【課題】フレキシブルな基板を用いても、高い精度で薄膜トランジスタを形成することができる薄膜トランジスタの製造装置およびその製造方法、ならびにプログラムを提供する。
【解決手段】本発明は、基板上にゲート電極、ゲート絶縁層、半導体層、ソース電極およびドレイン電極が少なくとも設けられた薄膜トランジスタの製造方法である。ソース電極およびドレイン電極を形成する工程において、基板の歪み、または基板の伸縮率に基づいて、露光データを、スケーリング処理を用いて薄膜トランジスタのチャネル長を固定した状態で補正して第１の補正データを作成する。この第１の補正データに基づいて、ソース電極およびドレイン電極の形成領域にレーザ光を照射し、その形成領域を親液性にする。この形成領域に、ソース電極およびドレイン電極となる液滴を、打滴データに基づいて打滴する。 （もっと読む）

【課題】 感光性材料を高い精度で３次元形状の構造体に形成する。
【解決手段】 基材に塗布された感光性材料に光を照射する光源を有する露光ユニットと、基材が配置されるテーブルとを備え、光源から感光性材料に光が照射されるときに光源または感光性材料が塗布された基材の少なくとも一方が移動されて光源の感光性材料に対する照射位置が変化し、感光性材料の有する最大吸収感度を与える波長から所定の長さずれた波長の光を光源から感光性材料に照射して感光性材料の所望の部分を選択的に露光することで３次元形状の構造体を形成する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構造で低コストな露光マスクを用いて、マスクパターンにおける静電破壊を防止することが可能な配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の配線基板１０の製造方法では、所定の導体層４４の下層の絶縁層３２の上部に感光性樹脂層を形成し、導体層４４の導体形成部への露光光を遮光する導電性遮光膜が形成されたマスクパターンを有する露光マスクを感光性樹脂層の表面に配置した状態で、露光・現像を行ってめっきレジストを形成し、めっきレジストの開口部に金属めっきを施して導体パターンを有する金属めっき層を形成した後、めっきレジストを除去する。この場合に用いる露光マスクは、そのマスクパターンを構成する複数の図形パターンの各角部が５０μｍ以上の面取り量で面取りされているので、隣接する図形パターン間の放電による静電破壊を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】短時間で規則的な微細パターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】実施の形態のパターン形成方法は、露光処理により、フォトマスクのパターンを下地材に転写して下地材の表面エネルギーを変化させた第１のガイドを形成すると共に、露光処理により生じる露光光の回折により、第１のガイド間に下地材の表面エネルギーを変化させた第２のガイドを形成する。下地材に複数種類のポリマーブロック鎖からなるブロック共重合体を塗布する。加熱処理によるブロック共重合体のミクロ相分離により、第１及び第２のガイドに従っていずれかのポリマーブロック鎖がパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、パターンの製造方法に関し、特に、レーザーを用いてパターンを製造する方法に関する。
【解決手段】パターンの製造方法は、基板上に金属有機インク層（20）を形成する第1の段階；前記金属有機インク層（20）を半固体状態に硬化させる第2の段階；前記半固体状態の金属有機インク層（20）にレーザー光を照射し、照射された部分が固体状態に硬化されてパターンが形成される第3の段階、および、前記半固体状態の金属有機インク層（20）を除去して、前記パターンだけを残す第4の段階を含む。 （もっと読む）

【課題】帯状の基板にデバイスを効率的に製造できる露光装置を提供すること。
【解決手段】所定の円筒面に沿ってパターンを有するマスクを円筒面の円周方向に回転させつつパターンを基板に転写する露光装置であって、パターンのうち円筒面の第一領域に位置する第一部分パターンの像を第一投影領域に投影する第一投影光学系と、パターンのうち第一領域から円周方向に沿って間隔を置いた第二領域に位置する第二部分パターンの像を、第一投影領域と異なる第二投影領域に投影する第二投影光学系と、マスクの円周方向への回転に同期して、第一投影領域及び第二投影領域を経由するように基板を搬送する基板搬送装置と、を備え、搬送装置は、第一投影領域と第二投影領域との間における基板の搬送経路の経路長を調整する経路調整装置を含む。 （もっと読む）

【課題】帯状の基板に表示素子を効率的に製造できること。
【解決手段】本発明の態様にかかるマスク移動装置は、パターンを有するマスクを保持して該マスクを移動させるマスク移動装置であって、円筒状に形成され、所定の円筒面に沿って前記マスクを保持する保持部と、前記円筒面の円周方向に沿って前記保持部を回転させる駆動部と、を備え、前記保持部は、前記保持部が保持する前記マスクの前記パターンを前記保持部の内側に露出させる第一開口部と、前記第一開口部と対向し、前記パターンから前記第一開口部を介して前記保持部の内側に発した光を前記保持部の外側へ通過させる第二開口部と、が形成されている。 （もっと読む）

【課題】工程が煩雑でなく、基板の表裏で金属酸化物膜の材質や膜厚が異なる場合でも、適切なパターンを形成できる金属酸化物膜パターンの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板の片面に、金属錯体Ａを含む膜αを形成する第１の膜形成工程と、反対側の面に、金属錯体Ｂを含む膜βを形成する第２の膜形成工程と、前記膜αを、波長領域λ₁を含む光を用い露光する第１の露光工程と、前記膜βを、波長領域λ₂の光を用い露光する第２の露光工程と、前記膜αを現像する第１の現像工程と、前記膜βを現像する第２の現像工程と、前記金属錯体Ａ及び前記金属錯体Ｂを、それぞれ、金属酸化物に転化する転化工程と、を備え、前記金属錯体Ｂは、前記波長領域λ₂の光を照射したとき、前記金属錯体Ａに前記波長領域λ₂の光を照射した場合よりも、前記現像液に対する溶解性が大きく変化することを特徴とする金属酸化物膜パターンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントを利用した金属酸化薄膜パターンの形成方法及びＬＥＤ素子の製造方法を提供する
【解決手段】基板１０に感光性金属有機物前駆体層３０を形成段階と、モールド２０を準備する段階と、前記モールド２０で前記感光性金属有機物前駆体層３０を加圧する段階と、前記加圧された層を加熱するか、または加熱すると同時に紫外線を照射して硬化された金属酸化薄膜パターン３１を形成する段階と、前記モールド２０を前記金属酸化薄膜パターン３１から除去する段階とを含み、選択的に、前記金属酸化薄膜パターン３１を焼成する段階をさらに含む。これにより、レジストとして使用するために紫外線レジンを別途に塗布する工程が省略されるので、パターンの形成工程が簡素化され、単一インプリント工程によりマイクロ・ナノ複合パターンを形成できる。 （もっと読む）

【課題】均一な紫外線照射することにより、高性能で液晶パネル製造の歩留まり向上を実現する。
【解決手段】紫外線透過性の石英ガラスで気密性を有する放電空間１１を備えた発光管１２内の軸方向に一対の放電用の電極１３ａ，１３ｂを対向して配置する。放電空間１１内にアーク放電させた状態を維持するために十分な量の希ガス、水銀、ハロゲン、発光金属からなる封入物を封入することで紫外線ランプ１００を構成し、点灯時に紫外光を発光させる。紫外線ランプ１００を冷却ユニット２００で冷却させるとともに、被照射物とは反対側に反射板１９を配置し、被照射物に照射させる。反射板１９の複数の向きの異なる反射面６１で入射された紫外線を拡散したことで、被照射物に照射させる紫外線の照度の均一化を実現する。 （もっと読む）

【課題】エッチング層の膜厚変動に対して露光範囲の大きさのばらつきが少なく、インプリント原版へのレーザーによる精密露光を可能とする積層構造体を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の積層構造体は、波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲における消衰係数Ｘが０．５以上１０以下である基材１１と、基材１１の上に設けられた光吸収層と、光吸収層１２の上に設けられたエッチング層１３と、エッチング層１３の上に設けられたレジスト層１４と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】無端状モールド等に適用し得るＳＯＧの無端状パターンを電子ビーム又はイオンビームの照射により作製する方法の提供。ＳＯＧ無端状モールドを用いる樹脂パターン成形品の製造方法の提供。ＳＯＧ無端状モールド及び光学素子の提供。
【解決手段】本発明のＳＯＧの無端状パターン作製方法は、円周方向において無端のアルミニウム基板上に、ＳＯＧ（Spin-On-Grass）レジスト液膜を付与する工程と、前記ＳＯＧレジスト液膜を有するアルミニウム基板を加熱してＳＯＧレジストを焼成する工程と、前記焼成後、ＳＯＧレジストを有するアルミニウム基板を冷却する工程と、前記冷却後、ＳＯＧレジストを有するアルミニウム基板を回転方向に回転させる工程と、前記基板上のＳＯＧレジストに電子ビーム又はイオンビームを照射する工程と、前記照射により又は前記照射後の現像により、前記ＳＯＧレジストの一部を除去する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 対象体に対して、比較的高い光量の光を、比較的小さい光量分布で照射する光照射ヘッド、露光デバイス、画像形成装置、液滴硬化装置、および液滴硬化方法を提供する。
【解決手段】 この光照射ヘッド１０は、第１基板２０と、第１基板２０の上に配置されている発光素子１２と、を備えている。第１基板２０は、冷却媒体が通過する冷却流路が内部に設けられている。 （もっと読む）

【課題】電子ビームによる改質領域を縮小して微細なマスクを精密に形成可能にするとともに、当該マスクを利用して精密な三次元微細構造を作製できる三次元微細加工方法を提供する。
【解決手段】ＧａＡｓ基板１の表面に、Ａｓ薄膜２と、Ｇａ₂Ｏ₃薄膜４と、Ａｓ薄膜５と、で構成される３層無機レジスト酸化膜１０を形成する。選択図の（ｆ）から（ｇ）に示す工程では、真空中で３層無機レジスト酸化膜１０の表面に照射した電子ビームによって、Ｇａ₂Ｏ₃薄膜４とＧａＡｓ基板１の表面の一部が密着し、熱耐性を有する改質マスク部１７が形成される。（ｈ）に示す工程では、Ａｓ薄膜２が昇華され、改質マスク部１７以外の部分のＧａ₂Ｏ₃薄膜４が脱離してＧａＡｓ基板１の表面が露出する。（ｉ）に示す工程では、エッチング処理を行って、ＧａＡｓ基板１の露出部分からＧａを優先的に剥離させることで窪み等が形成された三次元微細構造を作製する。 （もっと読む）

【課題】簡単に、高アスペクト比のレジストパターンを製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】マスクパターン層ＭＰを含む土台ユニットＵＴに対し、マスクパターン層ＭＰ上に、ドライフィルムＤＦ２を被せ、ガラス基板１１の裏面１１ｒからの露光によるフォトリソグラフィー法で、ドライフィルムＤＦ２を第１レジストパターンＲＰ１だけに重なるように残す。 （もっと読む）

【課題】簡易な方法で自由度高く高精細でありながら、膜厚の厚いパターン形成が可能であるパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】超微粒子を含むコロイド材料を接触させた基板上にエネルギービームを照射してパターン形成を行うパターン形成方法であって、基板上にパターンを形成する際に、基板上にコロイド材料でできた気泡を供給することで、基板上に気体とコロイド材料とを交互に供給することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】各々の径が数１０ｎｍオーダーの微細な貫通孔を構成要素とする微細なパターンを形成する目的で用いられる微細パターン形成用部材の提供。
【解決手段】マイクロポア貫通孔を複数有するアルミニウム陽極酸化皮膜のマイクロポア貫通孔の内部に有機溶媒で現像可能な樹脂組成物が充填された微細パターン形成用部材。前記部材に所望のパターンとなるように露光を行い、その後、有機溶剤を用いた現像処理を行うことにより、前記部材に微細パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】簡便で、かつ、被加工物を優れた加工精度で加工することができるレーザ加工方法の提供。
【解決手段】複数の被加工物１１の周囲を被加工物固定材料１２で固定し、複数の被加工物を有する被加工物含有体１を形成する被加工物含有体形成工程と、前記被加工物含有体を回転させながら、レーザ光を照射して被加工物上にパターンを形成するパターン形成工程と、を含み、前記被加工物含有体形成工程が、被加工物と、被加工物を装着する装着部を複数有する被加工物固定治具との間に被加工物固定材料を充填することにより、被加工物を固定する態様などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】感光性エレメントから凸版印刷フォームを作製するための方法および装置を提供すること。
【解決手段】より詳細には、この発明は、化学線に対する露光の間、調整された酸素濃度を有する環境内において凸版フォームを作製するための方法および装置を説明する。この方法は、感光性エレメントの上にｉｎ−ｓｉｔｕマスクを形成するステップと、不活性ガスおよび１９０，０００から１００ｐｐｍの間の酸素濃度を有する環境内においてｉｎ−ｓｉｔｕマスクを介して化学線に対してエレメントを露光させるステップと、浮出し面区域のパターンを有する凸版印刷フォームを形成するために露光されたエレメントを処理するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】バルジやジャギーの発生を防止し、均一線幅の線分を形成可能な線描画装置及び方法を提供する。
【解決手段】複数のノズル(22)を折れ線状に配置し、Ｖ字に折り返される斜めのノズル列と走査方向とのなす角度をそれぞれ＋θ、−θとする。隣接ノズル間距離をl［ｍ］、吐出した液体と基板との接触角をφとするとき、液滴の吐出体積Ｗ[ｍ^３]が以下の式


を満たすものとする。また、基板とヘッドの相対速度ｕ［ｍ／ｓ］は以下の式


を満たすことが好ましい。 （もっと読む）