【課題】接着性に優れており、また、熱伝導性及び塗布作業性も良好に維持された樹脂ペースト組成物と、この樹脂ペースト組成物を用いた半導体装置とを提供する。
【解決手段】（Ａ１）１分子中に、２個のアクリロイルオキシ基と、炭素数５〜２０の脂環式構造又は炭素数４〜２０の脂肪族構造とを有するアクリロイルオキシ基含有化合物、（Ａ２）特定の一般式で表される化合物、（Ｂ）重合開始剤、及び（Ｃ）充填材を含有する樹脂ペースト組成物。支持部材、前記支持部材の表面に設置された半導体素子、前記支持部材の表面と前記半導体素子との間に介在して前記支持部材と前記半導体素子とを固定する前記の樹脂ペースト組成物の硬化物、及び前記支持部材の一部と前記半導体素子とを封止する封止材、を有する半導体装置。 （もっと読む）

【課題】孔径について現像時間依存性を低く抑えながら、真円性に優れる微細な孔径（例えば、６０ｎｍ以下）のホールパターンを形成可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ｐ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）を有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）窒素原子を有し、かつ活性光線又は放射線の照射により変化しない塩基性化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の全固形分に対する前記化合物（Ｃ）の含有量が１．０質量％以上であり、かつ前記化合物（Ｃ）の前記化合物（Ｂ）に対するモル比率［Ｃ］／［Ｂ］が０．４０以上である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】触媒組成物の存在下、比較的高い重合温度で１つまたはそれ以上の付加重合性モノマーを重合して、高分子量タクチックポリマーを形成する、特に、アイソタクチックまたは高アイソタクチックであり、低減された分子量を有するポリマーを形成するプロセスを提供する。
【解決手段】多価ヘテロアリールドナー配位子を含む４族金属錯体、ならびに高いアイソタクチシティおよび低い分子量を有するプロピレン／エチレンコポリマー製品の調製に特に適する、オレフィン重合触媒の成分としてのそれらの使用。 （もっと読む）

【課題】
パターン形成後にラフネスが発生したり、パターン自体をうまく描けないなどの欠陥を防止するために、樹脂中に光酸発生機能を組み込んだレジスト樹脂であって、「酸の作用によって現像液への溶解性が変化する部位」と「光酸発生機能を有する部位」が規則正しく配置されたレジスト樹脂を提供する。
【解決手段】
下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有する含フッ素スルホン酸塩樹脂。
【化１】


（式中、Ａはそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基を表す。ｎは１〜１０の整数を表す。Ｗは２価の連結基を表す。Ｒ^１は酸不安定基を表す。M⁺は、１価のカチオンを表す。） （もっと読む）

【課題】吸水性層と非吸水性層との積層構造を有し、該吸水性層と該非吸水性層との密着性が非常に優れたポリマー部材を、簡便に製造する方法を提供する。また、吸水性層と非吸水性層との密着性が非常に優れたポリマー部材を提供する。
【解決手段】本発明のポリマー部材の製造方法は、吸水性層（Ａ）と非吸水性層（Ｂ）との積層構造を有するポリマー部材を製造する方法であって、該吸水性層（Ａ）は吸水性物質（ａ）を含み、該非吸水性層（Ｂ）は重合性組成物（ｂ）から形成され、該重合性組成物（ｂ）は該吸水性物質（ａ）が吸収可能な重合性モノマー（ｍ）を含み、該重合性組成物（ｂ）を該吸水性層（Ａ）に塗布する工程（Ｉ）、該重合性モノマー（ｍ）を重合する工程（ＩＩ）、該吸水性物質（ａ）が吸水する工程（ＩＩＩ）、を含む。 （もっと読む）

【課題】着色パターンの表面にムラが出る表面欠陥が生じず、生産性に優れた、感光性着色樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるチオール化合物（Ａ）、一般式（２ａ）で表されるエポキシ化合物（ａ）と、α，β−不飽和カルボン酸（ｂ）との反応物と、多塩基酸及び／又はその無水物（ｃ）とを反応させて得られるアルカリ可溶性樹脂（Ｂ_１）及び／又はアルカリ可溶性樹脂（Ｂ_２）を含むアルカリ可溶性樹脂（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、色材（Ｄ）、及び光重合性モノマー（Ｅ）を含有する感光性着色樹脂組成物。
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【解決手段】置換又は非置換のメチロール基と結合する窒素原子を含むウレア結合、アミド結合、又はウレタン結合を有する化合物と、ヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位を有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得ることを特徴とするパターン形成方法。
【効果】本発明に係るレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高い特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】成形時の流動性に優れ、しかも、曲げ弾性率、耐衝撃性、硬度、光沢および脆化温度等の物性バランスに優れる成形品が得られるポリオレフィン樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】ポリオレフィン樹脂組成物は、プロピレン系重合体（ＰＰ−Ｃ）と、特定のメタロセン触媒も用いて得られるエラストマー（ＥＬ−１）または（ＥＬ−２）からなるエラストマーとを含んでなり、プロピレン系重合体（ＰＰ-Ｃ）とエラストマーとの重量割合が（ＰＰ-Ｃ）１００重量部に対して、エラストマーが１０重量部以上である。 （もっと読む）

【課題】酸素遮断性が高いコーティングを提供することができる新規なコーティング組成物、該組成物を用いた、現像性と現像して得られる画像の強度に優れる画像形成材料及び平版印刷版原版、並びに優れた酸素遮断性フィルムを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される構造単位を有するポリマーを含むことを特徴とするコーティング組成物。該組成物を含む保護層を有する画像形成材料及び平版印刷版原版。該組成物を含む酸素遮断層を有するフィルム。
【化１】


式中、Ｍ^ｎ＋はｎ価の正電荷を有するカチオンを表し、ｎは１〜４の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】閾値電圧の絶対値及びヒステリシスが小さい有機薄膜トランジスタを製造しうる有機薄膜トランジスタ絶縁層材料を提供すること。
【解決手段】分子内に、ベンジルチオカルバメート基（−Ｐｈ−ＣＨ_２−ＳＣＳＮＲ_２）を含有する高分子化合物（Ａ）と、分子内に２個以上の不飽和二重結合を含有する不飽和二重結合化合物（Ｂ）とを含む有機薄膜トランジスタ絶縁層材料。 （もっと読む）

【課題】密着性が良好で、かつ基材表面に、耐水性、防曇性、防汚性、耐候性に優れる親水性表面を付与した組成傾斜構造を有する親水性部材を提供する。
【解決手段】基材２上に設けられ、下記親水性材料１）及び活性エネルギー線硬化型オリゴマー又はポリマー２）’を含む膜とを有する親水性部材１であって、該膜が膜の厚み方向において前記基材２に最も近い側から最も遠い側に向かって１）の比率が大きくなり、かつ、２）’の比率が小さくなるように、１）及び２）’の組成が連続的に変化する組成傾斜膜３である、親水性部材１。但し、活性エネルギー線硬化型オリゴマー又はポリマー２）’は下記１）の親水性材料とは異なる。１）加水分解性シリル基含有親水性ポリマーを含有し、かつ前記ポリマーが主鎖末端又は側鎖に、加水分解性シリル基を分子中に少なくとも１個有し、親水性基を分子中に少なくとも１個有する親水性材料。 （もっと読む）

【課題】直線性に優れるパターンを形成することができる硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂及び重合性化合物を含み、樹脂が、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種に由来する構造単位と、炭素数２〜４の環状エーテル構造及びエチレン性不飽和結合を有する単量体に由来する構造単位と、式（ｘ）


［式（ｘ）中、Ｒ^ａ１は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｒ^ａ２は、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基を表す。］
で表される単量体に由来する構造単位とを有する共重合体を含む樹脂であり、式（ｘ）で表される単量体に由来する構造単位の含有量が、該共重合体を構成する構造単位全量に対して、０．１モル％以上１０モル％以下である硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、感度を十分に満足し、かつＥＬ、ＤＯＦ、ＣＤＵ及びＭＥＥＦに優れる感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、有機溶媒が８０質量％以上の現像液を用いるレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物であって、上記感放射線性樹脂組成物が、［Ａ］酸解離性基を有する重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有し、かつ上記有機溶媒で現像した場合のレジスト感度曲線から算出されるコントラスト値γが、５．０以上３０．０以下であることを特徴とするレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物である。上記有機溶媒は、炭素数３〜７のカルボン酸アルキルエステル及び炭素数３〜１０のジアルキルケトンからなる群より選択される少なくとも１種の有機溶媒であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 得られる硬化物が帯電防止性、硬化物の透明性および高温高湿試験後の透明性に優れる活性エネルギー線硬化型帯電防止性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 （メタ）アクリロイル基を含有する３級アミン塩（Ａ１）と、（メタ）アクリロイル基を含有しない酸性化合物（ａ０）と（メタ）アクリロイル基を含有しないアミン（ｂ２）から構成されるアミン塩（Ａ２）、アミン塩骨格を含有せず（メタ）アクリロイル基を含有する化合物（Ｂ）、並びに光重合開始剤（Ｃ）を必須成分として含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型帯電防止性樹脂組成物を使用する。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト上塗り組成物および、前記上塗り組成物でコーティングされた基体、並びにネガティブトーン現像プロセスによって電子デバイスを形成する方法の提供。
【解決手段】以下の一般式（Ｉ）のモノマーを重合単位として含むポリマー、有機溶媒および塩基性クエンチャーを含む上塗り組成物。
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【課題】機械的強度が高く、かつ、電気特性に優れた硬化膜が得られる新規な化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で示される化合物。一般式（Ｉ）中、Ｆは電荷輸送性骨格を示し、Ｌは−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｏ−基を含む２価の連結基を示し、ｍは１以上８以下の整数を示し、ｎは３以上６以下の整数を示す。


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【課題】射出成形により微細構造パターンが表面に転写された成形品であって、微細凹凸の転写性に優れ、また寸法精度に優れた精密成形体を提供する。
【解決手段】下記（ｉ）〜（ｉｖ）を満たすプロピレン系樹脂を溶融して押出し、押出された樹脂を、表面に微細凹凸構造パターンを有する連続冷却装置を用いて固化させることにより微細凹凸構造パターンが表面に転写された成形体であって、前記微細凹凸構造パターンは、幅が０．０１〜１００μｍの範囲にあり、高さ又は深さが０．１〜５００μｍの範囲にある凸部及び／又は凹部から構成されていることを特徴とするプロピレン系樹脂成形体。
（ｉ）プロピレンと０．８〜１０重量％のエチレンとの共重合体である。
（ｉｉ）示差走査熱量測定（ＤＳＣ）による結晶化開始温度が１１１℃以下。
（ｉｉｉ）ＭＦＲが０．１〜３０ｇ／１０分。
（ｉｖ）曲げ弾性率が１１００ＭＰａ以下。 （もっと読む）

【課題】
重合時無機塩を存在させる重合法は、油中水型エマルジョン重合法や塩水溶液中分散重合法などあるが、生成した重合物を溶解した場合、溶解液粘性が低下し、分散性が良好である。水溶性高分子の粉末化において、塩水溶液中分散重合物は、乾燥後塩含有量が高く、油中水型エマルジョン重合法はコストが高い。本発明の課題は、溶解液粘性が低下する粉末型水溶性高分子を製造する方法において、粉末中の塩含有量が少なく、しかも低コストで製造可能な方法を提供する。
【解決手段】
特定のイオン性水溶性単量体、（メタ）アクリルアミドおよび水溶性無機塩からなる単量体濃度が２０〜８０質量％の範囲にある水溶液を、重合した重合物あるいは共重合物を乾燥した後、粉砕し細粒化することによって塩含有量の少ない粉末状イオン性水溶性高分子を提供できる。
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【課題】繰り返してパターン形成しても、パターン形成性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】重合性化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）および非重合性化合物（Ｃ）を含有するインプリント用硬化性組成物であって、該インプリント用硬化性組成物に対する前記非重合性化合物（Ｃ）の溶解が発熱的であることを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】引裂強度と衝撃強度に優れ、かつ適度な滑り性を有する多層フィルムを提供する。
【解決手段】要件（ｂ１）と（ｂ２）と（ｂ３）を充足するエチレン−α−オレフィン共重合体（Ｂ）５０〜１００重量％、
および酢酸ビニルに基づく単量体単位の含有量が３〜４０重量％であり、ＭＦＲが０．１〜７ｇ／１０分であるエチレン−酢酸ビニル共重合体（Ｃ）０〜５０重量％
を含有する芯層と、
要件（ａ１）と（ａ２）と（ａ３）の充足するエチレン系樹脂（Ａ）を含有する二つの表面層とを有するチューブ状エチレン系樹脂多層フィルム。
（ａ１）：Ｎ_C5が炭素原子１０００個あたり０．１未満
（ａ２）：Ｅａが４０ｋＪ／ｍｏｌ以上
（ａ３）：密度が９００〜９２５ｋｇ／ｍ^３
（ｂ１）：Ｅａが４０ｋＪ／ｍｏｌ未満
（ｂ２）：ＭＦＲが０．１〜２ｇ／１０分
（ｂ３）：密度が９００〜９２５ｋｇ／ｍ^３ （もっと読む）