【課題】回折格子を用いて計測する際に、干渉用の光学系をコンパクトに配置可能として、かつ格子パターン面の高さ変化に対する干渉光強度の低下を抑制する。
【解決手段】エンコーダ１０Ｘは、第１部材６に設けられたＸ軸の回折格子１２Ｘと、計測光ＭＸ１，ＭＸ２を回折格子１２Ｘの格子パターン面１２Ｘｂにほぼ垂直に入射させるレーザ光源１６と、第２部材７に設けられて、回折格子１２Ｘから計測光ＭＸ１によって発生する回折光ＤＸ１を回折格子１２Ｘに再度入射させる直角プリズム２６Ａと、回折光ＤＸ１によって発生する回折光ＤＸ２と他の回折光ＥＸ２との干渉光を検出する光電センサ４０Ｘと、を備える。 （もっと読む）

【課題】光学系の高さを低くするとともに、回折格子からの０次光の影響を低減して計測精度を向上する。
【解決手段】Ｘ軸のエンコーダ１０Ｘは、第１部材６に設けられ、Ｘ方向を周期方向とする回折格子１２Ｘと、可干渉性のある計測光ＭＸ１及び参照光ＲＸ１を供給するレーザ光源１６と、第２部材７に設けられ、計測光ＭＸ１を回折格子１２Ｘに向けてリトロー角から所定角度ずれた角度で反射する傾斜ミラー３２ＸＡと、回折格子１２Ｘからの回折光と参照光ＲＸ１との干渉光を検出する光電センサ４０ＸＡと、光電センサ４０ＸＡの検出信号を用いて第１部材６に対する第２部材７のＸ方向の相対移動量を求める計測演算部４２Ｘと、を備える。 （もっと読む）

【課題】塗布膜に乾燥ムラを生じさせずに基板を加熱しながら搬送することができる浮上搬送加熱装置を提供する。
【解決手段】基板を超音波振動浮上させる振動板部２と、前記振動板部を加熱するヒータ部３と、前記振動板部に超音波振動を与える超音波発生部４と、基板の端部を支持して基板の浮上方向と垂直な方向に基板を搬送する搬送部５と、を備える浮上搬送加熱装置であって、ヒータ部３は、振動板部２の基板を浮上させる面の裏面側に振動板部２と所定間隔を設けて配置され、基板の搬送方向と直交する方向の振動板部２の寸法は同方向の基板Ｗの寸法よりも大きく、ヒータ部３により振動板部２が加熱されることにより、浮上搬送中の基板Ｗ全面が振動板部２によって加熱される。 （もっと読む）

【課題】基板ステージ上の基板の交換を迅速に行う。
【解決手段】 基板ステージ２０ａは、基板ホルダ３０ａから加圧気体を噴出して基板Ｐ_１を浮上させ、基板ホルダ３０ａに内蔵された基板搬出装置７０ａを用いて、基板ホルダ３０ａの上面（基板載置面）をガイド面として基板Ｐ_１を水平面に沿って移動させることにより基板ホルダ３０ａから搬出する。このため、基板Ｐ_１に対する露光処理が終了した後、基板交換のために基板ステージ２０ａを基板交換位置に位置させる前に基板Ｐ_１の搬出動作を開始することができる。次に露光予定の別の基板Ｐ_２は、基板Ｐ_１の搬出動作が行われる際、基板ホルダ３０ａの上方に待機しており、基板Ｐ_１の搬出動作完了後に基板ステージ２０ａが有する数の基板リフト装置４６ａに受け渡される。 （もっと読む）

【課題】基板ステージ上の基板の交換を迅速に行う。
【解決手段】基板ステージ２０ａは、基板ホルダ３０ａから加圧気体を噴出して基板Ｐ_１を浮上させ、基板搬出装置９３は、基板ホルダ３０ａの上面（基板載置面）をガイド面として基板Ｐ_１を水平面に沿って移動させることにより基板ホルダ３０ａから搬出する。次に露光予定の別の基板Ｐ_２は、基板Ｐ_１の搬出動作が行われる際、基板ホルダ３０ａの上方に待機しており、基板Ｐ_１の搬出動作完了後に基板ステージ２０ａが有する数の基板リフト装置４６ａに受け渡される。 （もっと読む）

【課題】塗布膜に形成されるムラの発生を抑えるとともに、タクトタイムを短縮できる塗布装置および塗布方法を提供する。
【解決手段】基板１０上に吐出装置３aから塗布液を吐出し、塗布後に塗布基板を乾燥装置５に浮上搬送機構６により搬送する塗布装置１であって、前記浮上搬送機構は振動浮上機構４２を有し、搬送工程において基板上に塗布された塗布膜を前記振動浮上搬送機構により基板に生じる振動により引き起こされるレベリング効果より塗布膜に生じる塗布ムラを解消する。 （もっと読む）

【課題】搬送後の物体が空中に浮揚した状態となるように物体を搬送することが可能な搬送装置及びこの搬送装置を備えた浮揚システムを提供する。
【解決手段】物体Ｗを保持部３３にて保持して浮揚装置１０の上方の空中に搬送する搬送部３０と、搬送部３０に取り付けられ、物体Ｗが浮揚装置１０から受けている浮揚力を検知する浮揚検知部７０と、浮揚検知部７０の検知信号に基づいて、物体Ｗが、物体Ｗを浮揚させることのできる浮揚力を受けていると判定した場合、保持部３３を物体Ｗから離して浮揚状態とする制御部６０とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】移動体の位置を高精度に制御しつつ、物体上の複数のマークの検出時間を短縮する。
【解決手段】 露光装置は、ウエハＷを保持してＸＹ平面内で移動するとともに、上面にＹ軸方向を周期方向とする格子を有する一対のＹスケール３９Ｙ_１、３９Ｙ_２が設けられたウエハステージＷＳＴと、Ｘ軸方向に関して検出領域の位置が異なる複数のアライメント系ＡＬ１、ＡＬ２_１〜ＡＬ２_４と、Ｘ軸方向に関して前記複数の検出領域の両外側に１つずつ配置される一対のＹヘッド６４ｙ_１、６４ｙ_２を含む複数のＹヘッド６４を有し、一対のＹスケールの少なくとも一方と対向するＹヘッドによって、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の位置情報を計測するＹエンコーダと、を備えている。このため、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の移動の際に、ウエハ上の複数のマークを複数のアライメント系で同時に計測可能になる。 （もっと読む）

【課題】基板を浮上搬送する際に、基板との接触を回避して搬送することができる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】浮上プレート２上に浮上した基板Ｇの下面の一部と面接触可能な表面を有する接触部材４と、搬送部３による基板Ｇの搬送方向に沿って延び、接触部材４が有する表面を浮上プレート２の上面よりも高い位置であって浮上プレート２上に浮上した基板Ｇの下面と接触する位置に配置し、基板Ｇと接触部材４とを接触させながら接触部材４の移動を案内する案内部５とを備える。 （もっと読む）

【課題】搬送領域Ｔの搬送幅方向の中央側で基板Ｗの浮上搬送に付随する作業を行う場合に、その作業を簡略化して、作業時間を大幅に短縮すること。
【解決手段】支持台５に複数の浮上ユニット４３が搬送方向及び搬送幅方向に沿って配設され、各浮上ユニット４３の内部が供給ファン３９に接続され、各浮上ユニット４３の上面に圧縮空気を噴出するノズル５７が形成され、複数の浮上ユニット４３は、樹脂の射出成形により製作された複数の専用浮上ユニット４３Ａと、足場を兼用できるように専用浮上ユニット４３Ａよりも高剛性に構成された複数の足場兼用浮上ユニット４３Ｂが混在するようになっていること。 （もっと読む）

【課題】露光装置の一部を構成する移動体モジュールの移動を効率化する。
【解決手段】ステージモジュールＷＳＭには、ステージモジュールＷＳＭを浮上させるエアホバー２９と、Ｙ軸周りに回転可能かつ接地可能な駆動輪１６０とが設けられている。エアホバー２９により浮上させた状態のまま、ステージモジュールＷＳＭを、駆動輪１６０を床面上で回転駆動することで、Ｘ軸に平行な方向に移動させる。このため、ステージモジュールＷＳＭのθｚ方向及びＹ軸に平行な方向への動きを規制してＸ軸に平行な方向に安定して露光装置本体１１０から引き出す（移動させる）ことが可能になる。 （もっと読む）

【課題】位置計測系の周期誤差が発生しても、精度良く周期パターンの位置を検出する。
【解決手段】可動ステージの位置を位置計測系を用いて計測し、その計測情報を用いて可動ステージを駆動するとともに、可動ステージ外の周期パターンから成る計測用マークを可動ステージに一部が配置された検出器を用いて検出する。ここで、位置計測系の計測周期（図１０（Ｂ）及び１０（Ｃ）に示される例では０．２５μｍ）の自然数倍と異なるピッチ（図１０（Ｃ）の例では２．０３１２５μｍ（なお、図１０（Ｂ）の例では２μｍ））の周期パターンを計測用マークとして用いることにより、計測周期に等しい位置計測系の周期誤差が発生しても、検出精度を損なうことなく、計測用マークの位置情報を計測することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】振動ミラーを用いて被検面の面位置を検出する際に、計測値のドリフトを小さくして、計測精度を向上させる。
【解決手段】被検面の面位置情報を検出するＡＦ系９０において、検出光ＤＬを被検面に斜めに投射する投射系９０ａと、その被検面で反射される検出光を受光する受光系９０ｂと、投射系９０ａ内で検出光ＤＬを反射する反射面が形成された可動部と、その可動部を支持する１対の支持部とを有する振動ミラー３８と、振動ミラー３８の支持部が固定される保持部材４８と、振動ミラー３８の可動部を振動させる駆動部４９と、受光系９０ｂで得られる検出信号をその可動部の振動に同期して処理する信号処理系２５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】内部応力を有する膜を基板の裏面にのみ形成することにより、基板の反り量を抑制し、その際に基板の表面にダメージを与えず、裏面に対する成膜と表面に対するパターン形成とを一貫して行う半導体製造装置を得られるようにする。
【解決手段】基板に薬液を塗布する薬液塗布部１０２と、基板を加熱する加熱処理部１０４と、基板の表面にレジストを塗布するレジスト塗布部１０７と、そのレジストに所定のパターンを露光する露光部１０５と、そのレジストを現像することにより所定のパターンを得る現像部１０８とを備えている。薬液塗布部１０２は、基板を浮遊した状態で、基板を回転させながら基板の裏面にのみ薬液を塗布する薬液塗布手段を有し、加熱処理部１０４は、基板に熱処理を行うことにより、内部応力を有する応力印加膜を成膜する熱処理手段を有し、裏面に応力印加膜の成膜を行うことと、表面に所定のパターンを形成する処理とを一貫して行う。 （もっと読む）

【課題】焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どない基板上へのパターンの転写を実現することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、互いに独立して移動可能な第１、第２テーブルと、投影光学系の直下に液体を供給して液浸領域を形成する液浸システムと、投影光学系と第１、第２テーブルの一方との間に液浸領域が維持される第１状態から、投影光学系と第１、第２テーブルの他方との間に液浸領域が維持される第２状態に遷移するように、投影光学系の直下に液浸領域を維持しつつ、投影光学系の下方で第１、第２テーブルを共に移動する駆動システムと、を備え、第１テーブルは、基板の載置領域及びその周囲領域を有し、周囲領域と基板との隙間からの液体の流出を抑制するように周囲領域に近接させて基板を載置領域に載置し、基板は、第１テーブルによって液浸領域に対して相対的に移動される。 （もっと読む）

【課題】生産性の低下や露光処理等への悪影響を抑制する。
【解決手段】一対の接続部材ＡＭ１１、ＡＭ１２を所定の軸周りに回転自在に接続する関節部ＪＴ１２を有する。関節部は、一対の接続部材を非接触で、所定の軸周り方向に相対的に回転自在、且つ所定の軸と直交する方向への相対移動を拘束するベアリング装置ＢＲ１２を有する。 （もっと読む）

【課題】剛性を維持しつつ軽量化を図ること。
【解決手段】基板を保持して移動するステージ部と、当該ステージ部を駆動する駆動機構とを備え、ステージ部及び駆動機構のうち少なくとも一部に、炭化ホウ素、炭化ホウ素並びに炭化ケイ素の混合物、及び、炭化ケイ素並びに炭素の混合物、のうち少なくとも１つの材料が用いられる。 （もっと読む）

【課題】２個の対象物の水平方向相対位置を高精度に調整することのできるステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置２は、第１対象物を固定する筐体１０と、筐体１０に支持されているベースプレート５０と、ベースプレート５０の上面に水平面内で移動可能に配置されている可動フレーム４０と、可動フレーム４０を水平面内で位置決めするアクチュエータ２０を備えている。このステージ装置２は、筐体１０に、ベースプレート５０の下面の少なくとも３点を点接触にて支持する支持部１２と、ベースプレート５０の側面に当接する水平位置基準部１５が設けられている。さらに、ベースプレート５０の側面を水平位置基準部１５に押し当てる弾性部材１６が筐体に取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】発塵を抑制したステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置２は、平らな上面を有するベースプレート５０と、非接触軸受によってベースプレート上面の上に浮上する可動フレーム４０と、アクチュエータ２０を備えている。アクチュエータ２０は、その先端が可動フレーム４０の側面に当接しており、可動フレーム４０を水平面内で位置決めする。アクチュエータ２０の先端と可動フレーム４０の側面が、回転自在な球部材２３を介して当接している。球部材２３の回転が可動フレーム４０を移動させる際の摺動を抑制するので摺動に起因する発塵が抑制される。 （もっと読む）

【課題】収縮したシート材に対しても、高精度な露光を可能にする。
【解決手段】制御装置により、シートＳを仮保持したまま６つの補助シートホルダＳＨ_２，ＳＨ_３が−Ｚ方向に微小駆動され、それらの保持面がシートホルダＳＨ_１の保持面より僅かに下方（−Ｚ側）に位置決めされ、これにより、シートＳに幅方向（Ｙ軸方向）及び長尺方向に関する適当なテンションが加えられ、シートＳの中央部がシートホルダＳＨ_１の保持面上に固定される。すなわち、シートＳの区画領域ＳＡ_ｉにＸＹ二次元方向のテンションが付与された状態で、シートＳの区画領域ＳＡ_ｉに対応する裏面部分が、シートホルダＳＨ_１の平坦状の保持面に倣わされる。そして、所定領域に長尺方向、幅方向に関するテンションが付与された状態で、シートＳの所定領域に対応する裏面部分を平坦状の基準面に倣わせて平坦化する。そして、シートの所定領域にエネルギビームを照射してパターンを形成する。 （もっと読む）