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Fターム[2K009DD01]の内容

光学要素の表面処理 (25,952) | 表面処理方法 (6,341) | 被覆方法(例;接着、圧着、酸化、加水分解、ガス処理、エピ成長、モノマー含浸) (5,539)

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【課題】充分な帯電防止性能を得ることができ、かつ該帯電防止性能が時間の経過とともに低下し難く、さらに帯電防止処理された表面のべたつきを抑制できる帯電防止材料、並びに該帯電防止材料を用いた帯電防止光学フィルム及び該帯電防止光学フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】イオン導電性材料と、ポリエステル−(メタ)アクリル分散体とを含有する帯電防止材料B。光学フィルムが帯電防止材料Bにより帯電防止処理されている帯電防止光学フィルム。溶融押出法によりフィルム状に樹脂を成形する工程と、フィルム状に成形された樹脂Aの表面に、帯電防止材料Bを噴霧することにより、帯電防止材料Bにより帯電防止処理された帯電防止光学フィルムを得る工程とを備える帯電防止光学フィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】
低屈折率である組成物を供給すると伴に、常温・常圧にて低屈折率膜を形成でき、充分な機械強度を有する低屈折率膜及び反射防止膜を提供する。
【解決手段】
ボラジン系ポリマー又はボラジン珪素系ポリマーを母材とし、粒子径が50nm以下のフッ化マグネシウムが1乃至90重量%含まれる事により上記課題を解決した低屈折率組成物が提供可能となる。また、常温・常圧にて低屈折率膜が形成可能であり、透明基板上に形成する事で充分な機械強度を有する反射防止膜が提供可能となる。 (もっと読む)


【課題】温度ムラによる染料の濃淡ムラの発生と、被染色面とは反対側の面に対する染料の付着を同時に抑制する。
【解決手段】レンズ保持用シート17の一方の面に塗布された粘着剤18によってプラスチックレンズ3の被染色面3aとは反対側の面3bを全面にわたって保持する。昇華性染料2が塗布された染色基板8を保持部材9内に装着する。プラスチックレンズ3が貼着されたレンズ保持用シート17を保持部材9の上方側開口部にプラスチックレンズ3の被染色面3aを染色基板8に対向させて装着する。真空容器4を真空排気し、加熱装置6によって染色基板8を加熱して昇華性染料2を昇華させることにより、プラスチックレンズ3の被染色面3aを染色する。 (もっと読む)


【課題】基材上に密着層塗工液を塗布する際に静電気の発生がしなくなり、密着層を均一の厚みに設けることができるようになる。また、反射率に悪影響を及ぼさない優れた貼着用反射防止フィルムを提供することである。
【解決手段】透明基材の片面に反射防止処理が施された反射防止フィルムにおいて、反射防止面と反対側の面が、透明基材から易接着層、中間層、密着層の順で積層されており、各層の屈折率が下記の式の関係になっている貼着用反射防止フィルムとする。
基材の屈折率≧易接着層の屈折率≧中間層の屈折率≧密着層の屈折率 (もっと読む)


【課題】カール防止層を形成することなく、フィルム端部のカールを防止するハードコートフィルムの製造方法及び、該製造方法で製造した光学フィルム、反射防止フィルムを提供すること。
【解決手段】支持体上に、硬化性樹脂を含む塗布液を塗布し、塗布膜を形成する塗布工程と、塗布膜を硬化する硬化工程とを有するハードコートフィルムの製造方法において塗布工程の後、塗布膜の幅方向両端部に有機溶剤を滴下する有機溶剤滴下工程と、有機溶剤滴下工程の後、幅方向両端部を支持体上で幅方向に広げる拡幅工程とを有し、拡幅工程の後、塗布膜を乾燥する乾燥工程と硬化工程を行い、硬化後の塗布膜の幅方向両端部に、塗布膜の幅方向中央部の厚さよりも薄い領域を形成する。 (もっと読む)


【課題】光路変換を行うための微細形状が表面に形成された樹脂層を有する光学素子の製造において、樹脂層の屈折率の調整と微細形状の成形とが可能な製造方法、該製造方法により得られる光学素子、及び該製造方法用として有用な低屈折率層形成用組成物を提供する。
【解決手段】透明樹脂基板2上に、樹脂および沸点がそれぞれ異なる複数の溶剤を含有する樹脂組成物を塗布して塗膜3aを形成する塗布工程と、塗膜3aに含まれる複数の溶剤の一部を蒸発させて、前記微細形状の成形が可能であり且つ成形後の形状保持が可能な範囲の流動性を有する樹脂膜3bを成膜する第1蒸発工程と、樹脂膜3bの表面に前記微細形状を形成する成形工程と、樹脂膜3bに残存する溶剤を蒸発させて樹脂層3cとする第2蒸発工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】 微細凹凸形状の格子の高さを高くせずに、成形などの製造で高性能の反射防止構造が容易に得られる構造より成る光学素子を得ること。
【解決手段】 透明基板と該透明基板の入射媒質の界面に凸形状又は凹形状の複数の格子を配列した、反射防止機能を有する反射防止構造が形成された光学素子に於いて、該複数の格子は平均間隔が、使用波長のうち任意の波長以下で配列されており、該反射防止構造は、格子の配列面内における格子の充填率が異なる少なくとも2層が積層されて構成されており、該積層された充填率の異なる複数の層の中で任意の2つの層1、層2における格子の充填率をFF1、FF2とするとき
0.36≦FF1−FF2≦0.56
なる条件を満足すること。 (もっと読む)


【課題】非平面上に所定のパターン構造が形成された製品を実現することができ、その製品の生産性を向上させることができる、金型スタンパー、金型スタンパーの製造方法、及びその製品(成形品)の製造方法を提供すること。
【解決手段】板材5の、モスアイ構造が形成された形成面52が、連続体である樹脂13をコアとして、スタンパー成形金型10のキャビティ7に対応した球面形状に成形される。これにより、その形成面52の全体形状が球面形状に形成されるので、球面上に形成されたモスアイ構造を有する金型スタンパー5’を製造することができる。 (もっと読む)


【課題】レンズ表面に形成するコートの材料としてゲル等の異物を含むコート原液をろ過するにあたって、異物を良好に捕捉し、最終的なコート液の収率低下を抑える。
【解決手段】レンズ基板に被覆するコート液を製造するコート液製造工程において、材料を調製したコート原液を繊維構造のフィルタでろ過する工程を含む。フィルタは、有機繊維層2と、無機繊維層1とを備える。有機繊維層2側を一次側としてコート原液のろ過を行う。 (もっと読む)


【課題】均一な膜厚でしかも大きな面積に成膜可能な低屈折率層からなる反射防止膜を有する光機能性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】フィルムからなる光透過性基材2の一面上に、光透過性基材2よりも低屈折率の低屈折率層3が積層されてなる反射防止膜を有する光機能性フィルム1の製造方法であり、光透過性基材2の一面2aをなす凹凸面2b上に、交互吸着法により、正の電荷を有する電解質高分子からなる帯電層及び負の電荷を有する電解質高分子からなる帯電層を交互に積層して、前記正の電荷を有する電解質高分子からなる帯電層と、前記負の電荷を有する電解質高分子からなる帯電層とが交互に積層された積層膜からなる低屈折率層を形成し、前記低屈折率層を、酸処理もしくはアルカリ処理または還元処理もしくは酸化処理して、前記低屈折率層に空隙を形成することにより、反射防止膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】反射防止機能が高く、成形が容易であり、しかも見た目が美しい鏡枠部材、及び、鏡枠部材の表面加工方法を提供する。
【解決手段】鏡枠部材11、15、16、17の反射防止面を形成する表面に、ニッケルめっき処理、ニッケル合金めっき処理、または前記いずれかのめっき処理後にエッチング処理することにより、該表面に高さが0.5〜5μmかつピッチが0.1〜10μmである多数の微小突起をランダムに形成した反射防止面を形成する。 (もっと読む)


【課題】優れた耐擦傷性が得られる光学フィルムの製造方法及び光学フィルムを提供する。
【解決手段】透明基材フィルム10の一面側の最表面に光学機能層用硬化性樹脂組成物を塗布し、塗膜20を形成する工程、前記塗膜20の透明基材フィルム10とは反対側の面に表面粗さRaが10nm以下の平滑面40を接触させる工程、及び、前記塗膜20に前記平滑面40を接触させた状態で当該塗膜20を硬化させた後、当該平滑面40を剥離し、表面粗さRaが1nm以下の光学機能層70を形成する工程を含むことを特徴とする、光学フィルム1の製造方法。 (もっと読む)


【課題】光学素子に、広帯域特性や入射角度特性に優れた反射抑制機能を与える。
【解決手段】光学素子は、ベース部材022と、該ベース部材の少なくとも1面に形成され、使用中心波長における屈折率が厚み方向に0.05以上変化する第1の層021とを含む。第1の層は、反射抑制機能を有し、以下の条件を満足する。n=n+0.1(n−n)、 0.5≦[n{t(n)/2}−n]/[n−n{t(n)/2}]≦0.8、 λ/4≦t(n)≦2λ、 1.0≦n≦1.1。ただし、nは第1の層における最も光入射側の部分の使用中心波長における屈折率であり、nは第1の層における最もベース部材側の部分の使用中心波長における屈折率である。t(n)は使用中心波長における屈折率がnとなる第1の層の光学膜厚であり、n{t}は該光学膜厚がtとなる位置での使用中心波長における屈折率である。 (もっと読む)


【課題】 反射防止機能を有する微細凹凸構造体を光入出射面の少なくとも一方の面に設けたレンズ(光学素子)を鏡筒内に偏心が少なく、高精度に軸出して保持することができるレンズ鏡筒を得ること。
【解決手段】 一方の面の最表面に波長以下の微細構造からなる凹凸が形成された反射防止素子を有する光学素子と、
該光学素子を保持するレンズ保持構造を有するレンズ鏡筒であって、
該光学素子は、その微細構造の面を進行方向側にして突き当てで挿入されている事。 (もっと読む)


【課題】パターン状の電磁波遮蔽層において断線がなく、アスペクト比が高く、導電性、電磁波遮蔽性にすぐれている電磁波遮蔽フィルタであって、かつ、優れた光鏡面反射防止性を有する光学フィルタを提供する。
【解決手段】透明基材の一方の面に、プライマー層、導電性組成物からなる導電パターン層、及び該導電パターン層の凹凸を埋めてその表面が平坦面である平坦化層と、光鏡面反射防止層がこの順に形成され、該透明基材の他方の面に粘着剤層が形成されている電磁波遮蔽性と光鏡面反射防止性とを有するフィルタであって、前記プライマー層の厚みは、前記導電パターン層が形成されている部分の厚みが前記導電パターン層が形成されていない部分の厚みよりも厚く、かつ、該導電パターン層形成部におけるプライマー層と導電パターン層との界面が、(a)該プライマー層を構成する成分と該導電パターン層を構成する成分とが混合している断面形態、(b)該プライマー層と該導電パターン層とが非直線状に入り組んでいる断面形態、及び、(c)該導電パターン層を構成する導電性組成物中に該プライマー層に含まれる成分が存在している断面形態、のいずれか1又は2以上の断面形態を有する、光学フィルタである。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、耐光性に優れ、長期間に亘って優れた帯電防止性を維持することができると共に、光反射性能を低下させることなく光反射材に帯電防止性能を付与することができる帯電防止性ポリオレフィン系樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の帯電防止性ポリオレフィン系樹脂組成物は、ポリオレフィン系樹脂、帯電防止剤、ヒンダードアミン系光安定剤及び紫外線吸収剤を含むことを特徴とするので、優れた帯電防止性及び透明性を有しており、光に長期間に亘って暴露されても着色や樹脂劣化を生じず優れた透明性を確実に維持する。 (もっと読む)


【課題】干渉ムラがなく、密着性に優れたハードコートフィルム、反射防止フィルム、偏光板及び外観の良好な表示装置を提供すること、及び塗設回数を増やすことなく上記ハードコートフィルムを作製できる製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも基層と表層とを有するセルロースアシレートフィルムの表層側の面にハードコート層を有するハードコートフィルムであって、表層に無機酸化物微粒子とセルロースアシレートとを含み、該表層の屈折率が1.49以上1.56以下であり、該表層の平均膜厚が50nm以上130nm以下であり、該ハードコート層の屈折率をnH、該表層の屈折率をnS、表層以外のセルロースアシレートフィルムの屈折率をnCとしたとき、下記式(I)の関係を満たすハードコートフィルム。
式(I) 0.98< (nH×nC)1/2/nS<1.02 (もっと読む)


【課題】干渉ムラを抑えて表示画像の鮮明性を向上でき、かつ生産性を向上できる反射防止フィルムを提供すること。
【解決手段】少なくとも一方の面に凹凸構造が形成された基材フィルムと、この基材フィルムにおける前記凹凸構造が形成された面に設けられるハードコート層と、このハードコート層における前記基材フィルムとは反対側の面に設けられる反射防止層と、を備える反射防止フィルムであって、前記基材フィルムにおける前記凹凸構造側の面は、算術平均粗さRa(μm)と平均周期Sm(μm)とが下記の関係(1),(2)を満たす反射防止フィルム。(1) 20 ≦ Sm ≦180 (2) −3×10−6 ×(Sm)+0.0012×(Sm)+0.0872 ≦ Ra ≦ −1×10−5 ×(Sm)+0.0038×(Sm)+0.038 (もっと読む)


【課題】蒸着時における真空度の制御性を向上するために、蒸着装置のメンテナンスを適切に行うことを目的とする。
【解決手段】排気手段11を所定の減圧能力に保持した状態で、真空容器10内を排気し、所定の排気時間経過後の真空容器10内の圧力が基準圧力値よりも高い場合に、真空容器10内の蒸着物の除去を行う。多数の基板に蒸着を行う蒸着装置において、メンテナンスのタイミングを最適化することで、真空度の変動による蒸着膜の特性のばらつきを抑え、歩留まりの向上を図る。 (もっと読む)


【課題】紫外波長域における反射率が十分に低い反射防止膜を形成する。
【解決手段】真空排気された処理室1内で、無機材料である酸化シリコンを主材料ボート4から電子ビームにより加熱蒸発させて蒸発粒子を生成する。処理室1内にプラズマガス有機材料であるシロキサンガスとの混合ガスを導入し、プラズマ発生用電極7に高周波電力を供給してプラズマを発生させ、イオンプレーティング法により基材9の表面に、シロキサンをバインダーとした酸化シリコンの重合膜を形成する。シロキサンは紫外波長域での光の吸収が大きく反射率を下げることができるとともに、重合度が高いので基材9への密着性が良好になる。 (もっと読む)


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