【課題】低圧条件下でα−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとの共重合体を得ることを可能にする製造方法の提供を課題とする。
【解決手段】α−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとの共重合反応において、イオン液体を重合反応溶媒として用いることより、触媒の重合反応活性が向上し、α−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとの共重合体が得られ、前記共重合体が、低圧条件下で高い収率で、また分子量の大きいものが得られた。 （もっと読む）

【課題】 特定の範囲の分子量分布と、比較的広い組成分布を有し、溶融張力が高く、発泡特性に優れたエチレン系重合体からなるポリエチレン系樹脂発泡体ネットを提供する。
【解決手段】 下記（Ａ）〜（Ｅ）の要件を満足するエチレン系重合体を基材樹脂とする発泡体からなる多数の細条が相互に交差し、その交差部が互いに融着してなる網目状に構成された発泡体ネットであって、該ネットを構成する細条の平均密度が０．０２〜０．１ｇ/ｃｍ³であることを特徴とするエチレン系樹脂発泡体ネット。
（Ａ）密度が９２０以上９４５未満。（Ｂ）ＭＦＲが０．１以上２０以下。（Ｃ）Ｍｗ／Ｍｎが２．０以上７．０以下。（Ｄ）分子量分別した際のＭｎが１０万以上のフラクション中に長鎖分岐を主鎖１０００炭素数あたり０．１５個以上。（Ｅ）流動の活性化エネルギー［Ｅａ（ｋＪ／ｍｏｌ）］が３０＜Ｅａ＜６０ （１） （Ｆ）５０℃におけるｎ−ヘプタン抽出量が０．２重量％以下。 （もっと読む）

【課題】分岐が少なく結晶性を有するα−オレフィン重合体等の製造用の高活性触媒成分およびそれを用いたα−オレフィン重合体等の製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ａ）で表される金属錯体、およびそれを用いたα−オレフィン重合体等の製造方法。


［式中、Ｍは、周期律表の９族、１０族または１１族に属する遷移金属を表す。Ｒ^３は、炭素数１〜２０の炭化水素基等を表す。Ｌ^１は、Ｍに配位したリガンドを表す。Ｘ^１は、酸素または硫黄を表す。Ｅ^１は、リン、砒素またはアンチモンを表す。Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４０の炭化水素基等を表し、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２、Ｒ^１３は、それぞれ独立に、炭素数１〜３０の炭化水素基等を表す。］ （もっと読む）

【課題】シリカ系無機充填剤等の各種無機充填剤との親和性に優れ、加硫物としたときに、ウェットスキッド特性と低ヒステリシスロス性とのバランスに優れ、実用上十分な耐摩耗性及び破壊強度を満足する変性共役ジエン系重合体組成物を提供する。
【解決手段】ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）を使用して測定された分子量分布が１．２〜３．５の範囲である多官能アニオン重合開始剤を用いて、共役ジエン化合物を重合、又は共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とを共重合することによって共役ジエン系重合体を得る工程と、
前記共役ジエン系重合体の重合活性末端に、シリル基に結合したアルコキシ基の総数が４個以上であり、１つ以上の窒素原子を有する化合物を、反応させる工程と、
を有する、変性共役ジエン系重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性のレジストパターンを製造でき、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位と、式（ａｂ）で表される構造単位とを有する樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ａ^aa1及びＡ^ab1は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等；Ｒ^aa2は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基；Ｗ^１は、脂肪族環を含む２価の基；Ａ^ab2は脂肪族炭化水素基；Ｒ^ab2は、フッ化アルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性で、欠陥の発生が少ないレジストパターンを製造できるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及びアルカリ現像液の作用により開裂する構造を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ａ¹³は、ハロゲン原子を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】湿った髪に適用しても乾いた髪に適用しても仕上げ後の毛髪に高いまとまり性と滑らかで柔らかな感触を付与でき、しかもべたつき感のない毛髪化粧料の提供。
【解決手段】成分(A)及び(B)を含有する毛髪化粧料。
(A)：オルガノポリシロキサンセグメントのSi原子の少なくとも１つに、ヘテロ原子を含むアルキレン基を介して、式(1)


〔Ｒ¹はＨ、Ｃ_1-22のアルキル基等、ｎは２又は３。〕
で表される繰り返し単位からなるポリ（N-アシルアルキレンイミン）セグメントが結合してなり、オルガノポリシロキサンセグメントとポリ（N-アシルアルキレンイミン）セグメントとの質量比が98／2〜40／60、重量平均分子量が１万〜50万であるオルガノポリシロキサン0.1〜７質量％
(B)：アクリロイルジメチルタウリン塩とアクリル酸ヒドロキシエチルとの共重合体0.01〜1.2質量％ （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）及び式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ａ¹⁴は、脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】吸水性ポリマー粒子の改良された製造方法の提供、特に方法の間に生じる水性ポリマーゲルの改良された乾燥を提供する
【解決手段】モノマー溶液を重合させ、得られたヒドロゲルを暖めたガス流を使用して乾燥することによる吸水性ポリマーの製造方法により解決され、前記方法は、乾燥を少なくとも２個の温度帯域中で実施し、該温度帯域のガス導入温度は、Ｔ_ｎがＴ_ｎ＋ａに等しくない条件を満たし、指数ｎおよびａはそれぞれ０より大きい整数であり、および／またはガス流をヒドロゲルに対してベルト乾燥機の前方部分で下からおよび該乾燥機の後方部分で上から流し、ヒドロゲルの含水量１５〜４５質量％で流れの逆転を行う、および／またはヒドロゲル層に対して該乾燥機中で少なくとも部分的に下から流し、ガス速度が、ベルトからヒドロゲルが離れるために必要なガス速度の５〜３０％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）で、欠陥の発生数も少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、式（ＩＩ）で表される化合物に由来する構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ａ²¹は２価の連結基；環Ｘ²¹は複素環；Ｒ²²は、ハロゲン原子、水酸基、炭化水素基、アルコキシ基等；ｍは、０〜１０の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】微細凹凸構造を表面に有する表層と中間層との界面および中間層と基材との界面における密着性に優れる積層体を提供する。
【解決手段】基材２と、複数の凸部３からなる微細凹凸構造を表面に有する表層４と、基材２と表層４との間に設けられた中間層５とを有し、中間層５が、（ポリ）アルキレングリコール鎖中にオキシプロピレン基を少なくとも１つ有する（ポリ）アルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート（Ａ）の４０〜９５質量％とＮ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド（Ｂ）の５〜６０質量％とを含む中間層形成用組成物を硬化させてなる層である積層体１。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン形成時の露光マージン（ＥＬ）に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）及び式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ａ¹⁴は、脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクター（ＭＥＦ）のレジストパターンを製造し得るレジスト組成物及び該レジスト組成物に用いられる新規な樹脂を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位（ａａ）と、式（ａｂ）で表される構造単位（ａｂ）とを有する樹脂及びこの樹脂及び酸発生剤を含むレジスト組成物。


［Ｒ^aa１及びＲ^ab1は、水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、水素原子又はフッ化アルキル基；Ｒ^aa３は、フッ化アルキル基；Ｒ^aa４は、酸安定基；Ａ^aa１は、炭化水素基；Ａ^ab1は、アルカンジイル基；Ｒ^ab2は、脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）がより良好なレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】酸分解性基を有する樹脂（Ａ）と、式（Ｂ４）


［式（Ｂ４）中、Ａ^＋は、酸分解性基及び窒素原子を有さない有機カチオンを表す。Ｑ^１及びＱ^２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^ｂ１は、窒素原子を有さない２価の連結基を表す。Ｘ^ｂ１は、窒素原子を有さない酸分解性基を表す。］で表される塩（Ｂ４）と、式（Ｅ２）


［式（Ｅ２）中、Ａ_ａ^＋は、窒素原子を有さない有機カチオンを表す。Ｘ_Ｎ⁻は窒素原子を有する有機スルホン酸アニオンを表す。］で表される塩（Ｅ２）と、を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、相互侵入高分子ネットワーク（ＩＰＮ）およびそれに関係する方法および組成物を提供する。
【解決手段】本発明のヒドロゲル素材は、２つ以上の高分子ネットワークの相互侵入ネットワークを含み、その高分子ネットワークの少なくとも１つが、バイオポリマーをベースとする。第１高分子ネットワークと第２高分子ネットワークとを結合することを含む、ヒドロゲル素材を製造する方法であって、第１高分子ネットワークまたは第２高分子ネットワークがバイオポリマーをベースとする、方法も提供される。本出願は、ＩＰＮヒドロゲル素材から製造されるデバイスおよびその使用もまた開示する。 （もっと読む）

【課題】欠陥の発生数が少なく、優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位を有する樹脂、酸発生剤及び環状ケトン溶剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^aa1は、水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基；Ａ^aa1は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルカンジイル基又は式（ａ−１）で表される基を表す。］ （もっと読む）

【課題】透明性および分散性に優れた顔料組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）顔料と、（Ｂ）一般式（ｂ−１）で表される構造単位と一般式（ｂ−２）で表される構造単位とを含む共重合体と、（Ｃ）溶剤とを含む顔料組成物。




[式中、Ｒ1は、水素原子またはメチル基を表す。Ｌは、−アルキレン基−Ｏ−で表される基である。Ｗは、アルキレン基であり、ｎは１〜１２の整数である。] （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）で、欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）、酸発生剤及び式（ＩＡ）で表されるアニオンを有する塩を含有するレジスト組成物。
（もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）で、欠陥数の少ないレジストパターンの製造。
【解決手段】式（ａａ）、（ａｂ）の構造単位を有する樹脂（Ｘ）、酸発生剤（Ｂ）を含有する組成物。


［式中、Ａ^aa1は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等で表される基；Ｒ^aa2は、脂肪族炭化水素基；Ｒ^ab2は芳香族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】パターン倒れ及び欠陥が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。


アルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。］ （もっと読む）