基板受渡装置及び基板受渡方法
【課題】昇降ピン及び昇降ピンの昇降機構無しでローラコンベア上の基板を直交する方向から搬送アームのフォークを挿入して、搬送アームに受け渡す基板受渡装置（方法）を提供する。
【解決手段】基板Ｇを水平方向に搬送可能なローラコンベアＲＣ１と、基板を水平、鉛直方向及び鉛直軸回りに回転自在に移動可能なフォーク１０１を有する搬送アーム１１０と、を具備し、ローラコンベアは、駆動シャフト５５に適宜間隔を置いて駆動ローラ５６を装着した駆動ローラ列と、フリーローラシャフト５７に適宜間隔を置いてフリーローラ５９を回転自在に装着したフリーローラ列を並列に配列し、フリーローラ列を隣接する駆動ローラ列側へ移動して、駆動ローラ列とフリーローラ列の間に空間Ｉを形成するフリーローラ駆動用シリンダ６５を具備する。空間に搬送アームのフォークを搬送方向と直交する方向から挿入して、第１ローラコンベア上の基板を搬送アームに受け渡す。
【解決手段】基板Ｇを水平方向に搬送可能なローラコンベアＲＣ１と、基板を水平、鉛直方向及び鉛直軸回りに回転自在に移動可能なフォーク１０１を有する搬送アーム１１０と、を具備し、ローラコンベアは、駆動シャフト５５に適宜間隔を置いて駆動ローラ５６を装着した駆動ローラ列と、フリーローラシャフト５７に適宜間隔を置いてフリーローラ５９を回転自在に装着したフリーローラ列を並列に配列し、フリーローラ列を隣接する駆動ローラ列側へ移動して、駆動ローラ列とフリーローラ列の間に空間Ｉを形成するフリーローラ駆動用シリンダ６５を具備する。空間に搬送アームのフォークを搬送方向と直交する方向から挿入して、第１ローラコンベア上の基板を搬送アームに受け渡す。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板受渡装置及び基板受渡方法に関し、更に詳細には、例えばフラット・パネル・ディスプレー基板（ＦＰＤ基板）等の基板を、ローラコンベア上から搬送アームに受け渡す、或いは搬送アーム上の基板をローラコンベアに受け渡す基板受渡装置及び基板受渡方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のこの種の基板受渡装置として、図１に示す構造の基板受渡装置が知られている。図１はローラコンベア上の基板Ｇを搬送アームへ受け渡す基板受渡装置の代表的な概略断面図（ａ）、概略平面図（ｂ）である。
【０００３】
従来の基板受渡装置は、軸方向に適宜間隔をおいて駆動ローラ５６を有する駆動シャフト５５を並列して架台５０上に配置し、駆動ローラ５６及び駆動シャフト５５を図示しない駆動モータ及び伝達機構によって回動可能に形成するローラコンベアを具備している。また、この基板受渡装置には、先端に球状ローラ６２を有する複数の昇降ピン６３が隣接する駆動シャフト５５間に配設され、各昇降ピン６３は例えばエアーシリンダーもしくはモータとギアの組み合わせからなる昇降機構（図示せず）によって昇降可能に形成されている。更に、ローラコンベア上の基板Ｇの４隅を当接して位置決めを行うアライメント６０が図示しない昇降機構によって昇降ピン６３と同時に上昇可能に形成されている。
【０００４】
前記のように構成される基板受渡装置は、以下の手順によって搬送アームのフォーク１０１により処理ユニット（図示せず）に受け渡される。すなわち、搬送アームが搬送方向と直交する場合は、搬送経路の上流からローラ搬送されて来た基板Ｇは搬送アームのフォーク１０１により処理ユニットに受け渡される。
【０００５】
以下に図２を参照して、基板Ｇの受け渡し手順について説明する。まず、図２（ａ）に示すように、基板Ｇは搬送経路の上流より、駆動ローラ５６の回転によって搬送される。このとき、各駆動シャフト５５及び駆動ローラ５６は同一平面状に並列に配置されていて同期して回転する。基板Ｇの下流側端部を光センサＳが検出すると、光センサＳからの検出信号が図示しない制御手段に伝達され、制御手段からの制御信号に基づいて所定の時間経過後に駆動ローラ５６が停止して基板Ｇも停止する。
【０００６】
次に、図２（ｂ）に示すように昇降ピン６３が上昇して基板Ｇが持ち上げられる。このとき、アライメント６０も昇降ピン６３と同時に上昇して昇降ピン６３の上方に位置し、アライメント６０が基板Ｇの４隅を当接して位置決めを行う。
【０００７】
次に図２（ｃ）に示すように搬送アームの４本のフォーク１０１が昇降ピン６３に干渉しない空間を通過して基板Ｇの下側より所定の空間を空けて挿入された後に、基板Ｇを保持する。基板Ｇの保持は図２（ｃ）に示すように搬送アームが上昇するか、搬送アームは停止していて昇降ピン６３が下降する方法がある。
【０００８】
次に図２（ｄ）に示すように昇降ピン６３とアライメント６０が下降した後に、フォーク１０１がＸ軸方向に戻り、次の処理ユニットに受け渡される。
【０００９】
図１及び図２では基板Ｇの搬送方向と直交するＸ方向からの受け渡しで説明を行ったが、図１（ａ）に二点鎖線で示すように、搬送アームのフォーク１０１を搬送方向と直列である下流のＹ軸方向から挿入して受け渡しを行うようにしてもよい。この場合、搬送アームのフォーク１０２が昇降ピン６２と干渉しない方向から挿入されて、処理ユニットに受け渡される。
【００１０】
このようにローラコンベアと搬送アーム間の基板の受け渡しは昇降ピンを使用して行われている。
【００１１】
前記基板受渡装置の別の構造として、隣接する駆動シャフトの間に配設されるプッシャピンを、鉛直軸回りに回動及び鉛直方向に昇降させて、搬送ローラとの間で基板を受け渡す基板受渡装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【００１２】
特許文献１に記載の基板受渡装置は、隣接する駆動シャフトの間に配設されるプッシャピンは、搬送ローラの軸方向に関して搬送ローラよりも外方の位置に、鉛直方向に沿って立設された基部と、この基部の上端から直角に折れ曲がった水平アーム部と、この水平アーム部の先端において鉛直上方に向かって立ち上がり、その先端において基板の裏面を点接触で支持する基板支持部とを有している。また、前記基部が駆動機構によって鉛直軸回りに回動及び鉛直方向に昇降可能に形成されている。
【００１３】
また、別の基板受渡装置として、駆動シャフトと直角な方向の一直線上に並列して設けられた複数個の駆動ローラと、駆動ローラの下方にて、一直線上に設けられた伝動部とで構成されるローラコンベアモジュールが、その長手方向を基板搬送方向と平行にして基板搬送方向と直角方向に複数個が設けられ、ローラコンベアモジュールの駆動ローラ上の基板の下方、複数個のローラコンベアモジュールの間、基板搬送方向にて、ロボットハンドが進入することのできる空間を設けた構造のものが知られている（例えば、特許文献２参照）。
【００１４】
特許文献２に記載の基板受渡装置では、基板搬送方向と直列である下流の方向からの受け渡しを行うもので、ロボットハンドが前記ローラコンベアモジュールの間の空間に挿入されて、処理ユニットに受け渡される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】特開平１０−３１０２４０号公報
【特許文献２】特開２００９−１７６８５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
ところで、図１及び図２に示した従来の基板受渡装置や特許文献１に記載の基板受渡装置においては、受け渡しを行うためには昇降ピンと昇降ピンの昇降機構が必要である。また、昇降ピンの上昇下降による基板の受け渡しには相当の時間を必要としている。また、昇降機構は装置の不具合の発生源にもなり、保全の調整時間も必要となり、装置全体の稼働率に大きな影響を与える。特に基板が薄化及び大型化すると、昇降してアライメントをする場合に、基板が動きにくくなるので基板と直接に接触する部分は球状ローラを配置して基板を動き易くしている。しかし、球状ローラである理由により、少しでも平衡度がずれると、基板を昇降するときに基板が滑り落ちる可能性があるので、調整に相当の時間を要する。
【００１７】
そこで、特許文献２では、基板の搬送方向とロボットハンド（搬送アーム）が直列の場合には昇降ピンを必要としない基板受渡装置を提供している。しかしながら、特許文献２に記載の技術においては、基板搬送方向と直交する方向からの昇降ピンを必要としない基板受渡装置には言及されていない。特許文献２に記載のロボットハンド（搬送アーム）を基板の搬送方向と直交する方向から隣接する駆動シャフト間に挿入することも考えられるが、隣接する駆動シャフト間にロボットハンド（搬送アーム）の挿入可能な空間を設けるには、駆動シャフト間のピッチを大きくする必要があり、その分基板の搬送が不安定となる懸念がある。
【００１８】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、昇降ピン及び昇降ピンの昇降機構無しでローラコンベア上の基板を直交する方向から搬送アームのフォークを挿入して、搬送アームに受け渡す基板受渡装置及び基板受渡方法を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
前記課題を解決するために、本発明の基板受渡装置は、基板を水平方向に搬送可能なローラコンベアと、 基板を水平方向、鉛直方向及び鉛直軸回りに回転自在に移動可能なフォークを有する搬送アームと、を具備し、 前記ローラコンベアは、駆動ローラ列とフリーローラ列を並列に配列し、前記フリーローラ列を隣接する前記駆動ローラ列側へ移動して、駆動ローラ列とフリーローラ列の間に空間を形成するフリーローラ移動機構を具備してなり、 前記空間に前記搬送アームのフォークを搬送方向と直交する方向から挿入して、前記ローラコンベア上の基板を搬送アームに受け渡す、ことを特徴とする。
【００２０】
このように構成することにより、ローラコンベア上の基板を搬送アームに受け渡すときには、フリーローラ移動機構が駆動してフリーローラ列を隣接する駆動ローラ列側へ移動して、駆動ローラ列とフリーローラ列の間に空間を形成し、空間に搬送アームのフォークを搬送方向と直交する方向から挿入して基板を搬送アームに受け渡すことができる。また、基板の搬送時には、基板を並列に配列された駆動ローラ列とフリーローラ列によって支持することができる。
【００２１】
本発明において、前記ローラコンベアの搬送経路上の下流側に配置され、基板搬送の減速開始位置を検出する減速センサ及び基板の停止位置を検出する停止センサと、前記減速センサ及び停止センサからの検出信号に基づいて前記駆動ローラの駆動機構を制御する制御手段と、を更に具備し、前記制御部の制御信号に基づいて、前記ローラコンベアによって搬送されてきた基板を前記減速センサが検出した後、所定の時間経過後に前記駆動ローラを減速し、前記停止センサが検出した後、前記駆動ローラを停止するようにする方がよい。この場合、前記制御部は、前記減速センサからの検出信号に基づいて前記フリーローラ移動機構を制御可能に形成され、前記ローラコンベアによって搬送されてきた基板を前記減速センサが検出した後、前記フリーローラ列を隣接する駆動ローラ列側へ移動して、前記空間を形成するようにしてもよい。
【００２２】
また、本発明において、前記ローラコンベアの搬送経路上の下流側に配設され、ローラコンベアによって搬送される基板の下流側端部の隅部に当接する可動アライメント部材を有する基板の基準位置決め用アライメント機構と、前記ローラコンベアの搬送経路上の上流側に配設され、ローラコンベアによって搬送される基板の上流側端部の隅部に当接可能な可動アライメント部材を有する基板の確定位置決め用アライメント機構と、を更に具備する方がよい。
【００２３】
また、本発明の基板受渡装置は、基板を水平方向に搬送可能な第１ローラコンベアと、 前記第１ローラコンベアの上方に配置され、基板を水平方向に搬送可能な第２ローラコンベアと、 基板を水平方向、鉛直方向及び鉛直軸回りに回転自在に移動可能なフォークを有する搬送アームと、 基板を枚葉毎に収納可能な収納部を積層した基板収納部と、 前記搬送アームが受け渡す基板の処理ユニットと、 前記処理ユニット上の基板の有無を検出する手段と、 前記搬送アームを制御する制御手段と、を具備し、 前記第１ローラコンベアは、駆動ローラ列とフリーローラ列を並列に配列し、前記フリーローラ列を隣接する前記駆動ローラ列側へ移動して、駆動ローラ列とフリーローラ列の間に空間を形成するフリーローラ移動機構を具備し、 前記第２ローラコンベアは、前記搬送アームのフォークが挿入可能な空間をおいて並列される駆動ローラ列を具備し、 前記制御手段の制御信号に基づいて、前記処理ユニット上に基板の有りを検出した場合は、前記第１ローラコンベア上の基板を前記基板収納部へ受け渡し、 前記処理ユニット上に基板の無しを検出した場合は、前記第１ローラコンベア上の基板を前記処理ユニットへ受け渡す、ことを特徴とする。
【００２４】
また、本発明の基板受渡方法は、駆動ローラ列とフリーローラ列を並列に具備するローラコンベアにより基板を水平方向に搬送する工程と、 基板を減速センサにより検出し、検出した信号に基づいて前記駆動ローラの回転を減速する工程と、 基板を停止センサにより検出し、検出した信号に基づいて前記駆動ローラの回転を所定の時間経過後に停止する工程と、 アライメント機構のアライメント部材により基板の搬送経路上の下流側の隅部を当接して基準の位置決めを行う工程と、 前記フリーローラを隣接する駆動ローラ列側に移動して空間を作る工程と、 アライメント機構のアライメント部材により基板の搬送経路上の上流側の隅部を当接して基板の位置決めを確定する工程と、 基板を水平方向、鉛直方向及び鉛直軸回りに回転自在に移動可能な搬送アームのフォークを、基板の搬送方向と直交する方向から、前記フリーローラを移動してできた空間に挿入して、ローラコンベア上の基板を搬送アームへ受け渡す工程と、を含むことを特徴とする。
【００２５】
本発明に係る基板受渡方法において、前記減速センサが基板を検出した信号に基づいて、前記駆動ローラの回転を減速する工程の開始時期と同時期に前記フリーローラを搬送方向と同一方向に移動して搬送アームのフォークが挿入できる空間を作る工程を含むようにしてもよい。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、基板を受け渡すときには、フリーローラ列を隣接する駆動ローラ列側へ移動して形成された空間に基板搬送方向と直交する方向から搬送アームのフォークを挿入して、ローラコンベア上の基板を搬送アームに受け渡すことができるので、昇降ピン及び昇降ピンの昇降機構無しで受け渡しを行うことができ、受け渡し時間を短縮することができる。また、基板の搬送時には、基板を並列に配列された駆動ローラ列とフリーローラ列によって支持するので、基板を安定させた状態で搬送することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】従来の基板受渡装置を示す概略平面図（ａ）及び概略断面図（ｂ）である。
【図２】従来の基板受渡装置の受け渡しの手順を示す概略断面図である。
【図３】本発明に係る基板受渡装置を示す概略平面図（ａ）、概略断面図（ｂ）及び（ａ）のＩ部拡大図（ｃ）である。
【図４】本発明に係る基板受渡装置の受け渡しの手順を示す概略断面図である。
【図５】本発明における第２ローラコンベアを示す概略平面図（ａ）及び概略断面図（ｂ）である。
【図６Ａ】本発明における積層されたローラコンベア及び基板収納部、及び搬送アームと処理ユニットを示す概略平面図である。
【図６Ｂ】本発明における積層されたローラコンベア及び基板収納部、及び搬送アームと処理ユニットを示す概略断面図である。
【図７】本発明における積層されたローラコンベア及び基板収納部、及び搬送アームを示す概略断面図である。
【図８】本発明に係る基板受渡装置を適用した塗布・現像装置を示す概略平面図である。
【図９】前記塗布・現像装置の処理フロー図である。
【図１０Ａ】本発明における基板受け渡しの処理フロー図である。
【図１０Ｂ】本発明における基板受け渡しの別の処理フロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下に、本発明に係る基板受渡装置をＦＰＤ基板のレジスト塗布・現像処理装置に適用した場合について説明する。
【００２９】
図８に、本発明の基板受渡理装置を適用できる一構成例としての塗布・現像処理システムを示す。この塗布現像処理システム２００は、クリーンルーム内に設置され、例えばＦＰＤ基板を被処理基板（以下に基板Ｇという）とし、ＦＰＤ製造プロセスにおいてフォトリソグラフィー工程の中の洗浄、レジスト塗布、プリベーク、現像及びポストベーク等の各処理を行うものである。
【００３０】
この塗布現像処理システム２００は、大きく４つのブロックから構成されている。基板Ｇを収納するカセットＣＳＴを外部装置と受け渡しを行うカセットステーション部（Ｃ／Ｓ）２０１と、薬液を基板Ｇに塗布する塗布ライン部２０２と、露光装置２０４と基板Ｇの受け渡しを行うインターフェース部（Ｉ／Ｆ）２０３と、露光後に基板Ｇを現像する現像ライン部２０５とから構成されている。なお、露光装置２０４はインターフェース部２０３に隣接して設置されている。
【００３１】
次に、各部の大きな構成について説明する。カセットステーション部（Ｃ／Ｓ）２０１は、基板Ｇを多段に積層して複数枚収容可能なカセットＣＳＴが水平方向例えばＸ方向に４個まで並べて載置可能なカセットステージ１００と、このステージ１００のカセットＣＳＴに対して基板Ｇの出し入れを行う搬送機構１０１とを備えている。
【００３２】
搬送機構１０１は、基板Ｇを保持できる手段、例えば搬送アーム１０２を有し、水平のＸ，Ｙ方向，鉛直のＺ方向、及び鉛直軸回りのθ方向の４軸で動作可能であり、隣接する塗布ライン部２０２と現像ライン２０５に対して基板Ｇの受け渡しを行えるようになっている。
【００３３】
上流部の塗布ライン部２０２には、洗浄プロセス部２１０、第１の熱的処理部２１１、２段パスユニット部２１２、パスユニット部２１２に隣接し、塗布ライン部２０２と現像ライン部２０５の空間に位置する塗布プロセス部２１３、塗布ライン部２０２に戻り第２の熱的処理部２１９が順番に配置されている。なお、装置構成によって各部の長さを調整するための基板をローラ搬送するだけのローラコンベア部（ＣＯＮＶ）２２０が配置されている。
【００３４】
一方、インターフェース部（Ｉ／Ｆ）２０３側からカセットステーション（Ｃ／Ｓ）２０１側へ向う下流部の現像ライン部２０５には、現像プロセス部２２０と、第３の熱的処理部２２３を配置している。なお、装置構成によって各部の長さを調整するための基板Ｇをローラ搬送するだけのローラコンベア部（ＣＯＮＶ）２２１が配置されている。また、基板Ｇの処理スピードをカセットステーションと調整するための多段バッファ部２２４を配置している。
【００３５】
次に、処理部の各ユニット構成について説明する。上流部の塗布ライン部２０２において、洗浄プロセス部２１０は、搬送機構１０１と隣接する場所にエキシマＵＶ照射ユニット（ｅ−ＵＶ）１０２とスクラバ洗浄ユニット（ＳＣＲ）１０３を配置している。エキシマＵＶ照射によりオゾンＯ３を発生させて洗浄を行う。スクラバ洗浄ユニット（ＳＣＲ）１０３内の洗浄部は、基板Ｇをローラ搬送により水平姿勢で搬送しながら基板Ｇの上面（被処理面）にブラッシング洗浄やブロー洗浄を行う。
【００３６】
洗浄プロセス部２１５の下流側に隣接する第１の熱処理部２１１は、脱水ベーク用の加熱ユニット（ＤＨＰ）１０４、塗布液の密着性を高めるアドヒージョンユニット（ＡＤ）１０５、基板の温度を一定に保つ冷却ユニット（ＣＯＬ）１０６から構成されている。
【００３７】
次に図６Ａ，図６Ｂ及び図７に示すように２段パスユニット部２１２は基板Ｇを塗布プロセス部２１３に送出するためのインパスユニット１０７、塗布後の基板Ｇを払い出すためのアウトパスユニット１０８、塗布プロセス部２１３で基板Ｇが処理中の場合に一時的に基板Ｇを収納して待機するための２段パス多段バッファユニット１０９が積層されている。
【００３８】
２段パスユニット部２１２に隣接して塗布プロセス部２１３が配置されていて、インパスユニット１０７から受け渡す搬送アーム１１０、薬液を基板Ｇに塗布する塗布ユニット１１１、塗布された基板Ｇを減圧乾燥する減圧乾燥ユニット１１２が配置されている。
【００３９】
塗布ユニット１１１は薬液を塗布後に回転して薬液を均一に広げるスピン方式と、長尺スリット状のノズルから薬液を吐出して基板Ｇ上を相対的に移動しながら塗布するスピンレス方式がある。減圧乾燥ユニット１１２では密閉空間内で低減圧状態にすることにより加熱せずに塗布液の溶媒を蒸発させる。減圧乾燥ユニット１１２では減圧乾燥後に塗布された薬液の不要な端縁部をシンナーにより除去するエッジリムーバを備えている。
【００４０】
図７に示すように搬送アーム１１０は以下の構成になっている。すなわち、搬送アーム１１０は、搬送アームＺ軸である鉛直方向への移動はＺ軸を駆動するＺ軸モータ８５、Ｚ軸のガイドレール８１、ガイドレール上にあるＺ軸を昇降するＺ軸昇降部材８２から構成されている。搬送アーム１１０を鉛直軸回りに旋回するθ軸はθ軸モータ８６、θ軸旋回部材８３から構成されている。なお、θ軸旋回部材８３はＺ軸昇降部材８２の架台の上に配置されている。搬送アームのフォーク１０１の進退はモータ８７によって行われる。フォーク１０１はθ軸旋回部材８３の架台の上に配置されている。
【００４１】
このような構造により搬送アーム１１０は、Ｚ軸、θ軸、Ｘ軸にアクセス可能なことによりインパスユニット１０７、アウトパスユニット１０８、２段パス多段バッファユニット１０９、塗布ユニット１１１、減圧乾燥ユニット１１２のいずれにもアクセスすることができる。
【００４２】
２段パスユニット部２１２下流の第２熱処理部２１９は、基板Ｇに塗布された薬液を固めるプリベークユニット１１３、基板の温度を安定化させるクーリングユニット１１４を備えている。
【００４３】
インターフェース部２０３は、露光装置２０４に払い出すためのパスユニット１１５、露光機で基板Ｇを処理中の場合に一時的に基板Ｇを一枚毎に収納する多段バッファユニット（Ｔ−ＢＵＦ）１１７、露光後の基板Ｇを現像ラインに払い出すためのパスユニット１１８、基板Ｇを前記ユニット及び露光装置２０４間で受け渡す搬送アーム１１６を備えている。搬送アーム１１６はＺ軸、θ軸、Ｘ軸にアクセス可能になっている。
【００４４】
下流部の現像ライン部２０５において、現像プロセス部２２２は現像ユニット１２０、現像液をリンスするリンスユニット１２１、現像液及びリンス液を乾燥させるドライユニット１２２を備えている。
【００４５】
第３の熱処理部２２３は、現像を安定化させるポストベークユニット１２３、基板Ｇを安定化させるクーリングユニット（ＣＯＬ）１２４を備えている。
【００４６】
図９に、この塗布現像処理システムにおける処理の手順を示す。先ず、カセットステーション部（Ｃ／Ｓ）２０１において、搬送機構１０１が、ステージ１００上の所定のカセットＣの中から１つの基板Ｇを取り出し、洗浄プロセス部２１０のエキシマＵＶ照射ユニット（ｅ−ＵＶ）１０２に搬入する（ステップＳ1）。
【００４７】
エキシマＵＶ照射ユニット（ｅ−ＵＶ）１０２内で基板Ｇは紫外線照射による乾式洗浄を施される（ステップＳ2）。この紫外線洗浄では主として基板表面の有機物が除去される。紫外線洗浄の終了後に、ローラ搬送によって洗浄プロセス部２４のスクラバ洗浄ユニット（ＳＣＲ）１０３へ移される。
【００４８】
スクラバ洗浄ユニット（ＳＣＲ）１０３では、ローラ搬送により水平姿勢で平流しで搬送しながら基板Ｇの上面（被処理面）にブラッシング洗浄やブロー洗浄を施すことにより、基板表面から粒子状の汚れを除去する（ステップＳ３）。なお、洗浄後も基板Ｇを平流しで搬送しながらエアーナイフ等によって液切りして、基板Ｇを乾燥させる。スクラバ洗浄ユニット（ＳＣＲ）１０３内で洗浄処理の済んだ基板Ｇは、第１熱処理部２１１の加熱ユニット（ＤＨＰ）１０４に移される。
【００４９】
第１熱処理部２１１において、加熱ユニット（ＤＨＰ）１０４に移され、そこで脱水処理を受ける（ステップＳ4）。次に、基板Ｇは、冷却ユニット（ＣＯＬ）１０６に移され、そこで一定の基板温度まで冷却される（ステップＳ５）。
【００５０】
しかる後、基板Ｇはアドヒージョンユニット（ＡＤ）１０５に移され、そこで疎水化処理を受ける（ステップＳ６）。疎水化処理により基板Ｇとレジスト液の密着性を高める。この疎水化処理の後に、基板Ｇは冷却ユニット（ＣＯＬ）１０６で基板を一定の常温の温度まで冷却される（ステップＳ７）。そして、２段パスユニット部２１２に移される。
【００５１】
次に２段パスユニット部２１２のインパスユニット１０７に移された基板Ｇを塗布プロセス部２１３の搬送アーム１１０により塗布ユニット（ＣＴ）１１１に受け渡される。本発明であるこの動作については詳細な動作は後述する。
【００５２】
基板Ｇは塗布ユニット（ＣＴ）１１１で、スピンコート法もしくはスリットコート法により基板上面（被処理面）にレジスト液を塗布される（ステップＳ８）。
【００５３】
次に搬送アーム１１０により塗布ユニット１１１から減圧乾燥ユニット（ＶＤ／ＥＲ）１１２に移される。減圧により塗布されたレジスト液の溶媒の乾燥処理を行う。次いで同ユニット内で基板周縁部の余分（不要）なレジストをエッジリムーバ・ユニット（ＥＲ）で取り除かれる（ステップＳ９）。処理終了後、減圧乾燥ユニット１１２の基板は搬送アーム１１０によりインパスユニット１０７の上部に配置したアウトパスユニット１０８へ移される。移された基板はローラ搬送により第２熱処理部２１９のプリベークユニット１１３へ移される。
【００５４】
第２熱処理部２１９のプリベークユニット（ＰＲＥ−ＢＡＫＥ）１１３でレジスト塗布後のベーキングを行う（ステップＳ１０）。この処理により基板Ｇ上に塗布されたレジスト膜中に残留する溶媒を蒸発させ、レジスト膜と基板Ｇの密着性を強化する。
【００５５】
次に、基板Ｇは、冷却ユニット（ＣＯＬ）１１４に移され、そこで一定の基板温度まで冷却される（ステップＳ１１）。基板Ｇはコンベアローラ（ＣＯＮＶ）２２０に搬送され、インターフェース部２０３のパスユニット１１５へ搬入される。コンベアローラの長さはシステムのレイアウトにより異なる。
【００５６】
パスユニット１１５に搬送された基板Ｇは搬送アーム１１６によって露光装置２０４に受け渡され所定のパターンに露光される（ステップＳ１３）。露光装置２０４に基板Ｇが既に搬入されて処理中の場合は、多段バッファ１１７に一時的に収納される。搬送アームは鉛直方向、鉛直軸回り、進退自在に動作可能で、パスユニット１１５、多段バッファ１１７、露光装置２０４、パスユニット１１８へのアクセスが可能である。
【００５７】
露光済の基板Ｇは搬送アーム１１６により露光装置２０４からパスユニット１１８（ＰＡＳＳ）に受け渡たされる (ステップＳ１４) 。次にパスユニット１１８よりコンベアローラ１１９を経由して現像ライン現像ユニット１２０へ受け渡される。
【００５８】
現像ユニット（ＤＥＶ）１２０において基板Ｇは平流し方式で搬送され、その搬送中に現像ユニット１２０、リンスユニット１２１、乾燥ユニット１２２で一連の現像処理工程が行われる（ステップＳ１５）。現像ユニット１２０では露光機で露光した、もしくはされなかった部分のレジストを現像液で洗い流し、リンスユニット１２１で現像液の洗い流し、乾燥ユニット１２２で残存している純水を乾燥して除去する。
【００５９】
次に、第３熱処理部２２３のポストベークユニット（ＰＯＳＴ−ＢＡＫＥ）１２３に移され、そこでポストベーキングが行われる（ステップＳ１６）。ここでは現像によって形成されたレジストパターンを、基板Ｇとの密着性を向上させるためポストベークを行っている。次に、基板Ｇは、クーリングユニット（ＣＯＬ）１２４に移され、そこで所定の基板温度に冷却される（ステップＳ１７）。
【００６０】
第３熱処理部３６のクーリングユニット（ＣＯＬ）から多段バッファ（Ｔ−ＢＵＦ）１１２５、及びコンベアローラ１２６を経由して搬送アーム１０２が基板Ｇを受け取り、カセットステーション（Ｃ／Ｓ）２０１のいずれか１つのカセットＣに収容する（ステップＳ１８）。
【００６１】
もし、カセットステーション部２０１が稼働中もしくはカセットＣＳＴの基板Ｇが一杯で受け入れられなかった場合は、バッファ部２２４の多段バッファユニット１２５に一時的に収納される。これで一連の塗布現像処理が終了する。
【００６２】
この塗布現像処理システム２００において、基板Ｇの受渡装置を本発明に適用することができる。以下、図６Ａ，図６Ｂを参照して本発明に係る基板受渡装置を２段パスユニット部２１２と塗布プロセス部２１３との基板Ｇの受け渡しを適用した実施形態を説明する。
【００６３】
図６Ａ，図６Ｂに示すように上流部から搬送されてきた基板Ｇはインパスユニット１０７へ搬入される。また、減圧乾燥ユニット１１２での処理が終了した基板Ｇは搬送アーム１１０によりアウトパスユニット１０８に受け渡される。インパスユニット１０７には、この発明に係る基板受渡装置を構成する第１ローラコンベアＲＣ１が備えられ、アウトパスユニット１０８には、基板受渡装置を構成する第２ローラコンベアＲＣ２が備えられている。
【００６４】
以下に、基板受渡装置について説明する。基板受渡装置は、図３ないし図５に示すように、基板Ｇを水平方向に搬送可能な第１ローラコンベアＲＣ１と、基板Ｇを水平のＸ，Ｙ方向、鉛直のＺ方向及び鉛直軸回りのθ方向に回転自在に移動可能なフォーク１０１を有する搬送アーム１１０とを具備している。
【００６５】
第１ローラコンベアＲＣ１は、駆動シャフト５５に適宜間隔をおいて駆動ローラ５６を装着した駆動ローラ列と、フリーローラシャフト５７に適宜間隔を置いてフリーローラ５９を回転自在に装着したフリーローラ列とを並列に配列してなり、フリーローラ列を隣接する駆動ローラ列側へ移動して、駆動ローラ列とフリーローラ列の間に空間Ｉを形成するフリーローラ移動機構であるフリーローラ駆動用のシリンダ６５と、を具備してなり、空間Ｉに搬送アーム１１０のフォーク１０１を搬送方向と直交する方向から挿入して、第１ローラコンベアＲＣ１上の基板Ｇを搬送アーム１１０に受け渡すように構成されている。
【００６６】
図３に示すように、駆動シャフト５５は、インパスユニット１０７の架台５０の上のシャフトサポート部６４のベアリング５８によって回転自在に支承されており、架台５０に設置された駆動源例えば駆動モータ５１の駆動によって基板の搬送方向に回転されるように構成されている。この場合、駆動モータ５１は基板搬送方向と平行に延びる回転シャフト５２が連結されており、回転シャフト５２に装着された例えばベベルギアからなるギア５３が、駆動シャフト５５の一端部に装着されるベベルギアからなるギア５４に噛合して、駆動モータ５１の駆動が駆動シャフト５５及び駆動ローラ５６に伝達されるようになっている。なお、駆動機構を駆動モータ５１、ギア５３，５４に代えて動力の伝達はギアを使用せずにマグネットの磁力を利用した非接触型の動力伝達機構で駆動してもよい。
【００６７】
一方、フリーローラ５９を回転自在に装着したフリーローラシャフト５７は、フリーローラ移動機構であるフリーローラ駆動用のシリンダ６５に連結されて、隣接する駆動シャフト５５側に接離移動し得るように構成されている。
【００６８】
この場合、シリンダ６５は、図４（ａ）に示すように、第１ローラコンベアＲＣ１の下方に横設されるシリンダ本体６５ａと、シリンダ本体６５ａ内を摺動する一対のピストン６５ｂを有するスプール６５ｃと、シリンダ本体６５ａの両端部に設けられたポート６５ｄ，６５ｅに接続する管路６５ｆと、管路６５ｆに切換弁６５ｇ及び開閉弁６５ｈを介して接続される空気供給源６５ｉと、を具備している。なおこの場合、切換弁６５ｇは、空気供給源６５ｉから供給される空気を一方例えばポート６５ｄに供給した場合は、他方のポート６５ｅから排出される空気を外部に排気する切換機構を有している。
【００６９】
またシリンダ６５は、スプール６５ｃに連結されてシリンダ本体６５ａの上部に設けられた軸向に沿うスリット６５ｊを介して上方に突出する連結部材６５ｋを具備しており、この連結部材６５ｋにフリーローラシャフト５７が連結されている。
【００７０】
このように構成されるシリンダ６５によれば、後述する制御手段であるコントローラ３００からの制御信号に基づいて切換弁６５ｇが切り換えられた状態で、空気供給源６５ｉから空気が一方のポート６５ｄからシリンダ本体６５ａ内に供給され、他方のポート６５ｅから空気が排出されることで、フリーローラシャフト５７及びフリーローラ５９を有するフリーローラ列が隣接する駆動ローラ列側に移動して、搬送アーム１１０のフォーク１０１が挿入可能な空間Ｉを形成することができる（図３参照）。また、前記の逆の動作を行うことによってフリーローラ列は元の位置に復帰し、駆動ローラ列の駆動ローラ５６とフリーローラ５９とが協働して基板Ｇを搬送する。
【００７１】
また、第１ローラコンベアＲＣ１における基板Ｇの搬送経路の最下流側に位置する駆動シャフト５５の中央部の近傍位置には、駆動シャフト５５を挟んで上流側と下流側に、基板Ｇの端部を検知する減速センサＳＡと停止センサＳＢが配設されている。これら減速センサＳＡと停止センサＳＢは光センサによって形成されている。
【００７２】
また、第１ローラコンベアＲＣ１における基板Ｇの搬送経路の下流側の両端部には、第１ローラコンベアＲＣ１によって搬送される基板Ｇの下流側端部の隅部に当接する可動アライメント部材６１を有する基板Ｇの基準位置決め用アライメント機構６０Ａが配設されている。また、第１ローラコンベアＲＣ１における基板Ｇの搬送経路の上流側の両端部には、第１ローラコンベアＲＣ１によって搬送される基板Ｇの上流側端部の隅部に当接する可動アライメント部材６１を有する基板の確定位置決め用アライメント機構６０Ｂが配設されている。
【００７３】
この場合、基準位置決め用アライメント機構６０Ａと確定位置決め用アライメント機構６０Ｂは、基準位置決め用アライメント機構６０Ａを代表して説明すると、図３（ｃ）に示すように、シリンダ体６０ａ内に摺動可能に配設されるピストン６０ｂと、ピストン６０ｂに連結してシリンダ体６０ａの一端壁６０ｃに設けられた貫通孔６０ｄを貫通する互いに平行な２本の支持部材６１ａと両支持部材６１ａの先端部に回転自在に装着されるローラ６１ｂとからなる可動アライメント部材６１と、可動アライメント部材６１を搬送される基板Ｇの隅部に向かって進退移動する図示しない加圧手段と、を具備している。このように構成することにより、加圧手段によって可動アライメント部材６１を基板Ｇの隅部に向かって移動すると、２本の支持部材ａの先端部に回転自在に装着された２個のローラ６１ｂが基板Ｇの隅部の両面に当接して位置決めが行われる。
【００７４】
前記駆動モータ５１，シリンダ６５，基準位置決め用アライメント機構６０Ａ，確定位置決め用アライメント機構６０Ｂ，搬送アーム１１０，減速センサＳＡ及び停止センサＳＢは、制御手段であるコントローラ３００に電気的に接続されており、減速センサＳＡ，停止センサＳＢによって検出された信号を受けたコントローラ３００からの制御信号に基づいて駆動モータ５１，シリンダ６５，基準位置決め用アライメント機構６０Ａ，確定位置決め用アライメント機構６０Ｂ及び搬送アーム１１０が制御されるように構成されている。
【００７５】
一方、第２ローラコンベアＲＣ２は、図５に示すように、駆動シャフト５５に適宜間隔をおいて駆動ローラ５６を装着した駆動ローラ列を並列に配列してなり、隣接する駆動ローラ列間に搬送アーム１１０のフォーク１０１を搬送方向と直交する方向から挿入して、第２ローラコンベアＲＣ２上の基板Ｇを搬送アーム１１０に受け渡すように構成されている。
【００７６】
なお、第２ローラコンベアＲＣ２の駆動機構は、第１ローラコンベアＲＣ１の駆動機構と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。
【００７７】
搬送アーム１１０は図７に示すように以下の構成になっている。搬送アーム１１０の上下（Ｚ軸）移動はガイドレール８１と、ガイドレール８１に沿って昇降する昇降部材８２と、昇降部材８２を駆動するＺ軸モータから構成されている。θ軸はθモータ８６によって昇降部材８２がガイドレール８１に沿って回転するようになっている。Ｘ軸は昇降機構８２上のベース部材８３上のフォーク１０１がＸ軸駆動モータ８７によって前後に駆動される。
【００７８】
このように搬送アーム１１０はインパスユニット１０７、アウトパスユニット１０８、２段パス多段バッファユニット１０９、塗布ユニット１１１、減圧乾燥ユニット１１２のいずれにもアクセスすることができる。なお、２段パス多段バッファユニット１０９に設けられた収納部１０９ａの底部には基板Ｇを支持する複数の支持ピン１０９ｂが立設されている。
【００７９】
次に、図３〜図７，図１０Ａ，図１０Ｂを参照して、基板Ｇの処理手順について説明する。まず、図４（ａ）に示すように上流部から搬送されてきた基板Ｇが駆動ローラ５６の駆動力とフリーローラ５９のサポートによりインパスユニット１０７に搬入されてくる（ステップＳＡ１）。インパスユニット１０７の第１ローラコンベアＲＣ１に搬入された基板Ｇを減速センサＳＡが検出する（ステップＳＡ２）。減速センサＳＡの検出に基づくコントローラ３００からの制御信号に基づいて駆動モータ５１が減速を始める（ステップＳＡ３）。次に停止センサＳ２が基板Ｇを検出する（ステップＳＡ４）。停止センサＳＢの検出に基づくコントローラ３００からの制御信号に基づいて所定の時間が経過すると駆動モータ５１が完全に停止する。同時に基板Ｇの搬送も停止する（ステップＳＡ５）。
【００８０】
次に基板Ｇの位置決めを行う。まず、図３に示すように基板Ｇの下流側の隅部に基準の位置決めアライメント機構６０Ａの可動アライメント部材６１が伸長して基板Ｇを当接して基準の位置決めを行う（ステップＳＡ６）。
【００８１】
前記停止センサＳ２が基板Ｇを検出して所定の時間経過後に駆動モータ５１が停止することにより基板Ｇが停止するが、基板Ｇの停止位置は基準の位置決めアライメント機構６０Ａと密接な関係があり、基準の位置決めアライメント機構６０Ａの可動アライメント部材６１が伸長したときに基板Ｇに丁度接する位置に停止するように時間を設定している。
【００８２】
次に基板Ｇが完全に停止すると図４（ｂ）のステップへ移る。フリーローラ駆動用シリンダ６５が駆動することにより連結されているフリーローラシャフト５７がＩＮの位置から下流側ＯＵＴの位置に移動する（ステップＳＡ７）。
【００８３】
これにより空間Ｉ(Interspace)ができる。搬送アームフォーク１０１が挿入できる空間Ｉができれば、空間Ｉはフリーローラ５９を上流側もしくは下方に移動してもよい。フリーローラ５９の移動はモータ駆動によって行ってもよい。
【００８４】
次に基板Ｇの上流側にある確定の位置決めアライメント機構６０Ｂが基板Ｇの隅部を当接して位置決めの確定を行う（ステップＳＡ８）。つまり、下流側のアライメント、フリーローラ５９の移動、上流側のアライメントの順番に位置決めを行うことにより、基板Ｇに負担がかからない位置決めを行うことができる。
【００８５】
次に、アライメント機構６０Ａと６０Ｂが後退する（ステップＳＡ９）。アライメントが終了したら、搬送アーム１１０のフォーク１０１が空間Ｉに挿入（Ｘ軸）される（ステップＳＡ１０）。次に図３（ｃ）に示すように、フォーク１０１がｈ２の距離をＵＰ（Ｚ軸）して基板Ｇを保持する。次にフォークがＸ軸方向に引かれて、搬送アーム１１０のフォーク１０１に受け渡される（ステップＳＡ１１）。最後にフリーローラ列はフリーローラ駆動用シリンダ６５が元に戻ることにより原点位置に戻る（ステップＳＡ１２）。そして最初の基板搬入ステップＳＡ１に戻ることができ、次の基板Ｇが受け入れ可能になる。
【００８６】
このように昇降ピン無しに基板の受け渡しが可能になるので図２に示すｈ１の高さのスペースが不要になる。
【００８７】
図１０Ｂに示す受け渡しフローＢは、フリーローラ列の移動（ステップＳＡ７）を減速センサＳＡ検出（ステップＳＡ２）の信号により駆動ローラ５６の減速（ステップＳＡ３）と略同時に開始している。これによりステップが一回省略されるので、基板受け渡しの処理スピードを高めることができる。通常約１秒の処理スピードのアップが可能になる。
【００８８】
搬送アーム１１０に受け渡された基板Ｇは図６Ａに示す塗布ユニット１１１へ受け渡される。
【００８９】
もし、塗布ユニット１１１が処理中の場合は、塗布ユニット１１１に配設された基板有無検出センサＳＣが基板Ｇの有無を検出して、コントローラ３００に伝達し、コントローラ３００からの制御信号に基づいて搬送アーム１１０が駆動して、２段パス多段バッファユニット１０９のいずれかの収納部１０９ａへ一時的に収納される。搬送アーム１１０のフォーク１０１は支持ピン１０９ｂの間に挿入されて受け渡される。塗布ユニット１１１の処理が終了して減圧乾燥ユニット１１２へ基板Ｇが受け渡されたら、基板収納部１０９に待機している基板Ｇを搬送アーム１１０により、塗布ユニット１１１へ受け渡す。
【００９０】
塗布ユニット１１１でレジストの塗布が終了した基板Ｇは、搬送アーム１１０によって減圧乾燥ユニット１１２に受け渡される。減圧乾燥ユニット１１２で塗布されたレジストの乾燥と、塗布部周縁部をシンナーで除去する。
【００９１】
減圧乾燥ユニット１１２での処理が終了したらアウトパスユニット１０８に搬送アーム１１０より基板Ｇを水平方向に搬送可能な第２ローラコンベアＲＣ２に受け渡される。第２ローラコンベアＲＣ２は、前述したように駆動ローラ列が並列に配置され、駆動ローラ列の間に搬送アーム１１０のフォーク１０１を挿入できる空間を具備している。また、第２ローラコンベアＲＣ２は昇降ピン及び昇降ピンの駆動機構は備えていない。搬送アーム１１０のフォーク１０１を搬送方向と直交する方向から挿入して、搬送アーム１１０上の基板Ｇをアウトパスユニット１０８の第２ローラコンベアＲＣ２上に受け渡す。昇降ピンを備えていないので、通常の昇降ピン方式より一回の受け渡しで約６秒の処理時間が短縮される。つまり、例えばＦＰＤ基板の製造装置におけるローラコンベア上の基板Ｇを搬送アームに受け渡す場合は、通常、昇降ピンの上昇に３秒、下降に３秒は必要で、一回の受け渡しに計６秒を要するので、昇降ピン機構を無くすことによって装置全体の処理時間を大きく短縮することができる。
【００９２】
また、アウトパスユニット１０８はインパスユニット１０７の上部に配置してあり、塗布・現像システムの占有面積を低減している。このように第１，２ローラコンベアＲＣ１，ＲＣ２の搬送方向と直交する方向から搬送アーム１１０を挿入することが可能になったことにより、図８の塗布・現像装置２００に示すように塗布ライン部２０２と現像ライン部２０５の間に必要に応じて処理ユニットの配置が可能になり、クリーンルームの占有面積を低減してコストダウンを図ることできる。
【００９３】
本発明における基板受渡装置は塗布現像システムに限るものではなく、ローラコンベアと搬送アーム間の基板の受け渡し機構の全てに適用することができる。
【符号の説明】
【００９４】
Ｇ 基板
ＳＡ 減速センサ
ＳＢ 停止センサ
ＳＣ 基板有無検出センサ
ＲＣ１ 第１ローラコンベア
ＲＣ２ 第２ローラコンベア
５０ 架台
５６ 駆動ローラ
５９ フリーローラ
６０Ａ 基準の位置決めアライメント
６０Ｂ 確定の位置決めアライメント
６５ フリーローラ駆動用シリンダ（フリーローラ移動機構）
１０１ 搬送アームフォーク
１０７ インパスユニット
１０８ アウトパスユニット
１０９ ２段パス多段バッファユニット
１０９ａ パスユニット多段バッファ収納部
１１０ 搬送アーム
２１２ ２段パスユニット部
３００ コントローラ（制御手段）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板受渡装置及び基板受渡方法に関し、更に詳細には、例えばフラット・パネル・ディスプレー基板（ＦＰＤ基板）等の基板を、ローラコンベア上から搬送アームに受け渡す、或いは搬送アーム上の基板をローラコンベアに受け渡す基板受渡装置及び基板受渡方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のこの種の基板受渡装置として、図１に示す構造の基板受渡装置が知られている。図１はローラコンベア上の基板Ｇを搬送アームへ受け渡す基板受渡装置の代表的な概略断面図（ａ）、概略平面図（ｂ）である。
【０００３】
従来の基板受渡装置は、軸方向に適宜間隔をおいて駆動ローラ５６を有する駆動シャフト５５を並列して架台５０上に配置し、駆動ローラ５６及び駆動シャフト５５を図示しない駆動モータ及び伝達機構によって回動可能に形成するローラコンベアを具備している。また、この基板受渡装置には、先端に球状ローラ６２を有する複数の昇降ピン６３が隣接する駆動シャフト５５間に配設され、各昇降ピン６３は例えばエアーシリンダーもしくはモータとギアの組み合わせからなる昇降機構（図示せず）によって昇降可能に形成されている。更に、ローラコンベア上の基板Ｇの４隅を当接して位置決めを行うアライメント６０が図示しない昇降機構によって昇降ピン６３と同時に上昇可能に形成されている。
【０００４】
前記のように構成される基板受渡装置は、以下の手順によって搬送アームのフォーク１０１により処理ユニット（図示せず）に受け渡される。すなわち、搬送アームが搬送方向と直交する場合は、搬送経路の上流からローラ搬送されて来た基板Ｇは搬送アームのフォーク１０１により処理ユニットに受け渡される。
【０００５】
以下に図２を参照して、基板Ｇの受け渡し手順について説明する。まず、図２（ａ）に示すように、基板Ｇは搬送経路の上流より、駆動ローラ５６の回転によって搬送される。このとき、各駆動シャフト５５及び駆動ローラ５６は同一平面状に並列に配置されていて同期して回転する。基板Ｇの下流側端部を光センサＳが検出すると、光センサＳからの検出信号が図示しない制御手段に伝達され、制御手段からの制御信号に基づいて所定の時間経過後に駆動ローラ５６が停止して基板Ｇも停止する。
【０００６】
次に、図２（ｂ）に示すように昇降ピン６３が上昇して基板Ｇが持ち上げられる。このとき、アライメント６０も昇降ピン６３と同時に上昇して昇降ピン６３の上方に位置し、アライメント６０が基板Ｇの４隅を当接して位置決めを行う。
【０００７】
次に図２（ｃ）に示すように搬送アームの４本のフォーク１０１が昇降ピン６３に干渉しない空間を通過して基板Ｇの下側より所定の空間を空けて挿入された後に、基板Ｇを保持する。基板Ｇの保持は図２（ｃ）に示すように搬送アームが上昇するか、搬送アームは停止していて昇降ピン６３が下降する方法がある。
【０００８】
次に図２（ｄ）に示すように昇降ピン６３とアライメント６０が下降した後に、フォーク１０１がＸ軸方向に戻り、次の処理ユニットに受け渡される。
【０００９】
図１及び図２では基板Ｇの搬送方向と直交するＸ方向からの受け渡しで説明を行ったが、図１（ａ）に二点鎖線で示すように、搬送アームのフォーク１０１を搬送方向と直列である下流のＹ軸方向から挿入して受け渡しを行うようにしてもよい。この場合、搬送アームのフォーク１０２が昇降ピン６２と干渉しない方向から挿入されて、処理ユニットに受け渡される。
【００１０】
このようにローラコンベアと搬送アーム間の基板の受け渡しは昇降ピンを使用して行われている。
【００１１】
前記基板受渡装置の別の構造として、隣接する駆動シャフトの間に配設されるプッシャピンを、鉛直軸回りに回動及び鉛直方向に昇降させて、搬送ローラとの間で基板を受け渡す基板受渡装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【００１２】
特許文献１に記載の基板受渡装置は、隣接する駆動シャフトの間に配設されるプッシャピンは、搬送ローラの軸方向に関して搬送ローラよりも外方の位置に、鉛直方向に沿って立設された基部と、この基部の上端から直角に折れ曲がった水平アーム部と、この水平アーム部の先端において鉛直上方に向かって立ち上がり、その先端において基板の裏面を点接触で支持する基板支持部とを有している。また、前記基部が駆動機構によって鉛直軸回りに回動及び鉛直方向に昇降可能に形成されている。
【００１３】
また、別の基板受渡装置として、駆動シャフトと直角な方向の一直線上に並列して設けられた複数個の駆動ローラと、駆動ローラの下方にて、一直線上に設けられた伝動部とで構成されるローラコンベアモジュールが、その長手方向を基板搬送方向と平行にして基板搬送方向と直角方向に複数個が設けられ、ローラコンベアモジュールの駆動ローラ上の基板の下方、複数個のローラコンベアモジュールの間、基板搬送方向にて、ロボットハンドが進入することのできる空間を設けた構造のものが知られている（例えば、特許文献２参照）。
【００１４】
特許文献２に記載の基板受渡装置では、基板搬送方向と直列である下流の方向からの受け渡しを行うもので、ロボットハンドが前記ローラコンベアモジュールの間の空間に挿入されて、処理ユニットに受け渡される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】特開平１０−３１０２４０号公報
【特許文献２】特開２００９−１７６８５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
ところで、図１及び図２に示した従来の基板受渡装置や特許文献１に記載の基板受渡装置においては、受け渡しを行うためには昇降ピンと昇降ピンの昇降機構が必要である。また、昇降ピンの上昇下降による基板の受け渡しには相当の時間を必要としている。また、昇降機構は装置の不具合の発生源にもなり、保全の調整時間も必要となり、装置全体の稼働率に大きな影響を与える。特に基板が薄化及び大型化すると、昇降してアライメントをする場合に、基板が動きにくくなるので基板と直接に接触する部分は球状ローラを配置して基板を動き易くしている。しかし、球状ローラである理由により、少しでも平衡度がずれると、基板を昇降するときに基板が滑り落ちる可能性があるので、調整に相当の時間を要する。
【００１７】
そこで、特許文献２では、基板の搬送方向とロボットハンド（搬送アーム）が直列の場合には昇降ピンを必要としない基板受渡装置を提供している。しかしながら、特許文献２に記載の技術においては、基板搬送方向と直交する方向からの昇降ピンを必要としない基板受渡装置には言及されていない。特許文献２に記載のロボットハンド（搬送アーム）を基板の搬送方向と直交する方向から隣接する駆動シャフト間に挿入することも考えられるが、隣接する駆動シャフト間にロボットハンド（搬送アーム）の挿入可能な空間を設けるには、駆動シャフト間のピッチを大きくする必要があり、その分基板の搬送が不安定となる懸念がある。
【００１８】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、昇降ピン及び昇降ピンの昇降機構無しでローラコンベア上の基板を直交する方向から搬送アームのフォークを挿入して、搬送アームに受け渡す基板受渡装置及び基板受渡方法を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
前記課題を解決するために、本発明の基板受渡装置は、基板を水平方向に搬送可能なローラコンベアと、 基板を水平方向、鉛直方向及び鉛直軸回りに回転自在に移動可能なフォークを有する搬送アームと、を具備し、 前記ローラコンベアは、駆動ローラ列とフリーローラ列を並列に配列し、前記フリーローラ列を隣接する前記駆動ローラ列側へ移動して、駆動ローラ列とフリーローラ列の間に空間を形成するフリーローラ移動機構を具備してなり、 前記空間に前記搬送アームのフォークを搬送方向と直交する方向から挿入して、前記ローラコンベア上の基板を搬送アームに受け渡す、ことを特徴とする。
【００２０】
このように構成することにより、ローラコンベア上の基板を搬送アームに受け渡すときには、フリーローラ移動機構が駆動してフリーローラ列を隣接する駆動ローラ列側へ移動して、駆動ローラ列とフリーローラ列の間に空間を形成し、空間に搬送アームのフォークを搬送方向と直交する方向から挿入して基板を搬送アームに受け渡すことができる。また、基板の搬送時には、基板を並列に配列された駆動ローラ列とフリーローラ列によって支持することができる。
【００２１】
本発明において、前記ローラコンベアの搬送経路上の下流側に配置され、基板搬送の減速開始位置を検出する減速センサ及び基板の停止位置を検出する停止センサと、前記減速センサ及び停止センサからの検出信号に基づいて前記駆動ローラの駆動機構を制御する制御手段と、を更に具備し、前記制御部の制御信号に基づいて、前記ローラコンベアによって搬送されてきた基板を前記減速センサが検出した後、所定の時間経過後に前記駆動ローラを減速し、前記停止センサが検出した後、前記駆動ローラを停止するようにする方がよい。この場合、前記制御部は、前記減速センサからの検出信号に基づいて前記フリーローラ移動機構を制御可能に形成され、前記ローラコンベアによって搬送されてきた基板を前記減速センサが検出した後、前記フリーローラ列を隣接する駆動ローラ列側へ移動して、前記空間を形成するようにしてもよい。
【００２２】
また、本発明において、前記ローラコンベアの搬送経路上の下流側に配設され、ローラコンベアによって搬送される基板の下流側端部の隅部に当接する可動アライメント部材を有する基板の基準位置決め用アライメント機構と、前記ローラコンベアの搬送経路上の上流側に配設され、ローラコンベアによって搬送される基板の上流側端部の隅部に当接可能な可動アライメント部材を有する基板の確定位置決め用アライメント機構と、を更に具備する方がよい。
【００２３】
また、本発明の基板受渡装置は、基板を水平方向に搬送可能な第１ローラコンベアと、 前記第１ローラコンベアの上方に配置され、基板を水平方向に搬送可能な第２ローラコンベアと、 基板を水平方向、鉛直方向及び鉛直軸回りに回転自在に移動可能なフォークを有する搬送アームと、 基板を枚葉毎に収納可能な収納部を積層した基板収納部と、 前記搬送アームが受け渡す基板の処理ユニットと、 前記処理ユニット上の基板の有無を検出する手段と、 前記搬送アームを制御する制御手段と、を具備し、 前記第１ローラコンベアは、駆動ローラ列とフリーローラ列を並列に配列し、前記フリーローラ列を隣接する前記駆動ローラ列側へ移動して、駆動ローラ列とフリーローラ列の間に空間を形成するフリーローラ移動機構を具備し、 前記第２ローラコンベアは、前記搬送アームのフォークが挿入可能な空間をおいて並列される駆動ローラ列を具備し、 前記制御手段の制御信号に基づいて、前記処理ユニット上に基板の有りを検出した場合は、前記第１ローラコンベア上の基板を前記基板収納部へ受け渡し、 前記処理ユニット上に基板の無しを検出した場合は、前記第１ローラコンベア上の基板を前記処理ユニットへ受け渡す、ことを特徴とする。
【００２４】
また、本発明の基板受渡方法は、駆動ローラ列とフリーローラ列を並列に具備するローラコンベアにより基板を水平方向に搬送する工程と、 基板を減速センサにより検出し、検出した信号に基づいて前記駆動ローラの回転を減速する工程と、 基板を停止センサにより検出し、検出した信号に基づいて前記駆動ローラの回転を所定の時間経過後に停止する工程と、 アライメント機構のアライメント部材により基板の搬送経路上の下流側の隅部を当接して基準の位置決めを行う工程と、 前記フリーローラを隣接する駆動ローラ列側に移動して空間を作る工程と、 アライメント機構のアライメント部材により基板の搬送経路上の上流側の隅部を当接して基板の位置決めを確定する工程と、 基板を水平方向、鉛直方向及び鉛直軸回りに回転自在に移動可能な搬送アームのフォークを、基板の搬送方向と直交する方向から、前記フリーローラを移動してできた空間に挿入して、ローラコンベア上の基板を搬送アームへ受け渡す工程と、を含むことを特徴とする。
【００２５】
本発明に係る基板受渡方法において、前記減速センサが基板を検出した信号に基づいて、前記駆動ローラの回転を減速する工程の開始時期と同時期に前記フリーローラを搬送方向と同一方向に移動して搬送アームのフォークが挿入できる空間を作る工程を含むようにしてもよい。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、基板を受け渡すときには、フリーローラ列を隣接する駆動ローラ列側へ移動して形成された空間に基板搬送方向と直交する方向から搬送アームのフォークを挿入して、ローラコンベア上の基板を搬送アームに受け渡すことができるので、昇降ピン及び昇降ピンの昇降機構無しで受け渡しを行うことができ、受け渡し時間を短縮することができる。また、基板の搬送時には、基板を並列に配列された駆動ローラ列とフリーローラ列によって支持するので、基板を安定させた状態で搬送することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】従来の基板受渡装置を示す概略平面図（ａ）及び概略断面図（ｂ）である。
【図２】従来の基板受渡装置の受け渡しの手順を示す概略断面図である。
【図３】本発明に係る基板受渡装置を示す概略平面図（ａ）、概略断面図（ｂ）及び（ａ）のＩ部拡大図（ｃ）である。
【図４】本発明に係る基板受渡装置の受け渡しの手順を示す概略断面図である。
【図５】本発明における第２ローラコンベアを示す概略平面図（ａ）及び概略断面図（ｂ）である。
【図６Ａ】本発明における積層されたローラコンベア及び基板収納部、及び搬送アームと処理ユニットを示す概略平面図である。
【図６Ｂ】本発明における積層されたローラコンベア及び基板収納部、及び搬送アームと処理ユニットを示す概略断面図である。
【図７】本発明における積層されたローラコンベア及び基板収納部、及び搬送アームを示す概略断面図である。
【図８】本発明に係る基板受渡装置を適用した塗布・現像装置を示す概略平面図である。
【図９】前記塗布・現像装置の処理フロー図である。
【図１０Ａ】本発明における基板受け渡しの処理フロー図である。
【図１０Ｂ】本発明における基板受け渡しの別の処理フロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下に、本発明に係る基板受渡装置をＦＰＤ基板のレジスト塗布・現像処理装置に適用した場合について説明する。
【００２９】
図８に、本発明の基板受渡理装置を適用できる一構成例としての塗布・現像処理システムを示す。この塗布現像処理システム２００は、クリーンルーム内に設置され、例えばＦＰＤ基板を被処理基板（以下に基板Ｇという）とし、ＦＰＤ製造プロセスにおいてフォトリソグラフィー工程の中の洗浄、レジスト塗布、プリベーク、現像及びポストベーク等の各処理を行うものである。
【００３０】
この塗布現像処理システム２００は、大きく４つのブロックから構成されている。基板Ｇを収納するカセットＣＳＴを外部装置と受け渡しを行うカセットステーション部（Ｃ／Ｓ）２０１と、薬液を基板Ｇに塗布する塗布ライン部２０２と、露光装置２０４と基板Ｇの受け渡しを行うインターフェース部（Ｉ／Ｆ）２０３と、露光後に基板Ｇを現像する現像ライン部２０５とから構成されている。なお、露光装置２０４はインターフェース部２０３に隣接して設置されている。
【００３１】
次に、各部の大きな構成について説明する。カセットステーション部（Ｃ／Ｓ）２０１は、基板Ｇを多段に積層して複数枚収容可能なカセットＣＳＴが水平方向例えばＸ方向に４個まで並べて載置可能なカセットステージ１００と、このステージ１００のカセットＣＳＴに対して基板Ｇの出し入れを行う搬送機構１０１とを備えている。
【００３２】
搬送機構１０１は、基板Ｇを保持できる手段、例えば搬送アーム１０２を有し、水平のＸ，Ｙ方向，鉛直のＺ方向、及び鉛直軸回りのθ方向の４軸で動作可能であり、隣接する塗布ライン部２０２と現像ライン２０５に対して基板Ｇの受け渡しを行えるようになっている。
【００３３】
上流部の塗布ライン部２０２には、洗浄プロセス部２１０、第１の熱的処理部２１１、２段パスユニット部２１２、パスユニット部２１２に隣接し、塗布ライン部２０２と現像ライン部２０５の空間に位置する塗布プロセス部２１３、塗布ライン部２０２に戻り第２の熱的処理部２１９が順番に配置されている。なお、装置構成によって各部の長さを調整するための基板をローラ搬送するだけのローラコンベア部（ＣＯＮＶ）２２０が配置されている。
【００３４】
一方、インターフェース部（Ｉ／Ｆ）２０３側からカセットステーション（Ｃ／Ｓ）２０１側へ向う下流部の現像ライン部２０５には、現像プロセス部２２０と、第３の熱的処理部２２３を配置している。なお、装置構成によって各部の長さを調整するための基板Ｇをローラ搬送するだけのローラコンベア部（ＣＯＮＶ）２２１が配置されている。また、基板Ｇの処理スピードをカセットステーションと調整するための多段バッファ部２２４を配置している。
【００３５】
次に、処理部の各ユニット構成について説明する。上流部の塗布ライン部２０２において、洗浄プロセス部２１０は、搬送機構１０１と隣接する場所にエキシマＵＶ照射ユニット（ｅ−ＵＶ）１０２とスクラバ洗浄ユニット（ＳＣＲ）１０３を配置している。エキシマＵＶ照射によりオゾンＯ３を発生させて洗浄を行う。スクラバ洗浄ユニット（ＳＣＲ）１０３内の洗浄部は、基板Ｇをローラ搬送により水平姿勢で搬送しながら基板Ｇの上面（被処理面）にブラッシング洗浄やブロー洗浄を行う。
【００３６】
洗浄プロセス部２１５の下流側に隣接する第１の熱処理部２１１は、脱水ベーク用の加熱ユニット（ＤＨＰ）１０４、塗布液の密着性を高めるアドヒージョンユニット（ＡＤ）１０５、基板の温度を一定に保つ冷却ユニット（ＣＯＬ）１０６から構成されている。
【００３７】
次に図６Ａ，図６Ｂ及び図７に示すように２段パスユニット部２１２は基板Ｇを塗布プロセス部２１３に送出するためのインパスユニット１０７、塗布後の基板Ｇを払い出すためのアウトパスユニット１０８、塗布プロセス部２１３で基板Ｇが処理中の場合に一時的に基板Ｇを収納して待機するための２段パス多段バッファユニット１０９が積層されている。
【００３８】
２段パスユニット部２１２に隣接して塗布プロセス部２１３が配置されていて、インパスユニット１０７から受け渡す搬送アーム１１０、薬液を基板Ｇに塗布する塗布ユニット１１１、塗布された基板Ｇを減圧乾燥する減圧乾燥ユニット１１２が配置されている。
【００３９】
塗布ユニット１１１は薬液を塗布後に回転して薬液を均一に広げるスピン方式と、長尺スリット状のノズルから薬液を吐出して基板Ｇ上を相対的に移動しながら塗布するスピンレス方式がある。減圧乾燥ユニット１１２では密閉空間内で低減圧状態にすることにより加熱せずに塗布液の溶媒を蒸発させる。減圧乾燥ユニット１１２では減圧乾燥後に塗布された薬液の不要な端縁部をシンナーにより除去するエッジリムーバを備えている。
【００４０】
図７に示すように搬送アーム１１０は以下の構成になっている。すなわち、搬送アーム１１０は、搬送アームＺ軸である鉛直方向への移動はＺ軸を駆動するＺ軸モータ８５、Ｚ軸のガイドレール８１、ガイドレール上にあるＺ軸を昇降するＺ軸昇降部材８２から構成されている。搬送アーム１１０を鉛直軸回りに旋回するθ軸はθ軸モータ８６、θ軸旋回部材８３から構成されている。なお、θ軸旋回部材８３はＺ軸昇降部材８２の架台の上に配置されている。搬送アームのフォーク１０１の進退はモータ８７によって行われる。フォーク１０１はθ軸旋回部材８３の架台の上に配置されている。
【００４１】
このような構造により搬送アーム１１０は、Ｚ軸、θ軸、Ｘ軸にアクセス可能なことによりインパスユニット１０７、アウトパスユニット１０８、２段パス多段バッファユニット１０９、塗布ユニット１１１、減圧乾燥ユニット１１２のいずれにもアクセスすることができる。
【００４２】
２段パスユニット部２１２下流の第２熱処理部２１９は、基板Ｇに塗布された薬液を固めるプリベークユニット１１３、基板の温度を安定化させるクーリングユニット１１４を備えている。
【００４３】
インターフェース部２０３は、露光装置２０４に払い出すためのパスユニット１１５、露光機で基板Ｇを処理中の場合に一時的に基板Ｇを一枚毎に収納する多段バッファユニット（Ｔ−ＢＵＦ）１１７、露光後の基板Ｇを現像ラインに払い出すためのパスユニット１１８、基板Ｇを前記ユニット及び露光装置２０４間で受け渡す搬送アーム１１６を備えている。搬送アーム１１６はＺ軸、θ軸、Ｘ軸にアクセス可能になっている。
【００４４】
下流部の現像ライン部２０５において、現像プロセス部２２２は現像ユニット１２０、現像液をリンスするリンスユニット１２１、現像液及びリンス液を乾燥させるドライユニット１２２を備えている。
【００４５】
第３の熱処理部２２３は、現像を安定化させるポストベークユニット１２３、基板Ｇを安定化させるクーリングユニット（ＣＯＬ）１２４を備えている。
【００４６】
図９に、この塗布現像処理システムにおける処理の手順を示す。先ず、カセットステーション部（Ｃ／Ｓ）２０１において、搬送機構１０１が、ステージ１００上の所定のカセットＣの中から１つの基板Ｇを取り出し、洗浄プロセス部２１０のエキシマＵＶ照射ユニット（ｅ−ＵＶ）１０２に搬入する（ステップＳ1）。
【００４７】
エキシマＵＶ照射ユニット（ｅ−ＵＶ）１０２内で基板Ｇは紫外線照射による乾式洗浄を施される（ステップＳ2）。この紫外線洗浄では主として基板表面の有機物が除去される。紫外線洗浄の終了後に、ローラ搬送によって洗浄プロセス部２４のスクラバ洗浄ユニット（ＳＣＲ）１０３へ移される。
【００４８】
スクラバ洗浄ユニット（ＳＣＲ）１０３では、ローラ搬送により水平姿勢で平流しで搬送しながら基板Ｇの上面（被処理面）にブラッシング洗浄やブロー洗浄を施すことにより、基板表面から粒子状の汚れを除去する（ステップＳ３）。なお、洗浄後も基板Ｇを平流しで搬送しながらエアーナイフ等によって液切りして、基板Ｇを乾燥させる。スクラバ洗浄ユニット（ＳＣＲ）１０３内で洗浄処理の済んだ基板Ｇは、第１熱処理部２１１の加熱ユニット（ＤＨＰ）１０４に移される。
【００４９】
第１熱処理部２１１において、加熱ユニット（ＤＨＰ）１０４に移され、そこで脱水処理を受ける（ステップＳ4）。次に、基板Ｇは、冷却ユニット（ＣＯＬ）１０６に移され、そこで一定の基板温度まで冷却される（ステップＳ５）。
【００５０】
しかる後、基板Ｇはアドヒージョンユニット（ＡＤ）１０５に移され、そこで疎水化処理を受ける（ステップＳ６）。疎水化処理により基板Ｇとレジスト液の密着性を高める。この疎水化処理の後に、基板Ｇは冷却ユニット（ＣＯＬ）１０６で基板を一定の常温の温度まで冷却される（ステップＳ７）。そして、２段パスユニット部２１２に移される。
【００５１】
次に２段パスユニット部２１２のインパスユニット１０７に移された基板Ｇを塗布プロセス部２１３の搬送アーム１１０により塗布ユニット（ＣＴ）１１１に受け渡される。本発明であるこの動作については詳細な動作は後述する。
【００５２】
基板Ｇは塗布ユニット（ＣＴ）１１１で、スピンコート法もしくはスリットコート法により基板上面（被処理面）にレジスト液を塗布される（ステップＳ８）。
【００５３】
次に搬送アーム１１０により塗布ユニット１１１から減圧乾燥ユニット（ＶＤ／ＥＲ）１１２に移される。減圧により塗布されたレジスト液の溶媒の乾燥処理を行う。次いで同ユニット内で基板周縁部の余分（不要）なレジストをエッジリムーバ・ユニット（ＥＲ）で取り除かれる（ステップＳ９）。処理終了後、減圧乾燥ユニット１１２の基板は搬送アーム１１０によりインパスユニット１０７の上部に配置したアウトパスユニット１０８へ移される。移された基板はローラ搬送により第２熱処理部２１９のプリベークユニット１１３へ移される。
【００５４】
第２熱処理部２１９のプリベークユニット（ＰＲＥ−ＢＡＫＥ）１１３でレジスト塗布後のベーキングを行う（ステップＳ１０）。この処理により基板Ｇ上に塗布されたレジスト膜中に残留する溶媒を蒸発させ、レジスト膜と基板Ｇの密着性を強化する。
【００５５】
次に、基板Ｇは、冷却ユニット（ＣＯＬ）１１４に移され、そこで一定の基板温度まで冷却される（ステップＳ１１）。基板Ｇはコンベアローラ（ＣＯＮＶ）２２０に搬送され、インターフェース部２０３のパスユニット１１５へ搬入される。コンベアローラの長さはシステムのレイアウトにより異なる。
【００５６】
パスユニット１１５に搬送された基板Ｇは搬送アーム１１６によって露光装置２０４に受け渡され所定のパターンに露光される（ステップＳ１３）。露光装置２０４に基板Ｇが既に搬入されて処理中の場合は、多段バッファ１１７に一時的に収納される。搬送アームは鉛直方向、鉛直軸回り、進退自在に動作可能で、パスユニット１１５、多段バッファ１１７、露光装置２０４、パスユニット１１８へのアクセスが可能である。
【００５７】
露光済の基板Ｇは搬送アーム１１６により露光装置２０４からパスユニット１１８（ＰＡＳＳ）に受け渡たされる (ステップＳ１４) 。次にパスユニット１１８よりコンベアローラ１１９を経由して現像ライン現像ユニット１２０へ受け渡される。
【００５８】
現像ユニット（ＤＥＶ）１２０において基板Ｇは平流し方式で搬送され、その搬送中に現像ユニット１２０、リンスユニット１２１、乾燥ユニット１２２で一連の現像処理工程が行われる（ステップＳ１５）。現像ユニット１２０では露光機で露光した、もしくはされなかった部分のレジストを現像液で洗い流し、リンスユニット１２１で現像液の洗い流し、乾燥ユニット１２２で残存している純水を乾燥して除去する。
【００５９】
次に、第３熱処理部２２３のポストベークユニット（ＰＯＳＴ−ＢＡＫＥ）１２３に移され、そこでポストベーキングが行われる（ステップＳ１６）。ここでは現像によって形成されたレジストパターンを、基板Ｇとの密着性を向上させるためポストベークを行っている。次に、基板Ｇは、クーリングユニット（ＣＯＬ）１２４に移され、そこで所定の基板温度に冷却される（ステップＳ１７）。
【００６０】
第３熱処理部３６のクーリングユニット（ＣＯＬ）から多段バッファ（Ｔ−ＢＵＦ）１１２５、及びコンベアローラ１２６を経由して搬送アーム１０２が基板Ｇを受け取り、カセットステーション（Ｃ／Ｓ）２０１のいずれか１つのカセットＣに収容する（ステップＳ１８）。
【００６１】
もし、カセットステーション部２０１が稼働中もしくはカセットＣＳＴの基板Ｇが一杯で受け入れられなかった場合は、バッファ部２２４の多段バッファユニット１２５に一時的に収納される。これで一連の塗布現像処理が終了する。
【００６２】
この塗布現像処理システム２００において、基板Ｇの受渡装置を本発明に適用することができる。以下、図６Ａ，図６Ｂを参照して本発明に係る基板受渡装置を２段パスユニット部２１２と塗布プロセス部２１３との基板Ｇの受け渡しを適用した実施形態を説明する。
【００６３】
図６Ａ，図６Ｂに示すように上流部から搬送されてきた基板Ｇはインパスユニット１０７へ搬入される。また、減圧乾燥ユニット１１２での処理が終了した基板Ｇは搬送アーム１１０によりアウトパスユニット１０８に受け渡される。インパスユニット１０７には、この発明に係る基板受渡装置を構成する第１ローラコンベアＲＣ１が備えられ、アウトパスユニット１０８には、基板受渡装置を構成する第２ローラコンベアＲＣ２が備えられている。
【００６４】
以下に、基板受渡装置について説明する。基板受渡装置は、図３ないし図５に示すように、基板Ｇを水平方向に搬送可能な第１ローラコンベアＲＣ１と、基板Ｇを水平のＸ，Ｙ方向、鉛直のＺ方向及び鉛直軸回りのθ方向に回転自在に移動可能なフォーク１０１を有する搬送アーム１１０とを具備している。
【００６５】
第１ローラコンベアＲＣ１は、駆動シャフト５５に適宜間隔をおいて駆動ローラ５６を装着した駆動ローラ列と、フリーローラシャフト５７に適宜間隔を置いてフリーローラ５９を回転自在に装着したフリーローラ列とを並列に配列してなり、フリーローラ列を隣接する駆動ローラ列側へ移動して、駆動ローラ列とフリーローラ列の間に空間Ｉを形成するフリーローラ移動機構であるフリーローラ駆動用のシリンダ６５と、を具備してなり、空間Ｉに搬送アーム１１０のフォーク１０１を搬送方向と直交する方向から挿入して、第１ローラコンベアＲＣ１上の基板Ｇを搬送アーム１１０に受け渡すように構成されている。
【００６６】
図３に示すように、駆動シャフト５５は、インパスユニット１０７の架台５０の上のシャフトサポート部６４のベアリング５８によって回転自在に支承されており、架台５０に設置された駆動源例えば駆動モータ５１の駆動によって基板の搬送方向に回転されるように構成されている。この場合、駆動モータ５１は基板搬送方向と平行に延びる回転シャフト５２が連結されており、回転シャフト５２に装着された例えばベベルギアからなるギア５３が、駆動シャフト５５の一端部に装着されるベベルギアからなるギア５４に噛合して、駆動モータ５１の駆動が駆動シャフト５５及び駆動ローラ５６に伝達されるようになっている。なお、駆動機構を駆動モータ５１、ギア５３，５４に代えて動力の伝達はギアを使用せずにマグネットの磁力を利用した非接触型の動力伝達機構で駆動してもよい。
【００６７】
一方、フリーローラ５９を回転自在に装着したフリーローラシャフト５７は、フリーローラ移動機構であるフリーローラ駆動用のシリンダ６５に連結されて、隣接する駆動シャフト５５側に接離移動し得るように構成されている。
【００６８】
この場合、シリンダ６５は、図４（ａ）に示すように、第１ローラコンベアＲＣ１の下方に横設されるシリンダ本体６５ａと、シリンダ本体６５ａ内を摺動する一対のピストン６５ｂを有するスプール６５ｃと、シリンダ本体６５ａの両端部に設けられたポート６５ｄ，６５ｅに接続する管路６５ｆと、管路６５ｆに切換弁６５ｇ及び開閉弁６５ｈを介して接続される空気供給源６５ｉと、を具備している。なおこの場合、切換弁６５ｇは、空気供給源６５ｉから供給される空気を一方例えばポート６５ｄに供給した場合は、他方のポート６５ｅから排出される空気を外部に排気する切換機構を有している。
【００６９】
またシリンダ６５は、スプール６５ｃに連結されてシリンダ本体６５ａの上部に設けられた軸向に沿うスリット６５ｊを介して上方に突出する連結部材６５ｋを具備しており、この連結部材６５ｋにフリーローラシャフト５７が連結されている。
【００７０】
このように構成されるシリンダ６５によれば、後述する制御手段であるコントローラ３００からの制御信号に基づいて切換弁６５ｇが切り換えられた状態で、空気供給源６５ｉから空気が一方のポート６５ｄからシリンダ本体６５ａ内に供給され、他方のポート６５ｅから空気が排出されることで、フリーローラシャフト５７及びフリーローラ５９を有するフリーローラ列が隣接する駆動ローラ列側に移動して、搬送アーム１１０のフォーク１０１が挿入可能な空間Ｉを形成することができる（図３参照）。また、前記の逆の動作を行うことによってフリーローラ列は元の位置に復帰し、駆動ローラ列の駆動ローラ５６とフリーローラ５９とが協働して基板Ｇを搬送する。
【００７１】
また、第１ローラコンベアＲＣ１における基板Ｇの搬送経路の最下流側に位置する駆動シャフト５５の中央部の近傍位置には、駆動シャフト５５を挟んで上流側と下流側に、基板Ｇの端部を検知する減速センサＳＡと停止センサＳＢが配設されている。これら減速センサＳＡと停止センサＳＢは光センサによって形成されている。
【００７２】
また、第１ローラコンベアＲＣ１における基板Ｇの搬送経路の下流側の両端部には、第１ローラコンベアＲＣ１によって搬送される基板Ｇの下流側端部の隅部に当接する可動アライメント部材６１を有する基板Ｇの基準位置決め用アライメント機構６０Ａが配設されている。また、第１ローラコンベアＲＣ１における基板Ｇの搬送経路の上流側の両端部には、第１ローラコンベアＲＣ１によって搬送される基板Ｇの上流側端部の隅部に当接する可動アライメント部材６１を有する基板の確定位置決め用アライメント機構６０Ｂが配設されている。
【００７３】
この場合、基準位置決め用アライメント機構６０Ａと確定位置決め用アライメント機構６０Ｂは、基準位置決め用アライメント機構６０Ａを代表して説明すると、図３（ｃ）に示すように、シリンダ体６０ａ内に摺動可能に配設されるピストン６０ｂと、ピストン６０ｂに連結してシリンダ体６０ａの一端壁６０ｃに設けられた貫通孔６０ｄを貫通する互いに平行な２本の支持部材６１ａと両支持部材６１ａの先端部に回転自在に装着されるローラ６１ｂとからなる可動アライメント部材６１と、可動アライメント部材６１を搬送される基板Ｇの隅部に向かって進退移動する図示しない加圧手段と、を具備している。このように構成することにより、加圧手段によって可動アライメント部材６１を基板Ｇの隅部に向かって移動すると、２本の支持部材ａの先端部に回転自在に装着された２個のローラ６１ｂが基板Ｇの隅部の両面に当接して位置決めが行われる。
【００７４】
前記駆動モータ５１，シリンダ６５，基準位置決め用アライメント機構６０Ａ，確定位置決め用アライメント機構６０Ｂ，搬送アーム１１０，減速センサＳＡ及び停止センサＳＢは、制御手段であるコントローラ３００に電気的に接続されており、減速センサＳＡ，停止センサＳＢによって検出された信号を受けたコントローラ３００からの制御信号に基づいて駆動モータ５１，シリンダ６５，基準位置決め用アライメント機構６０Ａ，確定位置決め用アライメント機構６０Ｂ及び搬送アーム１１０が制御されるように構成されている。
【００７５】
一方、第２ローラコンベアＲＣ２は、図５に示すように、駆動シャフト５５に適宜間隔をおいて駆動ローラ５６を装着した駆動ローラ列を並列に配列してなり、隣接する駆動ローラ列間に搬送アーム１１０のフォーク１０１を搬送方向と直交する方向から挿入して、第２ローラコンベアＲＣ２上の基板Ｇを搬送アーム１１０に受け渡すように構成されている。
【００７６】
なお、第２ローラコンベアＲＣ２の駆動機構は、第１ローラコンベアＲＣ１の駆動機構と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。
【００７７】
搬送アーム１１０は図７に示すように以下の構成になっている。搬送アーム１１０の上下（Ｚ軸）移動はガイドレール８１と、ガイドレール８１に沿って昇降する昇降部材８２と、昇降部材８２を駆動するＺ軸モータから構成されている。θ軸はθモータ８６によって昇降部材８２がガイドレール８１に沿って回転するようになっている。Ｘ軸は昇降機構８２上のベース部材８３上のフォーク１０１がＸ軸駆動モータ８７によって前後に駆動される。
【００７８】
このように搬送アーム１１０はインパスユニット１０７、アウトパスユニット１０８、２段パス多段バッファユニット１０９、塗布ユニット１１１、減圧乾燥ユニット１１２のいずれにもアクセスすることができる。なお、２段パス多段バッファユニット１０９に設けられた収納部１０９ａの底部には基板Ｇを支持する複数の支持ピン１０９ｂが立設されている。
【００７９】
次に、図３〜図７，図１０Ａ，図１０Ｂを参照して、基板Ｇの処理手順について説明する。まず、図４（ａ）に示すように上流部から搬送されてきた基板Ｇが駆動ローラ５６の駆動力とフリーローラ５９のサポートによりインパスユニット１０７に搬入されてくる（ステップＳＡ１）。インパスユニット１０７の第１ローラコンベアＲＣ１に搬入された基板Ｇを減速センサＳＡが検出する（ステップＳＡ２）。減速センサＳＡの検出に基づくコントローラ３００からの制御信号に基づいて駆動モータ５１が減速を始める（ステップＳＡ３）。次に停止センサＳ２が基板Ｇを検出する（ステップＳＡ４）。停止センサＳＢの検出に基づくコントローラ３００からの制御信号に基づいて所定の時間が経過すると駆動モータ５１が完全に停止する。同時に基板Ｇの搬送も停止する（ステップＳＡ５）。
【００８０】
次に基板Ｇの位置決めを行う。まず、図３に示すように基板Ｇの下流側の隅部に基準の位置決めアライメント機構６０Ａの可動アライメント部材６１が伸長して基板Ｇを当接して基準の位置決めを行う（ステップＳＡ６）。
【００８１】
前記停止センサＳ２が基板Ｇを検出して所定の時間経過後に駆動モータ５１が停止することにより基板Ｇが停止するが、基板Ｇの停止位置は基準の位置決めアライメント機構６０Ａと密接な関係があり、基準の位置決めアライメント機構６０Ａの可動アライメント部材６１が伸長したときに基板Ｇに丁度接する位置に停止するように時間を設定している。
【００８２】
次に基板Ｇが完全に停止すると図４（ｂ）のステップへ移る。フリーローラ駆動用シリンダ６５が駆動することにより連結されているフリーローラシャフト５７がＩＮの位置から下流側ＯＵＴの位置に移動する（ステップＳＡ７）。
【００８３】
これにより空間Ｉ(Interspace)ができる。搬送アームフォーク１０１が挿入できる空間Ｉができれば、空間Ｉはフリーローラ５９を上流側もしくは下方に移動してもよい。フリーローラ５９の移動はモータ駆動によって行ってもよい。
【００８４】
次に基板Ｇの上流側にある確定の位置決めアライメント機構６０Ｂが基板Ｇの隅部を当接して位置決めの確定を行う（ステップＳＡ８）。つまり、下流側のアライメント、フリーローラ５９の移動、上流側のアライメントの順番に位置決めを行うことにより、基板Ｇに負担がかからない位置決めを行うことができる。
【００８５】
次に、アライメント機構６０Ａと６０Ｂが後退する（ステップＳＡ９）。アライメントが終了したら、搬送アーム１１０のフォーク１０１が空間Ｉに挿入（Ｘ軸）される（ステップＳＡ１０）。次に図３（ｃ）に示すように、フォーク１０１がｈ２の距離をＵＰ（Ｚ軸）して基板Ｇを保持する。次にフォークがＸ軸方向に引かれて、搬送アーム１１０のフォーク１０１に受け渡される（ステップＳＡ１１）。最後にフリーローラ列はフリーローラ駆動用シリンダ６５が元に戻ることにより原点位置に戻る（ステップＳＡ１２）。そして最初の基板搬入ステップＳＡ１に戻ることができ、次の基板Ｇが受け入れ可能になる。
【００８６】
このように昇降ピン無しに基板の受け渡しが可能になるので図２に示すｈ１の高さのスペースが不要になる。
【００８７】
図１０Ｂに示す受け渡しフローＢは、フリーローラ列の移動（ステップＳＡ７）を減速センサＳＡ検出（ステップＳＡ２）の信号により駆動ローラ５６の減速（ステップＳＡ３）と略同時に開始している。これによりステップが一回省略されるので、基板受け渡しの処理スピードを高めることができる。通常約１秒の処理スピードのアップが可能になる。
【００８８】
搬送アーム１１０に受け渡された基板Ｇは図６Ａに示す塗布ユニット１１１へ受け渡される。
【００８９】
もし、塗布ユニット１１１が処理中の場合は、塗布ユニット１１１に配設された基板有無検出センサＳＣが基板Ｇの有無を検出して、コントローラ３００に伝達し、コントローラ３００からの制御信号に基づいて搬送アーム１１０が駆動して、２段パス多段バッファユニット１０９のいずれかの収納部１０９ａへ一時的に収納される。搬送アーム１１０のフォーク１０１は支持ピン１０９ｂの間に挿入されて受け渡される。塗布ユニット１１１の処理が終了して減圧乾燥ユニット１１２へ基板Ｇが受け渡されたら、基板収納部１０９に待機している基板Ｇを搬送アーム１１０により、塗布ユニット１１１へ受け渡す。
【００９０】
塗布ユニット１１１でレジストの塗布が終了した基板Ｇは、搬送アーム１１０によって減圧乾燥ユニット１１２に受け渡される。減圧乾燥ユニット１１２で塗布されたレジストの乾燥と、塗布部周縁部をシンナーで除去する。
【００９１】
減圧乾燥ユニット１１２での処理が終了したらアウトパスユニット１０８に搬送アーム１１０より基板Ｇを水平方向に搬送可能な第２ローラコンベアＲＣ２に受け渡される。第２ローラコンベアＲＣ２は、前述したように駆動ローラ列が並列に配置され、駆動ローラ列の間に搬送アーム１１０のフォーク１０１を挿入できる空間を具備している。また、第２ローラコンベアＲＣ２は昇降ピン及び昇降ピンの駆動機構は備えていない。搬送アーム１１０のフォーク１０１を搬送方向と直交する方向から挿入して、搬送アーム１１０上の基板Ｇをアウトパスユニット１０８の第２ローラコンベアＲＣ２上に受け渡す。昇降ピンを備えていないので、通常の昇降ピン方式より一回の受け渡しで約６秒の処理時間が短縮される。つまり、例えばＦＰＤ基板の製造装置におけるローラコンベア上の基板Ｇを搬送アームに受け渡す場合は、通常、昇降ピンの上昇に３秒、下降に３秒は必要で、一回の受け渡しに計６秒を要するので、昇降ピン機構を無くすことによって装置全体の処理時間を大きく短縮することができる。
【００９２】
また、アウトパスユニット１０８はインパスユニット１０７の上部に配置してあり、塗布・現像システムの占有面積を低減している。このように第１，２ローラコンベアＲＣ１，ＲＣ２の搬送方向と直交する方向から搬送アーム１１０を挿入することが可能になったことにより、図８の塗布・現像装置２００に示すように塗布ライン部２０２と現像ライン部２０５の間に必要に応じて処理ユニットの配置が可能になり、クリーンルームの占有面積を低減してコストダウンを図ることできる。
【００９３】
本発明における基板受渡装置は塗布現像システムに限るものではなく、ローラコンベアと搬送アーム間の基板の受け渡し機構の全てに適用することができる。
【符号の説明】
【００９４】
Ｇ 基板
ＳＡ 減速センサ
ＳＢ 停止センサ
ＳＣ 基板有無検出センサ
ＲＣ１ 第１ローラコンベア
ＲＣ２ 第２ローラコンベア
５０ 架台
５６ 駆動ローラ
５９ フリーローラ
６０Ａ 基準の位置決めアライメント
６０Ｂ 確定の位置決めアライメント
６５ フリーローラ駆動用シリンダ（フリーローラ移動機構）
１０１ 搬送アームフォーク
１０７ インパスユニット
１０８ アウトパスユニット
１０９ ２段パス多段バッファユニット
１０９ａ パスユニット多段バッファ収納部
１１０ 搬送アーム
２１２ ２段パスユニット部
３００ コントローラ（制御手段）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を水平方向に搬送可能なローラコンベアと、
基板を水平方向、鉛直方向及び鉛直軸回りに回転自在に移動可能なフォークを有する搬送アームと、を具備し、
前記ローラコンベアは、駆動ローラ列とフリーローラ列を並列に配列し、前記フリーローラ列を隣接する前記駆動ローラ列側へ移動して、駆動ローラ列とフリーローラ列の間に空間を形成するフリーローラ移動機構を具備してなり、
前記空間に前記搬送アームのフォークを搬送方向と直交する方向から挿入して、前記ローラコンベア上の基板を搬送アームに受け渡す、
ことを特徴とする基板受渡装置。
【請求項２】
前記ローラコンベアの搬送経路上の下流側に配置され、基板搬送の減速開始位置を検出する減速センサ及び基板の停止位置を検出する停止センサと、前記減速センサ及び停止センサからの検出信号に基づいて前記駆動ローラの駆動機構を制御する制御手段と、を更に具備し、
前記制御部の制御信号に基づいて、前記ローラコンベアによって搬送されてきた基板を前記減速センサが検出した後、所定の時間経過後に前記駆動ローラを減速し、前記停止センサが検出した後、前記駆動ローラを停止する、ことを特徴とする請求項１記載の基板受渡装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記減速センサからの検出信号に基づいて前記フリーローラ移動機構を制御可能に形成され、前記ローラコンベアによって搬送されてきた基板を前記減速センサが検出した後、前記フリーローラ列を隣接する駆動ローラ列側へ移動して、前記空間を形成する、ことを特徴とする請求項２記載の基板受渡装置。
【請求項４】
前記ローラコンベアの搬送経路上の下流側に配設され、ローラコンベアによって搬送される基板の下流側端部の隅部に当接する可動アライメント部材を有する基板の基準位置決め用アライメント機構と、
前記ローラコンベアの搬送経路上の上流側に配設され、ローラコンベアによって搬送される基板の上流側端部の隅部に当接可能な可動アライメント部材を有する基板の確定位置決め用アライメント機構と、を更に具備することを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の基板受渡装置。
【請求項５】
基板を水平方向に搬送可能な第１ローラコンベアと、
前記第１ローラコンベアの上方に配置され、基板を水平方向に搬送可能な第２ローラコンベアと、
基板を水平方向、鉛直方向及び鉛直軸回りに回転自在に移動可能なフォークを有する搬送アームと、
基板を枚葉毎に収納可能な収納部を積層した基板収納部と、
前記搬送アームが受け渡す基板の処理ユニットと、
前記処理ユニット上の基板の有無を検出する手段と、
前記搬送アームを制御する制御手段と、を具備し、
前記第１ローラコンベアは、駆動ローラ列とフリーローラ列を並列に配列し、前記フリーローラ列を隣接する前記駆動ローラ列側へ移動して、駆動ローラ列とフリーローラ列の間に空間を形成するフリーローラ移動機構を具備し、
前記第２ローラコンベアは、前記搬送アームのフォークが挿入可能な空間をおいて並列される駆動ローラ列を具備し、
前記制御手段の制御信号に基づいて、前記処理ユニット上に基板の有りを検出した場合は、前記第１ローラコンベア上の基板を前記基板収納部へ受け渡し、
前記処理ユニット上に基板の無しを検出した場合は、前記第１ローラコンベア上の基板を前記処理ユニットへ受け渡す、
ことを特徴とする基板受渡装置。
【請求項６】
前記第１ローラコンベアの搬送経路上の下流側に配置され、基板搬送の減速開始位置を検出する減速センサ及び基板の停止位置を検出する停止センサと、前記減速センサ及び停止センサからの検出信号に基づいて前記駆動ローラの駆動機構を制御する制御手段と、を更に具備し、
前記制御部の制御信号に基づいて、前記第１ローラコンベアによって搬送されてきた基板を前記減速センサが検出した後、所定の時間経過後に前記駆動ローラを減速し、前記停止センサが検出した後、前記駆動ローラを停止する、ことを特徴とする請求項５記載の基板受渡装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記減速センサからの検出信号に基づいて前記フリーローラ移動機構を制御可能に形成され、前記第１ローラコンベアによって搬送されてきた基板を前記減速センサが検出した後、前記フリーローラ列を隣接する駆動ローラ列側へ移動して、前記空間を形成する、ことを特徴とする請求項６項記載の基板受渡装置。
【請求項８】
前記第１ローラコンベアの搬送経路上の下流側に配設され、第１ローラコンベアによって搬送される基板の下流側端部の隅部に当接する可動アライメント部材を有する基板の基準位置決め用アライメント機構と、
前記第ローラコンベアの搬送経路上の上流側に配設され、第１ローラコンベアによって搬送される基板の上流側端部の隅部に当接可能な可動アライメント部材を有する基板の確定位置決め用アライメント機構と、を更に具備することを特徴とする請求項５ないし７のいずれかに記載の基板受渡装置。
【請求項９】
駆動ローラ列とフリーローラ列を並列に具備するローラコンベアにより基板を水平方向に搬送する工程と、
基板を減速センサにより検出し、検出した信号に基づいて前記駆動ローラの回転を減速する工程と、
基板を停止センサにより検出し、検出した信号に基づいて前記駆動ローラの回転を所定の時間経過後に停止する工程と、
アライメント機構のアライメント部材により基板の搬送経路上の下流側の隅部を当接して基準の位置決めを行う工程と、
前記フリーローラを隣接する駆動ローラ列側に移動して空間を作る工程と、
アライメント機構のアライメント部材により基板の搬送経路上の上流側の隅部を当接して基板の位置決めを確定する工程と、
基板を水平方向、鉛直方向及び鉛直軸回りに回転自在に移動可能な搬送アームのフォークを、基板の搬送方向と直交する方向から、前記フリーローラを移動してできた空間に挿入して、ローラコンベア上の基板を搬送アームへ受け渡す工程と、
を含むことを特徴とする基板受渡方法。
【請求項１０】
前記減速センサが基板を検出した信号に基づいて、前記駆動ローラの回転を減速する工程の開始時期と同時期に前記フリーローラを搬送方向と同一方向に移動して搬送アームのフォークが挿入できる空間を作る工程を含むことを特徴とする請求項９項記載の基板受渡方法。
【請求項１】
基板を水平方向に搬送可能なローラコンベアと、
基板を水平方向、鉛直方向及び鉛直軸回りに回転自在に移動可能なフォークを有する搬送アームと、を具備し、
前記ローラコンベアは、駆動ローラ列とフリーローラ列を並列に配列し、前記フリーローラ列を隣接する前記駆動ローラ列側へ移動して、駆動ローラ列とフリーローラ列の間に空間を形成するフリーローラ移動機構を具備してなり、
前記空間に前記搬送アームのフォークを搬送方向と直交する方向から挿入して、前記ローラコンベア上の基板を搬送アームに受け渡す、
ことを特徴とする基板受渡装置。
【請求項２】
前記ローラコンベアの搬送経路上の下流側に配置され、基板搬送の減速開始位置を検出する減速センサ及び基板の停止位置を検出する停止センサと、前記減速センサ及び停止センサからの検出信号に基づいて前記駆動ローラの駆動機構を制御する制御手段と、を更に具備し、
前記制御部の制御信号に基づいて、前記ローラコンベアによって搬送されてきた基板を前記減速センサが検出した後、所定の時間経過後に前記駆動ローラを減速し、前記停止センサが検出した後、前記駆動ローラを停止する、ことを特徴とする請求項１記載の基板受渡装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記減速センサからの検出信号に基づいて前記フリーローラ移動機構を制御可能に形成され、前記ローラコンベアによって搬送されてきた基板を前記減速センサが検出した後、前記フリーローラ列を隣接する駆動ローラ列側へ移動して、前記空間を形成する、ことを特徴とする請求項２記載の基板受渡装置。
【請求項４】
前記ローラコンベアの搬送経路上の下流側に配設され、ローラコンベアによって搬送される基板の下流側端部の隅部に当接する可動アライメント部材を有する基板の基準位置決め用アライメント機構と、
前記ローラコンベアの搬送経路上の上流側に配設され、ローラコンベアによって搬送される基板の上流側端部の隅部に当接可能な可動アライメント部材を有する基板の確定位置決め用アライメント機構と、を更に具備することを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の基板受渡装置。
【請求項５】
基板を水平方向に搬送可能な第１ローラコンベアと、
前記第１ローラコンベアの上方に配置され、基板を水平方向に搬送可能な第２ローラコンベアと、
基板を水平方向、鉛直方向及び鉛直軸回りに回転自在に移動可能なフォークを有する搬送アームと、
基板を枚葉毎に収納可能な収納部を積層した基板収納部と、
前記搬送アームが受け渡す基板の処理ユニットと、
前記処理ユニット上の基板の有無を検出する手段と、
前記搬送アームを制御する制御手段と、を具備し、
前記第１ローラコンベアは、駆動ローラ列とフリーローラ列を並列に配列し、前記フリーローラ列を隣接する前記駆動ローラ列側へ移動して、駆動ローラ列とフリーローラ列の間に空間を形成するフリーローラ移動機構を具備し、
前記第２ローラコンベアは、前記搬送アームのフォークが挿入可能な空間をおいて並列される駆動ローラ列を具備し、
前記制御手段の制御信号に基づいて、前記処理ユニット上に基板の有りを検出した場合は、前記第１ローラコンベア上の基板を前記基板収納部へ受け渡し、
前記処理ユニット上に基板の無しを検出した場合は、前記第１ローラコンベア上の基板を前記処理ユニットへ受け渡す、
ことを特徴とする基板受渡装置。
【請求項６】
前記第１ローラコンベアの搬送経路上の下流側に配置され、基板搬送の減速開始位置を検出する減速センサ及び基板の停止位置を検出する停止センサと、前記減速センサ及び停止センサからの検出信号に基づいて前記駆動ローラの駆動機構を制御する制御手段と、を更に具備し、
前記制御部の制御信号に基づいて、前記第１ローラコンベアによって搬送されてきた基板を前記減速センサが検出した後、所定の時間経過後に前記駆動ローラを減速し、前記停止センサが検出した後、前記駆動ローラを停止する、ことを特徴とする請求項５記載の基板受渡装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記減速センサからの検出信号に基づいて前記フリーローラ移動機構を制御可能に形成され、前記第１ローラコンベアによって搬送されてきた基板を前記減速センサが検出した後、前記フリーローラ列を隣接する駆動ローラ列側へ移動して、前記空間を形成する、ことを特徴とする請求項６項記載の基板受渡装置。
【請求項８】
前記第１ローラコンベアの搬送経路上の下流側に配設され、第１ローラコンベアによって搬送される基板の下流側端部の隅部に当接する可動アライメント部材を有する基板の基準位置決め用アライメント機構と、
前記第ローラコンベアの搬送経路上の上流側に配設され、第１ローラコンベアによって搬送される基板の上流側端部の隅部に当接可能な可動アライメント部材を有する基板の確定位置決め用アライメント機構と、を更に具備することを特徴とする請求項５ないし７のいずれかに記載の基板受渡装置。
【請求項９】
駆動ローラ列とフリーローラ列を並列に具備するローラコンベアにより基板を水平方向に搬送する工程と、
基板を減速センサにより検出し、検出した信号に基づいて前記駆動ローラの回転を減速する工程と、
基板を停止センサにより検出し、検出した信号に基づいて前記駆動ローラの回転を所定の時間経過後に停止する工程と、
アライメント機構のアライメント部材により基板の搬送経路上の下流側の隅部を当接して基準の位置決めを行う工程と、
前記フリーローラを隣接する駆動ローラ列側に移動して空間を作る工程と、
アライメント機構のアライメント部材により基板の搬送経路上の上流側の隅部を当接して基板の位置決めを確定する工程と、
基板を水平方向、鉛直方向及び鉛直軸回りに回転自在に移動可能な搬送アームのフォークを、基板の搬送方向と直交する方向から、前記フリーローラを移動してできた空間に挿入して、ローラコンベア上の基板を搬送アームへ受け渡す工程と、
を含むことを特徴とする基板受渡方法。
【請求項１０】
前記減速センサが基板を検出した信号に基づいて、前記駆動ローラの回転を減速する工程の開始時期と同時期に前記フリーローラを搬送方向と同一方向に移動して搬送アームのフォークが挿入できる空間を作る工程を含むことを特徴とする請求項９項記載の基板受渡方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０Ａ】
【図１０Ｂ】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０Ａ】
【図１０Ｂ】
【公開番号】特開２０１２−５６７０６（Ｐ２０１２−５６７０６Ａ）
【公開日】平成２４年３月２２日（２０１２．３．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２０１５３９（Ｐ２０１０−２０１５３９）
【出願日】平成２２年９月９日（２０１０．９．９）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年３月２２日（２０１２．３．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年９月９日（２０１０．９．９）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
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