【課題】固体色素レーザーの出力効率をあげ、出力を増加させることができる固体色素レーザーチップを提供する。
【解決手段】基板１上に活性層３および分布帰還層４を順次積層した固体色素レーザーチップにおいて、活性層３がナノスケール微粒子２と色素分子を分散させ活性層である固体色素レーザーチップ。 （もっと読む）

【課題】 エアホール型クラッドを有した光ファイバに関し、線引き工程にてエアホールが閉塞したり、あるいはエアホールが破裂するのを防止でき、かつ、十分な強度が得られる。
【解決手段】 ガラス製のコア１１と、該コア１１の外周を覆ったガラス製のクラッド１２，１３と、該クラッド１３の外周を覆ったガラス製のサポート層１４とを備え、サポート層１４の軟化温度が、コア１１ならびにクラッド１２，１３の軟化温度より低いことを特徴とする。サポート層１４は、フッ素を含有する石英ガラスにて構成する。 （もっと読む）

数サイクルレーザーパルスの振幅エンベロープに対する搬送波の位置を安定化するため安定化した周波数ラインのコーム及び／または超短波レーザーパルスの列を生成する方法及び装置。１つの同じ非線形結晶（４）中の差周波数生成及び自己位相変調によって生成されたスペクトル成分間の干渉によって、キャリアエンベロープオフセット（ＣＥＯ）位相を検出し安定化することが可能になる。記載した技術は安定化の精度を劇的に改善し、挿入損失は非常に小さい。 （もっと読む）

高エネルギー粒子パルスの発生装置が提供される。この装置は、１０¹⁸Ｗ／ｃｍ²より大きく、好ましくは１０²⁰Ｗ／ｃｍ²（ワット／平方センチメートル）より大きなピーク強度に集束されることができる、パルス幅が１００ｆｓ（フェムト秒）より短いレーザーパルスを発生させるレーザーシステムと、前記少なくとも１パルスのレーザーパルスに付随する時間的強度プロファイルを、レーザーコントラストが１０⁵以上、好ましくは１０⁷以上、特に１０¹⁰に高まるように整形する装置と、少なくとも１パルスの前記レーザーパルスが照射されると、高エネルギー粒子パルス、特に電子または陽子パルス、を放出することができるターゲットとを備える。この装置を用いた対応する方法も記載される。
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光信号のブロードバンド増幅のためのファイバ増幅器の用途に適したゲルマニウム酸塩ガラス組成物を提供する。ガラスは、好ましくは、３５−７５％のＧｅＯ_２、０−４５％のＰｂＯ、５−２０％のＢａＯ、５−２０％のＺｎＯ及び２−１０％のＲ_２Ｏ（Ｒ＝Ｎａ、Ｌｉ、Ｋ）含む。ツリウムイオン(Ｔｍ^３＋)がドープされ、ホルミウムイオン（Ｈｏ^３＋）が共ドープされている。本発明のガラス組成物は以前のガラスに比べてはるかに大きな帯域幅を与える。また、既存のシリカ光ファイバとの相性も非常に優れている。 （もっと読む）

【課題】広い区域にわたって高繰返し率のレーザ光を用いる表面及び／又は基板の処理を伴う製造工程で使用される高電力及び高安定性ガス放電レーザを提供する。
【解決手段】被加工物の基板内の結晶構成又は配向の変換を実行するためのガス放電レーザ結晶化装置及び方法。それは、細長いガス放電領域を形成するチャンバ内に収容された１対の細長い離間した対向電極を各々が有する第１及び第２のガス放電チャンバ、及び被加工物上で実行される結晶化処理に対して最適化された中心波長でレーザ光を生成するように選択されたハロゲン及び希ガスを含むチャンバ内に収容されたレーザガスを含む第１のレーザユニットと、ＤＣ電源、及び直列に接続した複数の一次巻線と複数の一次巻線の各々を通る単一の二次巻線とを有する多段分割ステップアップ変圧器と半導体トリガスイッチとを含むＤＣ電源に接続されかつそれぞれの電極に接続した第１及び第２のパルス圧縮及び電圧ステップアップ回路を含む電源モジュールと、単一出力レーザ光パルスビームを生成するためにＰＯＰＡ構成レーザシステム又はＰＯＰＯ構成レーザシステムのいずれかとして第１及び第２のレーザユニットの作動を達成するように、それぞれの第１及び第２のパルス圧縮及び電圧ステップアップ回路の作動パラメータに基づいてそれぞれの半導体スイッチの閉成を計時するように作動するレーザタイミング及び制御モジュールとを含むマルチチャンバレーザシステムを含むことができる。ＰＯＰＡとして、レーザシステムのリレー光学器械は、第１の出力レーザ光パルスビームを第１のレーザユニットから第２のガス放電チャンバ内に向けるように作動することができ、タイミング及び制御モジュールは、第１の出力レーザ光パルスビームが±３ｎｓ以内に第２の放電領域を通過している間に第２の対の電極間にガス放電を作り出すように作動し、ＰＯＰＯとして、結合光学器械は、出力ビームを結合し、タイミングは、結合出力内に予め選択された時間±３ｎｓのパルス分離を作り出す。ビーム送出ユニット及びパルス伸張器を含めることもでき、タイミング及び制御は、パルス圧縮及び電圧ステップアップ回路における充電電圧及び構成要素温度を表す信号に基づいてプロセッサ制御することができる。 （もっと読む）

好ましくは受動モード同期の短パルスレーザ装置（１１）であって，レーザ結晶（１４）と，ポンプビーム注入ミラー（Ｍ１)及びレーザビーム分離ミラーを形成するいくつかのミラー（Ｍ１〜Ｍ７，ＯＣ）とを含む共振器（１２）を備え，また共振器長を増加させる多重反射望遠鏡（１８）を備える。動作中，共振器（１２）は特定波長周波数範囲で正の平均分散を有する。共振器（１２）の正の平均分散は，共振器（１２）の少なくともいくつかは分散ミラーとして具現化されているミラー（Ｍ１〜Ｍ７，ＯＣ）によって調整される。
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垂直共振器型レーザアレイ装置（１００）が、基板（１１０）と頂部誘電体積層（１４０）と底部誘電体積層（１２０）とレーザを発光する活性領域（１３０）とを備える。活性領域（１３０）は、単一層または複数層の周期的配置の利得領域１６０と周期的配置の利得領域（１６０）の両側に設けられたスペーサ層（１７０）とを備える。活性領域（１３０）は、周期的配置の利得領域（１６０）が装置の定常波電磁界の腹と整合するように、配置される。断続的に配列された箇所（１５０）において周期的配置の利得領域（１６０）の特性を変調し、断続的に配列されたレーザピクセル（２００）のアレイを形成する構造が提供される。断続的配列のレーザピクセル（２００）が、ピクセル間領域（２１０）より高いネット利得を有し、同一または相異なるサイズを有し、前記ピクセル間の間隔が、同一または相異なる長さを有することにより、垂直共振型レーザアレイ装置（１００）の出力から単一モードまたはマルチモードのレーザが発光する。
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