【課題】第２族金属含有多座β−ケトイミネートの製造方法を提供する。
【解決手段】Ｒ^７ＯＨおよび（ＯＨ）_ｎＲ^８（式中、Ｒ^７およびＲ^８は、アルキル基およびアリール基から独立して選択される。）から成る群から選択された少なくとも１種を含むアルコールと、三座ケトイミン配位子とを含む反応混合物中でＭ（Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、およびＢａから成る群から選択される金属）を反応させることを含む、第２族金属含有多座β−ケトイミネートの製造方法。ある態様において、この反応混合物は、有機溶媒をさらに含む。 （もっと読む）

【課題】Ｎ−アルキルボラジンを高効率で製造しうる手段を提供する。
【解決手段】ボラン（ＢＨ_３）錯体またはジボラン（Ｂ_２Ｈ_６）と、ＲＣＮ（Ｒは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、またはアラルキル基である）で表されるニトリルとを反応させてＮ−アルキルボラジンを合成する段階を有し、溶媒中で反応が行われることを特徴とする、Ｎ−アルキルボラジンの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】光学活性ホスフィン配位子の製造に有用で、対掌体のいずれをも容易に製造可能な光学活性ホスフィンボラン化合物及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｐ−１）で表されるホスフィンボラン化合物。下記一般式（Ｐ−２）で表される水素−ホスフィンボラン化合物と下記一般式（３）で表される光学活性イソシアネート化合物とをカップリング反応に付す上記ホスフィンボラン化合物の製造方法。下記式中、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ水素原子、炭化水素又は置換炭化水素基を示し、それらが存在することによりリン原子に不斉が生じるように選択してもよく又は不斉が生じないように選択してもよく、Ｒ³は不斉炭化水素基又は不斉炭化水素基を示す。
（もっと読む）

【課題】水素化ホウ素出発物質のための追加の溶媒を使用することなく、水素化ホウ素ナトリウムおよびアミン塩からアミンボランを製造するより効率的な方法を提供する。
【解決手段】水素化ホウ素アルカリ金属からアミンボランを製造する方法。水素化ホウ素アルカリ金属は、水とアミンを含む溶媒中で、０．９５〜１．０５当量のアミン塩と反応させられる。 （もっと読む）

【課題】第２族アルカリ土類金属含有酸化物膜などの化学気相成長（ＣＶＤ）に使用する新規な金属前駆体の揮発源の提供。
【解決手段】ジケトン化合物とアミン化合物から得られるβ−ケトエナミン化合物（例えば２，２−ジメチル−５−［（２−メトキシエチル）アミノ］ヘキサ−４−エン−３−オンなど）とストロンチウム、バリウムなどの第２族金属化合物とから調整された第２族金属含有多座配位β−ケトイミネート前駆体及び該前駆体を含む組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、入手が容易な原料より、煩雑な反応操作を必要とせずに、簡便な方法にて、ペンタフルオロスルファニルフェニル基を有するテトラキス（アリール）ボレート化合物を提供することにある。
【解決手段】 本発明の課題は、ペンタフルオロスルファニルフェニル基を有するテトラキス（アリール）ボレート化合物（配位性のある化合物で配位されていても良い）によって解決される。 （もっと読む）

【課題】従来の方法では安定して得られ難かったテトラシアノボレート［Ｂ（ＣＮ）₄］^-を含むイオン性化合物を、より穏やかな条件で、安定且つ安価に製造する方法を提供する。
【解決手段】Ｍ^a（ＣＮ）_n（Ｍは、Ｚｎ，Ｇａ，Ｐｄ，Ｓｎ，Ｈｇ，Ｒｈ，ＣｕおよびＰｂのいずれかを示し、ｎは１〜３の整数である）と、ホウ素化合物、を含む出発原料を反応させることを特徴とする下記一般式（Ｉ）で表されるイオン性化合物の製造方法。


（式中、〔Ｋｔ〕^m+は有機又は無機カチオンを表し、ｍは１〜３の整数である。） （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、安全且つ簡便な方法にて、インジウム廃棄物を処理し、インジウム汚泥を回収することが可能な工業的に採用できる方法を提供することにある。
【解決手段】 本発明の課題は、トリアルキルインジウムの後処理方法であって、トリアルキルインジウムを有機溶媒に溶解又は懸濁させた後、ケトン化合物と接触させることを特徴とする、トリアルキルインジウムの処理方法によって解決される。 （もっと読む）

【課題】安価で操作性に優れ、かつ不純物、特に塩素濃度の低い高純度トリメチルアルミニウムの製造方法を提供すること。
【解決手段】炭化水素溶媒中でアルカリ金属を加熱、融解、攪拌してアルカリ金属分散液を作製し、これにメチルアルミニウムクロリドを混合し、反応、熟成して得られたトリメチルアルミニウムを蒸留により得るトリメチルアルミニウムの製造方法において、該炭化水素溶媒中でのアルカリ金属の加熱、融解、攪拌を、炭化水素溶媒に対しアルカリ金属が融解した後、更に該アルカリ金属の融点以上の温度で、1時間以上攪拌処理を行い、これにメチルアルミニウムクロリドを混合し、反応、熟成し、得られた反応生成物よりトリメチルアルミニウムを蒸留により得る。 （もっと読む）

【課題】無水希土類塩化物よりも安価な希土類金属を原料に用いて、高収率で安全に、希土類オキソイソプロポキシドを合成する方法を提供する。
【解決手段】イソプロピルアルコールを９０重量％以上含む溶媒中で希土類金属とイソプロピルアルコールを水銀化合物触媒存在下で反応させた後、溶媒を添加または一部交換し、炭素数６〜１０の芳香族炭化水素溶媒または炭素数５〜１２の飽和炭化水素溶媒を２５重量％以上含む溶媒中で、水を添加し、部分加水分解反応させることにより、希土類オキソイソプロポキシドを合成する。 （もっと読む）

１−フルオロ−２−置換−３−クロロベンゼンが、フルオロ置換基に隣接する位置で、選択的に脱プロトン化され官能化される。 （もっと読む）

【課題】 少量の金属触媒と温和な反応条件でα位アルケニル置換含窒素芳香族複素環化合物を製造する方法を提供すること。
【解決手段】 少なくともα位に水素原子を有する含窒素芳香族複素環化合物とアルキン化合物を、ニッケル触媒とホスフィン系配位子とルイス酸触媒の存在下で反応させ、当該α位をアルケニル化する工程を含んでなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 水をヒドロカルビルアルミニウム化合物および／またはアルミノキサンが有機溶媒に入っている溶媒溶液に添加することによってアルミノキサン組成物を製造する方法の改良が要望された。
【解決手段】 この課題は、水を溶媒の流れで取り巻かれているオリフィスに通して供給して該溶媒の流れで上記水を上記ヒドロカルビルアルミニウムおよび／またはアルミノキサンが入っている溶媒溶液の中に運び込むことから成る方法によって解決された。 （もっと読む）

少なくとも１つの金属および／または少なくとも１つの金属で構成される少なくとも１つの半導体化合物で構成される無機コアを含むナノ粒子は、コアの表面の少なくとも一部を覆って配置されたコーティングまたはシェルを含む。コーティングは、１つ以上の層を含み得る。コーティングの各層は、金属および／または少なくとも１つの半導体化合物を含み得る。ナノ粒子は、コーティングの表面に結合されたリガンドをさらに含む。リガンドは式、Ｘ−Ｓｐ−Ｚによって表され、式中、Ｘは、例えば１級アミン基、２級アミン基、尿素、チオ尿素、イミジゾール基、アミド基、ホスホン酸またはアルソン酸基、ホスフィン酸またはアルシン酸基、ホスホネートまたはアルセネート基、ホスフィンまたはアルシンオキシド基を表し；Ｓｐは、電荷移動させることが可能な基または絶縁基などのスペーサ基を表し；ならびにＺは、（ｉ）ナノ粒子に特定の化学特性を伝達可能であるのはもちろんのこと、ナノ粒子表面に特定の化学反応性を与える反応性基、ならびに／または（ｉｉ）環式、ハロゲン化、もしくは極性ａ−プロトン性である基を表す。ある実施形態において、少なくとも２つの化学的に別個のリガンドがコーティングの表面に結合され、少なくとも２つのリガンド（ＩおよびＩＩ）は式、Ｘ−Ｓｐ−Ｚによって表される。リガンド（Ｉ）では、Ｘは、ホスホン酸、ホスフィン酸、またはホスホネート基を表し、リガンド（ＩＩ）では、Ｘは、１級または２級アミン、またはイミジゾール、またはアミドを表す；両方のリガンド（Ｉ）および（ＩＩ）において、Ｓｐは、２つの化合物において同じまたは異なることが可能であり、電荷移動させることが可能な基または絶縁基などのスペーサ基を表し；Ｚは、２つの化合物において同じまたは異なることが可能であり、ナノ粒子に特定の化学特性を伝達可能であるのはもちろんのこと、ナノ粒子表面に特定の化学反応性を与える基の中から選択される基である。好ましい実施形態において、ナノ粒子は半導体材料を含むコアを含む。
（もっと読む）

本開示は、有機反応のための、詳細にはアミンとの直接的なアミド化反応のための、操作的に単純な、カルボン酸の低温での触媒活性化方法を記載するものである。本方法は、式(I)のオルト置換アリールボロン酸の使用を伴い、式中のR¹からR⁵基は、本明細書において定義するとおりである。好ましい態様において、R¹はハロゲンである。アリールボロン酸は、求核性1,2-付加反応、共役1,4-付加反応、およびα,β-不飽和カルボン酸を伴うディールス・アルダー反応を含む付加環化反応を触媒する。

（もっと読む）

本発明の希土類有機リン酸塩の有機溶媒中溶液を調製する方法は、この溶媒中で、希土類の酸化物、水酸化物、炭酸塩およびヒドロキシ炭酸塩から選択される希土類化合物と有機リン含有酸とを、水、硝酸、塩酸、酢酸、蟻酸およびプロピオン酸から選択される促進剤およびこれらの酸の希土類塩の存在下で反応させるステップを含む。促進剤を使用すると、方法を単純化すること、反応時間を低減することおよび残留固体物含有量が低くなり得る溶液を得ることが可能になる。 （もっと読む）

本発明の対象は、結晶性で完全に溶解性のリチウムビス（オキサラト）ホウ酸塩（ＬｉＢＯＢ）、その製造方法およびリチウムビス（オキサラト）ホウ酸塩の使用である。 （もっと読む）

【課題】重合触媒を製造するために使用されるカルボン酸とハロゲン化又はハロゲノカルボン酸希土類元素又はガリウムとの付加化合物の提供を課題とする。
【解決手段】この課題を解決するために、カルボン酸とハロゲン化又はハロゲノカルボン酸希土類元素又はガリウムとの付加化合物を提供する。この化合物は、アルカン、シクロアルカン及び芳香族溶媒並びにそれらの混合物の中から選択される溶媒中でＨＸ（ここで、Ｘはハロゲンを表す）とカルボン酸希土類元素又はガリウムとを反応させることからなる方法によって得られる。 （もっと読む）

一般式（Ｉ）の化合物を提供する。

（Ｒ^１Ｒ^２Ｎ）_２−Ｚｎ・ａＭｇＸ^１_２・ｂＬｉＸ^２ （Ｉ）

Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換の、直鎖もしくは分岐鎖状のアルキル、アルケニル、アルキニル、またはそれらのシリル誘導体、および置換もしくは非置換のアリールもしくはヘテロアリールから選択され、
Ｒ^１およびＲ^２は、共に環状構造を形成することができ、または、Ｒ^１および／もしくはＲ^２は、重合体構造の一部となることができ、
Ｘ^１_２は、二価陰イオンまたは互いに独立した２つの一価陰イオンであり、
Ｘ^２は、一価陰イオンであり、
ａ＞０であり、
ｂ＞０である。
前記亜鉛アミド塩基は、とりわけ、芳香族の脱プロトン化およびメタル化に用いられる。 （もっと読む）

【課題】高い光学収率で且つ工業的に有利な方法で光学活性なジアルキルホスフィノメタン誘導体を製造し得る方法を提供すること。
【解決手段】ジメチルアルキルホスフィンボラン等のホスフィンボラン化合物、触媒量の光学活性アミン及び溶媒の存在下、有機リチウム化合物を添加する第一工程、第一工程終了後に、モノハロゲン化ホスフィンを加えるか、又はジハロゲン化ホスフィンを加えた後にグリニアル試薬を加える第二工程、及び第二工程で得られた生成物にテトラヒドロフラン−ボラン錯体等を加える第三工程を有することを特徴とする光学活性なジアルキルホスフィノメタン誘導体の製造方法。モノハロゲン化ホスフィン又はジハロゲン化ホスフィンを加える前に、テトラヒドロフラン等の配位性溶媒を加えることが好ましい。光学活性アミンはスパルテインであることが好ましい。 （もっと読む）