前記フォトマスクを通して前記特定レジスト液面に光を照射する光照射手段と、を具備するレジスト液塗布兼露光装置によって、フォトマスクに、スペーサを含有するレジスト液を塗布し、次にガラス基板をレジスト液面に押し当てて、余剰のレジスト液を押し出して、ガラス基板とフォトマスクに侠持されるレジスト液の膜厚を前記スペーサのサイズによって特定される一定の厚さにして、フォトマスク側から、光を照射して露光する。 （もっと読む）

【課題】機能性インクの消費を抑えつつ、高アスペクト比を有する高解像度パターンを効率よく形成する方法を提供する。
【解決手段】基板10上に犠牲フィルム30を付着させる工程（ａ）と、犠牲フィルム30に露光及び現像を行って所望のパターン状凹部40を有するパターン鋳型30’を形成する工程（ｂ）と、パターン状凹部40に機能性材料を含有するインクＭを充填する工程（ｃ）と、インクＭを乾燥させる工程（ｄ）とを含む高解像度パターンの形成方法であって、犠牲フィルム30の厚さを100×β／α以上［ただしαはインクＭ中の機能性材料の体積分率（体積％）であり、βは高解像度パターンの厚さ（μｍ）である。］とする高解像度パターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】基材上に、表面が平坦な導電性パターンを形成する方法およびその方法に用いる組成物を提供する。
【解決手段】（１）導電粒子と感光性成分とを含み、感光性成分が光硬化性モノマーと光重合開始剤とを含む導電性パターン形成用液状組成物を、平坦な露光面と接触させる工程と、（２）この組成物に、導電性パターンが形成される表面を有する基材を浸漬する工程と、（３）平坦な露光面と基材の表面との間に、所定厚みの組成物層を介在させ、その組成物層にマスクを介して露光し、所定パターンの硬化物層を形成する工程と、（４）基材の表面から、未硬化の組成物を除去する工程とを有する導電性パターンの形成方法およびその方法に用いる導電性パターン形成用液状組成物。 （もっと読む）

【課題】感度が高く、良好なレジストパターン形状が得られ、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び増感剤を少なくとも含む感光性組成物を用いて形成された感光層を有し、該感光層を露光し現像する場合に、前記感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、０．１〜５０ｍＪ／ｃｍ^２であり、前記光重合開始剤が芳香族オニウム塩を含み、前記増感剤が、縮環系化合物、並びに少なくとも２つの芳香族炭化水素環及び芳香族複素環のいずれかで置換されたアミン系化合物から選択される少なくとも１種を含むことを特徴とするパターン形成材料、及び該パターン形成材料を用いるパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】極紫外線の波長域におけるレジスト層の光透過率を向上させることが可能なレジスト材料の製造方法およびレジスト材料ならびに露光方法を提供する。
【解決手段】極紫外線波長域での線吸収係数が１．７４３３μｍ^-1以下となるように、レジスト材料にシリコン原子を含有させる。下記式（１）を満たすように、高分子材料中のシリコン原子含有比率（φ_Si）および高分子材料の密度ρを設定する。
（もっと読む）

【課題】 プリント配線板上に形成された導体回路の角部を覆う永久パターンの被膜が良好であり、永久パターン全面の平坦度が高く、高精細であり、かつ生産効率の優れた感光性永久レジストフィルム及び該感光性永久レジストフィルムを用いた永久パターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に、第１の感光性層、第２の感光性層をこの順に有し、基板上にラミネートする際のラミネート温度における、第１の感光性層の溶融粘度をη_１、第２の感光性層の溶融粘度をη_２としたとき、次式、η_１＞η_２、を満たすことを特徴とする感光性永久レジストフィルムである。 （もっと読む）

【課題】 プリント配線板上に形成された導体回路の角部を覆う永久パターンの被膜が良好であり、永久パターン全面の平坦度が高く、高精細であり、かつ生産効率の優れた感光性永久レジストフィルム及び永久パターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に、第１の感光性層及び第２の感光性層を有してなり、前記第１の感光性層が、アルカリ可溶性光架橋性樹脂、重合性化合物、光重合開始剤、エポキシ硬化剤及び無機微粒子（Ａ）を含む第１の感光性組成物からなり、前記第２の感光性層が、アルカリ可溶性光架橋性樹脂、重合性化合物、光重合開始剤、エポキシ硬化剤及び無機微粒子（Ｂ）を含み、該無機微粒子（Ｂ）の含有率（質量％）が、前記無機微粒子（Ａ）の含有率（質量％）の１／３以下である第２の感光性組成物からなる感光性永久レジストフィルムである。 （もっと読む）

【課題】 短時間で露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 露光装置１は外箱３ａを有し、外箱３ａの内部には内箱３ｂが設けられている。
ランプ９ａ、９ｂは、内箱３ｂの内部に設けられており、ランプ９ａ、９ｂは光源２１ａ、２１ｂを有している。
光源２１ａ、２１ｂは、主として長波長紫外線を照射する。
長波長紫外線は、大部分がガラス基板を透過するため、ガラス基板上に塗布された感光層を短時間で感光することができる。
このような光源としては、メタルハライドランプが用いられる。 （もっと読む）

【課題】膜強度、プリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れ、しかもパターン形成時に現像液中では剥離しないが、剥離液中では容易にレジストパターンを剥離して、高精細な永久パターンを効率的に形成することが可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、少なくとも（Ａ）バインダー、（Ｂ）重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含むパターン形成材料において、バインダー（Ａ）が、ｐＨ８〜１１の弱アルカリ現像液中では安定で、ｐＨ１２〜１４の強アルカリ剥離液中で分解するパターン形成材料。前記パターン形成材料における感光層に対して露光する光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置。及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 表面のタック性が小さく、ラミネート性、取扱い性が良好で、保存安定性に優れ、現像後に優れた表面硬度、特に、高耐熱性と現像時間の短縮化等を発現する感光性組成物及びこれを用いた感光性フィルム、並びに、高精細な永久パターン及びその効率的な形成方法の提供。
【解決手段】 無水マレイン酸共重合体の無水物基に対して０．１〜１．２当量の１級アミン化合物の１種以上を反応させて得られる共重合体と、エポキシ化合物にエチレン性不飽和二重結合及び酸基を導入した化合物と、少なくとも１種の重合可能な不飽和結合を有するモノマーと、光重合開始剤と、を少なくとも含む感光性組成物、これを用いた感光性フィルム、永久パターン及びその形成方法。特に、組成物の硬化膜のガラス転移温度（Ｔｇ）が、７５℃以上であり、エポキシ化合物にエチレン性不飽和二重結合及び酸基を導入した化合物の配合割合が、５質量％〜５０質量％である態様等が好ましい。 （もっと読む）

【課題】ホト工程を使用しないでパターニング工程を遂行し製造工程を単純化すると共にアラインメントの正確性を向上させて薄膜パターンを定位置に形成させる。
【解決手段】基板上に形成された薄膜上に第１光照射により極性が変わるエッチレジストを塗布し、エッチレジストとの対向面に表面処理によりエッチレジストと同一極性の突出面と溝を有するソフトモールドを設け、所定の間隔を置いて位置するソフトモールドと基板を１次アラインメントし、ソフトモールドをエッチレジスト上に配置させた後、ソフトモールドと基板を２次アラインメントし、エッチレジストは第１光照射により極性が変化すると共に、ソフトモールドの溝内に移動し、ソフトモールドの溝内に移動したエッチレジストに第２光を照射し、薄膜上にエッチレジストパターンを形成し、エッチレジストパターンからソフトモールドを分離し、薄膜をエッチングして薄膜パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】電子写真プリント配線板の作製方法において、感光層の帯電量が変化した基板では正常な静電潜像が形成できず、また静電潜像の形成に失敗した基板では良好な画像形成ができないため不良基板となり無駄になっていた。
【解決手段】電子写真プリント配線板の作製方法において、静電潜像形成前に熱処理を行う工程を設けることで前記課題が解決できる。 （もっと読む）