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Fターム[3C034CA02]の内容

研削盤の構成部分、駆動、検出、制御 (11,657) | 検出対象 (2,276) | ワーク寸法 (610) | インプロセス (447)

Fターム[3C034CA02]に分類される特許

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【課題】
ダミーウェーハを使用せずに加工用砥石とウェーハまたはツルアーとの相対的位置または加工砥石直径を決定し、短時間で無駄なく面取り形状精度を向上させる面取り加工装置及び面取り加工方法を提供すること。
【解決手段】
ウェーハWまたはツルアーTに供給される加工補助液Lを介して設けられたセンサ3によりウェーハWまたはツルアーTと加工用砥石との接触を検知し、接触した座標位置から相対的座標位置または加工用砥石直径を決定する。 (もっと読む)


【課題】ねじ溝の位置に砥石を自動的に位置決めすることが可能であり、且つ加工精度を自動的に測定できるとともに加工時間が長くなることを抑制し、測定の結果得られた補正を当該ワークの加工に反映可能なねじ研削盤、及びねじ溝研削方法を提供する。
【解決手段】一部の円筒面を周回するように形成されたねじ溝NMを有する略円筒状のワークWをワーク回転軸CZ回りに回転可能に支持する支持手段と、ねじ溝を仕上げ研削する砥石Tと、リード方向移動手段と、切り込み方向移動手段と、を備え、ねじ溝NMの研削時におけるワークWと砥石Tとの接点である加工点Kpから、ワーク回転軸CZ方向にねじ溝NMのリード幅Lpに対応した距離だけ離れた位置に、物体に接触することなく物体までの距離に応じた検出信号を出力する非接触変位検出手段S1が、ワークWの方向に向けて設けられている。 (もっと読む)


【課題】研削加工後に行うワークの厚さ分布測定を、従来よりも短時間で手間がかからず、かつ処理能力が低下せず、しかもコスト上昇を招くことなく効率的に遂行する。
【解決手段】回転可能なポスト71の先端にヘッド部72を有する非接触式の第2厚さ測定ゲージ70で、ウェーハ1の外周端の厚さを測定しながら仕上げ研削し、仕上げ研削完了後、引き続きヘッド部72で厚さを測定しながら、ターンテーブル17を回転させてウェーハ1を二次加工位置1Bからワーク着脱位置1Pに送り、ウェーハ1の外周端から中心点Oまでの厚さ分布を測定する。研削工程の流れの中で厚さ分布を測定し、処理能力を低下させることなく厚さ分布を取得する。 (もっと読む)


【課題】金属配線を所望の量だけ正確に研磨することができる研磨方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る研磨方法は、溝905を有する絶縁膜903と、絶縁膜903上に形成されたバリア膜906と、バリア膜906上に形成された金属膜907とを有し、金属膜907の一部が金属配線910として溝905内に形成されている基板Wを研磨する。この研磨方法は、金属膜907を除去する第1研磨工程と、記第1研磨工程後、バリア膜906を除去する第2研磨工程と、第2研磨工程後、絶縁膜903および金属配線910を研磨する第3研磨工程と、第3研磨工程終了後、金属配線910の高さを渦電流センサにより測定する測定工程と、測定工程で得られた測定値に基づき、後続の基板の研磨時間を調整する調整工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】研削用砥石が研削時の回転遠心力によってダレ、変形した場合であっても、ワークの研削精度の低下を防ぐことができ、ワークを2種類以上研削加工する場合でも、安定した研削精度を出すことのできる、両頭平面研削方法、及び、両頭平面研削装置を提供する。
【解決手段】両頭平面研削装置30は、第一の研削部10aと第二の研削部10bとを回転させ、研削用砥石押付けシリンダ12で、第一の研削部10aを、対向する研削部10bの方向である軸心方向に押付け強度で押付けることにより、ワークWにおける二つの研削面を同時に平面研削する研削手段と、研削手段で研削された前記ワークWにおける研削方向の厚みを、少なくとも2箇所以上で測定する測定手段22と、測定手段22で得られたワークWの厚みデータに基づいて、次のワークWの研削手段における研削用砥石押付けシリンダ12の押付け強度を調節する、押付強度調節手段とを備える。 (もっと読む)


【課題】 加工時間を長引かせることなく「軸ずれ」を効果的に抑えることを可能にする。
【解決手段】 眼鏡レンズを保持するレンズチャック軸を回転するレンズ回転手段と、粗砥石が取り付けられた砥石回転軸を回転する砥石回転手段と、レンズチャック軸と砥石回転軸との軸間距離を変動させる軸間距離変動手段と、レンズ前面及びレンズ後面のカーブ形状を測定又は入力するレンズ形状測定・入力手段と、測定又は入力されたレンズ前面及びレンズ後面のカーブ形状に基づいてレンズの回転中心から加工点までの加工距離に応じて変化するレンズの回転角毎のレンズ厚を求め、レンズを単位回転角だけ回転したときのレンズ回転角での加工点の加工距離と加工点でのレンズ厚とに基づいてレンズチャック軸に掛かるトルクが略一定となる切り込み量を求める演算手段と、演算された切り込み量に従って軸間距離変動手段を制御してレンズを加工制御手段と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 ナノ精度の高精密双頭円筒研削盤の提供。
【解決手段】 円筒状ワークを両端から双頭の旋削工具を用いて端面研磨、内面テーパー切削加工、研磨加工する複合旋削加工機において、旋削工具軸装置として磁気軸受と静圧水軸受により軸受けされる回転/直動可能なビルトインモータ駆動式の旋削工具軸13、前記旋削工具軸を回転/直動させる回転/直動複合アクチュエータ16,18および、前記旋削工具軸の直線移動距離を測定する位置測定手段85を備える旋削工具軸装置10を用いる。 (もっと読む)


【課題】研磨性能の向上を図った研磨装置を提供する。
【解決手段】研磨機構20は、XYZステージ10と対向するように設けられたベース部材21と、レンズLを研磨可能な研磨部27を先端側に有して基端側がベース部材21に連結された研磨工具25と、研磨工具25の基端側とベース部材21とを連結させるジョイント部30と、ジョイント部30とベース部材21との間に跨って設けられ、ベース部材21の内側に位置するジョイント部30(スラストジョイント33)を支持する板バネ部材35と、板バネ部材35に支持されたジョイント部30を介して研磨工具25の研磨部27にレンズLを押圧させる押圧機構40とを有し、板バネ部材35は、ジョイント部30が延びる長手方向に沿って略平行に2つ設けられている。 (もっと読む)


【課題】回転工具の駆動状態に基づき回転工具の移動を制御することで、良好な研削加工が可能な工作機械を提供することを目的とする。
【解決手段】工作物保持部11に対して工具保持部21を相対的に移動させるサーボモータ32と、指令値に基づきサーボモータ32に電力を供給するサーボ駆動部33と、回転工具22の駆動状態に基づきモータ補正量を算出する補正量算出部57と、モータ補正量に基づき指令値を補正する補正部60と、を備える。 (もっと読む)


【課題】煩雑な加工条件の設定および制御を必要とすることなく、簡単な構成で加工工具からワークに作用する圧力分布の均等化を図り、高精度な加工品を得る。
【解決手段】ステー6に揺動アーム支持部14を介して水平に支持されたコの字形状の揺動アーム11の両端部に、アッパーアーム支持部13a、アッパーアーム支持部13bを介してコの字形状のアッパーアーム12を支持し、アッパーアーム12の中央に被加工レンズ3を支持するワーク軸支持部4を配置した構成のワーク保持装置1において、揺動アーム11とアッパーアーム12の両端の接続部の各々に、L字型磁性体20aおよびL字型磁性体20bを配置し、被加工レンズ3に対向する研磨工具との間に、軸線Zに交差する任意の傾斜方向に作用する加工圧を制御し、加工圧の総和が被加工レンズ3の半径方向に均等化されるようにした。 (もっと読む)


【課題】 力センサなどのセンサを使用することなく、しかも、精度よく砥石とワークとの接触を検知することができる研削装置を提供する。
【解決手段】 接触前からインプロセスゲージを使用して(S1)、インプロセスゲージ値を収集する(S2)。このインプロセスゲージ信号は、LPF処理され(S3)、インプロセスゲージ信号の振幅量が閾値と比較される(S4)。インプロセスゲージ信号の振幅は、最初は大きくて徐々に小さくなっていくので、ある時点で閾値よりも小さくなり、これによって、砥石がワークに接触したと判定される(S5)。 (もっと読む)


【課題】加工条件の設定が不要となるとともに加工中にリアルタイムでワークの情報を取得することが可能な加工装置および加工方法を提供する。
【解決手段】加工対象物の形状等の状態を検出可能な測定装置と、検出部により検出された加工対象物の状態に対応する画像データを設定する画像生成装置と、加工対象物の状態を示す画像を表示させる表示部とを備えた加工装置を用いて行う加工方法であって、ワークの形状等の状態を測定する測定ステップと、測定ステップで測定したワークの状態に対応する画像データを設定するデータ設定ステップと、データ設定ステップで設定した画像データに基づいてワークを加工するための加工条件を算出する加工条件算出ステップと、加工条件算出ステップで算出した加工条件に基づいてワークの加工を行う加工ステップとを有する。 (もっと読む)


【課題】
ウェーハの厚みのばらつきや反りに影響されず、精度の高いウェーハ面取り幅を実現する面取り加工方法及び面取り加工装置を提供すること。
【解決手段】
ウェーハW端部の各回転角度における厚さと厚み方向位置に基づき砥石とウェーハWの各回転角度における相対的位置を算出し、加工点における相対的位置に基づき砥石とウェーハWとの位置を調整しながら面取り加工を行う。 (もっと読む)


【課題】 測定対象物への接触が適正な状態で、測定対象物からの磁化信号を正確に測定できる磁気測定装置を提供する。
【解決手段】 この磁気測定装置は、測定対象物20を励磁する励磁コイル2と、励磁された測定対象物20からの磁化信号を検出する検出コイル3とを有する。励磁コイル2および検出コイル3の磁心の測定対象物20に対向する先端部を柔軟性材料6で構成し、その先端部の測定対象物20との摺接面を硬質磁性体の薄板7で構成する。 (もっと読む)


【課題】作業時間が遅延せずに、ウェーハを所望の厚さまで正確に研削する。
【解決手段】粘着フィルム(11)を介してフレーム(36)に保持されたウェーハ(20)を吸着する吸着パッド(51a)を具備し、吸着パッドはウェーハに対応する中央部分(52a)と、中央部分周りにおける外側部分(57a)とを含んでおり、外側部分は中央部分よりも下方に位置しており、さらに、吸着パッドを取囲んで支持する支持部材(53a)と、支持部材に設けられていて吸着パッドの中央部分と同一表面の上面を有する突起(61)とを具備するチャックテーブルが提供される。突起の高さがフレームの厚さ以上であるのが好ましい。また、吸着パッドが、中央部分と外側部分とを連結する傾斜部分(54a)をさらに含むのが好ましい。 (もっと読む)


【課題】被加工物の固定時における位置ずれ等を生じることなく、短時間で高精度な心出しにより、高精度に効率よく心取り加工を行う。
【解決手段】レンズ保持軸1のレンズヤトイ4に真空吸着にて被加工レンズ5を仮固定し、移動テーブル9に搭載された偏心検出装置L1による被加工レンズ5に対する出射光18aおよび反射光18bの観察によってレンズ保持軸1の軸心と被加工レンズ5の中心軸を一致させる心出しを行った後に、レンズ保持軸1とレンズ固定軸6の間に被加工レンズ5を挟持して回転させ、研削砥石21を被加工レンズ5の外周部に押圧して心取り加工を行う。従来のようにヤニによって被加工レンズ5をレンズヤトイ4に固定する場合に比較して、位置ズレを生じることなく、短時間に正確に被加工レンズ5をレンズ保持軸1に対して同軸状態に固定して高精度な心取り加工を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】段取り作業を簡略化しつつ高精度の研削加工を実現するとともに、多様な形状の被加工物の研削加工における生産効率の向上を実現する。
【解決手段】ワーク軸2に保持されたワーク1を、ワーク軸2に水平面内で交差するツール軸13に保持された研削砥石11に押圧して研削加工する研削装置Mにおいて、ワーク軸2およびツール軸13の可動範囲における鉛直方向(矢印Z方向)の変位を計測して記憶し、任意のワーク1に加工における段取りにおいて、この計測結果に基づいてツール軸13の矢印Z方向の位置をサーボモーター24および送りねじ23で補正することで、加工中におけるワーク軸2およびツール軸13の水平面内における位置ずれを防止し、段取り作業の簡略化および高精度の研削加工を可能にした。 (もっと読む)


【課題】研磨効率を維持しつつワークを研磨しながら同時に加工状態を検出することができるようにする。
【解決手段】研磨面51aをワークWの被研磨面Wbに回転接触させた状態で、研磨面51aが被研磨面Wbの全面を覆う位置と被研磨面Wbの一部が露出する位置との間で研磨パッド51を保持手段7に対して保持面71に平行な方向に往復移動させるとともに、被研磨面Wbの一部が露出した位置で被研磨面Wbの加工状態を測定手段18により測定させるようにした。 (もっと読む)


【課題】光学式研磨終点検知に最適な光の波長を効率よく選択する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、光学式研磨終点検知における光の波長選択に用いられるダイヤグラムの作成方法を提供する。この方法は、膜を有する基板の表面を研磨パッドで研磨し、研磨中に、基板の表面に光を照射し、かつ基板から戻る反射光を受光し、反射光の相対反射率を波長ごとに算出し、研磨時間と共に変化する相対反射率の極大点および極小点を示す反射光の波長を求め、極大点および極小点を示す波長が求められたときの時点を特定し、光の波長および研磨時間を表す座標軸を持つ座標系上に、求められた波長および対応する時点により特定される座標をプロットする工程を有する。 (もっと読む)


基板上の導電層の厚さを監視する装置は、導電層を有する基板を保持する支持部と、第1の複数のコア部分を含む渦電流監視システムと、支持部と渦電流監視システムとを互いに対して動かすことにより、第1の複数のコア部分を横切って、第1の軸を画定する方向に基板を移動させるモータとを含む。少なくとも1つのコア部分が、第2の軸から、少なくとも2つの他のコア部分よりもさらに遠くに配置される。第2の軸は、第1の軸と直交する。
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