【課題】樹脂成形体の難燃性を効果的に高めることができ、樹脂成形体の電気特性、特に、誘電率（ε）および誘電正接（ｔａｎδ）が低く、しかも耐熱性が高いホスファゼン化合物を実現する。
【解決手段】脱離基を有するフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物とエテニル化合物との炭素炭素結合形成反応工程を含む下記の式（１）で示されるエテニルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。


式（１）中、ｎは１〜６の整数を示し、Ａは少なくとも一つが式（２）で示されるエテニルフェノキシ基で、その他のＡがアリールオキシ基である。
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【課題】原材料の変更や高額な設備投資を必要とせずに、簡便な手法で、吸水性樹脂の物性（例えば通液性）を向上および安定させる方法を提供する。
【解決手段】アクリル酸（塩）水溶液を重合して含水ゲル状架橋重合体を得る重合工程と、上記含水ゲル状架橋重合体を乾燥して吸水性樹脂乾燥物を得る乾燥工程と、上記吸水性樹脂乾燥物を分級して吸水性樹脂粒子を得る分級工程と、上記分級工程の前及び／又は後に、吸水性樹脂粒子を表面架橋する表面架橋工程とを順次含む、ポリアクリル酸（塩）系吸水性樹脂の連続製造方法であって、上記乾燥工程以降の１以上の工程において、各工程で使用される装置に対して、吸水性樹脂との接触面を水洗する、ポリアクリル酸（塩）系吸水性樹脂の連続製造方法。 （もっと読む）

【課題】樹脂成形体の難燃性を効果的に高めることができ、樹脂成形体の電気特性、特に、誘電率（ε）および誘電正接（ｔａｎδ）が低く、しかも耐熱性が高いホスファゼン化合物を実現する。
【解決手段】ホルミルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物に、カルボニルオレフィン化反応を行う工程を含む、式（１）で表されるエテニルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。


式（１）中、ｎは１〜６の整数を示し、Ａは少なくとも一つが式（２）で示されるエテニルフェノキシ基で、その他のＡがアリールオキシ基である。
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【課題】プロピレン含有重合体を塩素系溶剤と水との混合液中で塩素化する工程を有する塩素化されたプロピレン含有重合体の製造方法であって、従来よりも効率的に目的物を得ることができる改善された製造方法を提供する。
【解決手段】塩素化されたプロピレン含有重合体の製造方法であって、
（１）ポリプロピレン及びプロピレン−α−オレフィン共重合体の少なくとも１種のプロピレン含有重合体をクロロホルム及び水を含む混合液に分散させて分散液を得る工程１、
（２）密閉下において、前記分散液を１３０℃以下の温度で加温しながら、前記分散液に塩素ガスを導入することにより前記プロピレン含有重合体を塩素化する工程２、
（３）工程２で得られた反応液に水不溶性のエポキシ基含有化合物を添加・静置した後、クロロホルム含有相を分取する工程３、並びに
（４）前記クロロホルム含有相からクロロホルムを留去することにより、塩素化されたプロピレン含有重合体を得る工程４、
を有することを特徴とする製造方法。 （もっと読む）

【課題】液浸露光プロセスにおいて、露光時にはレジスト膜表面の優れた水切れ性を示すと共に、現像欠陥の発生を抑制できる新規な化合物、この化合物に由来する構造単位を有する重合体、この重合体を含有するフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物に由来する構造単位を有する重合体、さらに、［Ａ］酸解離性基を有する重合体、［Ｂ］当該重合体、［Ｃ］酸発生体及び［Ｄ］溶媒を含有するフォトレジスト組成物。式（１）中、Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の有機基である。但し、Ｒ^４及びＲ^５のうち少なくとも１つの基は、フッ素原子を有する。ｎは、１〜４の整数である。
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【課題】樹脂成形体の難燃性を効果的に高めることができ、樹脂成形体の電気特性、特に、誘電率（ε）および誘電正接（ｔａｎδ）が低く、しかも耐熱性が高いホスファゼン化合物を実現する。
【解決手段】アセチルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物を還元してヒドロキシエチルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物とし、次にそれを脱水する反応工程を含む下記の式（１）で示されるエテニルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。


式（１）中、ｎは１〜６の整数を示し、Ａは少なくとも一つが式（２）で示されるエテニルフェノキシ基で、その他のＡがアリールオキシ基である。
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【課題】本発明の目的は、液浸露光プロセスにおいて、露光時には大きい動的接触角を示すことにより、レジスト膜表面が優れた水切れ性を示し、現像時には動的接触角が大きく低下することにより、現像欠陥の発生が抑制されるレジスト膜を形成可能なフォトレジスト組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］酸解離性基を有する重合体、［Ｂ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有し、フッ素原子を含む重合体、［Ｃ］酸発生体、及び［Ｄ］溶媒を含有するフォトレジスト組成物である。Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の有機基である。但し、Ｒ^４とＲ^５とが互いに結合して、これらが結合している炭素原子と共に炭素数３〜２０の環構造を形成してもよい。
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【課題】感度等の基本性能に加えて、ナノエッジラフネス、解像度、パターン倒れ耐性、ＭＥＥＦ（Ｍａｓｋ Ｅｒｒｏｒ Ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ Ｆａｃｔｏｒ）に優れるレジスト膜を形成するために用いられる化合物、それを用いて得られる重合体及びその重合体を含有するフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物。


（式（１）中、Ｒ^１は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。Ｒ^２は、単結合又は２価の連結基である。Ｍ^＋は、１価のカチオンである。）また、式（１）におけるＭ^＋の１価のカチオンは、例えば４−シクロヘキシルチオフェニル・ジフェニルスルホニウムのようなスルホニウム好ましい。 （もっと読む）

【課題】従来技術と比較して、セメント混和剤における各種の性能をより一層改善しうる手段を提供する。
【解決手段】本発明のセメント混和剤用共重合体の製造方法は、化学式１で表される不飽和カルボン酸系単量体と、化学式２で表される不飽和ポリアルキレングリコール系単量体とを必須成分として含有する単量体成分を反応器中、溶媒の存在下で溶液重合させることを含む。そして、反応系における前記溶媒以外の成分の濃度の反応時間に対する平均値として定義される反応系平均濃度が１〜５０質量％である点に特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】耐ブロッキング性、接着性および耐候性に優れた接着剤、前記接着剤からなる接着剤層を有する太陽電池モジュール用バックシート、太陽電池モジュールおよび太陽電池を提供すること。
【解決手段】ビニル系重合体を含有するビニル系接着剤であって、前記ビニル系重合体が側鎖の末端にエチレン性不飽和二重結合を有するビニル系重合体であることを特徴とするビニル系接着剤、前記ビニル系接着剤からなる接着剤層を有する太陽電池モジュール用バックシート、太陽電池モジュールおよび太陽電池。 （もっと読む）

【課題】生体適合性部材を構成する各種基材と膜との密着性が良好で、かつ膜表面に高い生体適合性が付与されると共に、親水性及び耐水性にも優れた新規な生体適合性部材及びその形成方法を提供する。
【解決手段】基材と、該基材上に設けられ、下記１）及び２）を含む膜とを有する生体適合性部材であって、該膜が膜の厚み方向において前記基材に最も近い側から前記基材に最も遠い側に向かって１）の比率が大きくなり、かつ２）の比率が小さくなるように１）及び２）の組成が連続的に変化する組成傾斜膜である、生体適合性部材。
１）ホスホリルコリン基を有する化合物。
２）重合性化合物の重合体、又は、オリゴマー若しくはポリマー化合物。但し、前記２）重合性化合物の重合体、又は、オリゴマー若しくはポリマー化合物はホスホリルコリン基を有さない。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、形成されるレジストパターンの耐パターン倒れ性やドライエッチング時におけるレジストパターンに対する高いエッチング選択性を維持しつつ、高い屈折率及び吸光係数を有するレジスト下層膜を形成可能なレジスト下層膜形成用組成物、パターン形成方法並びに重合体を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］電子求引性基が結合する芳香族構造を有する構造単位（Ｉ）と、ラクトン構造を有する構造単位、環状カーボネート構造を有する構造単位及び環状イミド構造を有する構造単位からなる群より選択される少なくとも１種の構造単位（ＩＩ）とを含む重合体を含有するレジスト下層膜形成用組成物である。 （もっと読む）

【課題】耐水性や耐洗濯性に加え、剥離性にも優れた皮膜を形成する床用光沢剤に用いられる重合体水性分散液を得ることを目的とする。
【解決手段】芳香族ビニル化合物系単量体（Ａ）と、（メタ）アクリル酸単量体（Ｂ）とを少なくとも含み、全単量体中の（Ａ）成分の含有割合が６５重量％以上９０重量％以下である単量体混合物を、水性媒体中で乳化重合して得られる重合体の重合体水性分散液であって、所定の特徴を有する重合体水性分散液を用いる。 （もっと読む）

【課題】アゾ顔料の非水溶性溶剤に対する顔料分散性を改善する顔料分散剤を提供する。
【解決手段】特定の高分子樹脂ユニットに、下記一般式（１）で表されるユニットが結合している、顔料分散剤として用いられる化合物。


［式（１）中、Ｒ1はアルキル基、フェニル基を表し、Ｒ2乃至Ｒ6は水素原子、エステル基、アミド基等を表す。Ｌ1乃至Ｌ2は二価の連結基を表す。］ （もっと読む）

【課題】棒状液晶化合物を配向させたときに得られるフィルムのヘイズを低くすることができる、棒状液晶化合物を含む重合性液晶組成物の提供。
【解決手段】少なくとも１つの重合性基を有する棒状液晶化合物と、少なくとも１種のキラル剤と、少なくとも１種の下記式で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー由来の構成単位を含む（メタ）アクリル重合体と、を含む重合性液晶組成物。


（式中、Ｒ⁰は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは−Ｏ−または−ＮＲ¹−を表し、Ｘ⁰は水素原子またはフッ素原子を表し、Ｒ¹は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、ｍは１〜６の整数を表し、ｎは１〜１８の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】太陽電池モジュールに用いた場合に発電効率に優れ、かつ耐熱性においても良好な太陽電池封止シートを提供すること。
【解決手段】下記（ｉ）〜（iii）の要件を満たすエチレン−α−オレフィン共重合体を５０重量％以上含有する太陽電池封止シート。
（ｉ）密度が８８０〜９１５ｋｇ／ｍ³である。
（ii）２０℃〜１５０℃の範囲において示差走査熱量測定により観察された融解ピーク温度が、７５℃以上１２５℃以下である。
（iii）２０℃〜１５０℃の範囲において示差走査熱量測定により観察された融解熱量を１００％として、２０℃〜５０℃の範囲において観察される融解熱量の割合が５％以下であり、２０℃〜１００℃の範囲において観察される融解熱量の割合が６０％以上９５％以下である。 （もっと読む）

【課題】めっき膜を形成するめっき方法を提供する。
【解決手段】基板上にレジストパターンを形成する工程、レジストパターン形成面に、下記一般式（１）で表わされる構造単位及び下記一般式（２）で表わされる構造単位を有する重合体を含有する表面改質層を形成する工程、レジストパターンの開口部にめっき膜を形成する工程を有するするめっき方法。


〔式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｒ²は単結合又は２価の連結基、Ｒ³は水素原子、水酸基又はアルコキシ基、Ｒ⁴は水素原子又はメチル基、Ｒ⁵は極性基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】成膜性に優れた光学フィルム製造用の組成物及び該組成物から形成される光学フィルムの提供。
【解決手段】以下の（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含む組成物、及び該組成物から形成される光学フィルム。（Ａ）式（Ａ）で表される化合物


［式中、Ｙ^１は芳香族複素環式基などを表す。Ｄ^１及びＤ^２は、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−などを表す。Ｇ^１及びＧ^２は脂環式炭化水素基などを表す。Ｌ^１及びＬ^２のうち少なくとも一方が、重合性基を有する有機基である。］（Ｂ）メルカプト基を有する化合物。（Ｃ）光重合開始剤。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ用またはＥＢ用として有用なレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】フッ素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種と、芳香族基と、塩基の作用により分解して極性が増大する極性変換基とを有する樹脂成分（Ｃ）と、露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）（ただし前記樹脂成分（Ｃ）を除く。）と、を含有し、前記樹脂成分（Ｃ）中の前記芳香族基を有する構成単位の割合が２０モル％以上であることを特徴とするＥＵＶ用またはＥＢ用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィのための組成物を提供する。
【解決手段】下記のＡを含むポリマーとシランから形成されるポリマーを含む組成物。Ａ）下記の構造単位１：


（式中、Ｌは、Ｃ−Ｃ結合でありであり；Ｍは２価の結合基、Ｓｉ上に酸素含有基、ハライドから選択される基を持つ。） （もっと読む）