履き物用パッド
【課題】 履き物における足の前滑り、特に踵が高かったり、裸足など滑りやすい状態で履くことが多い履き物において使用する場合であっても、足の前滑りを有効に防止する。
【解決手段】 柔軟な弾性体からなり、履き物の中底上に載置される薄板状の基材２と、基材２上の少なくとも足裏と接触する領域に設けられた基材２を横断するように延びる複数の突起３とを備えている。各突起３は、頂部３０からつま先側および踵側にそれぞれ延びる前方面３１および後方面３２を備えており、前方面３１は、幅方向に垂直な断面における頂部３０から底部３３までの長さＬ１が、後方面３２の頂部３０から底部３４までの長さＬ２よりも短く設定されている。基材２の足の指の基節骨が当たる位置には、各突起３よりも高さの高い第１の丘状部４が形成されている。基材２上の足の第２および第３の中足骨が当たる位置には、各突起３よりも高さの高い第２の丘状部５が形成されている。
【解決手段】 柔軟な弾性体からなり、履き物の中底上に載置される薄板状の基材２と、基材２上の少なくとも足裏と接触する領域に設けられた基材２を横断するように延びる複数の突起３とを備えている。各突起３は、頂部３０からつま先側および踵側にそれぞれ延びる前方面３１および後方面３２を備えており、前方面３１は、幅方向に垂直な断面における頂部３０から底部３３までの長さＬ１が、後方面３２の頂部３０から底部３４までの長さＬ２よりも短く設定されている。基材２の足の指の基節骨が当たる位置には、各突起３よりも高さの高い第１の丘状部４が形成されている。基材２上の足の第２および第３の中足骨が当たる位置には、各突起３よりも高さの高い第２の丘状部５が形成されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、履き物の中底上に装着されて足がつま先側へ前滑りするのを防止する履き物用パッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、ハイヒールやミュール、女性用サンダルなどの踵の高い履物を履いた場合、足のつま先側に過度の体重がかかるために、足が履き物の中底上を前方に向かって滑り、足がつま先側に偏ってしまう結果、靴擦れやタコ、ウオノメ、ひどいときには巻き爪や外反母趾などの足の障害を起こすことが知られている。
【０００３】
そこで、上記した障害の発生を予防するために、従来から、履き物の中底上に弾性体からなるパッドを装着して、足が履き物の中底上を前方に向かって滑るのを防ぐようにしたものが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
特許文献１では、柔軟なエラストマーからなる薄い平らなパッドを、ハイヒールなど履き物のつま先側に装着している。足裏と当接するパッド表面には、その踵側に多数の凸状部が設けられてあり、足裏が凸状部にひっかかることによって生じる摩擦力により、足が履き物の中底上を前方に向かって滑るのを防止している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１４８８６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に記載のパッドでは、より踵の高い履き物においては、いまだ前方への滑りを効果的に抑制することはできなかった。また、ハイヒール、ミュール、サンダルなど裸足で履くことが多い履き物において使用する場合、汗をかいて足裏が湿ってしまうと、凸状部による滑り止め効果が損なわれて、足の前滑りが生じてしまう。
【０００７】
本発明は、上記した問題に着目してなされたものであり、履き物における足の前滑り、特に踵が高かったり、裸足など滑りやすい状態で履くことが多い履き物において使用する場合であっても、足の前滑りを有効に防止できる履き物用パッドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の履き物用パッドは、柔軟な弾性体からなり、履き物の中底上に装着して使用されるものであって、下面が履き物の中底上に載置される薄板状の基材と、前記基材上の少なくとも足裏と接触する領域に設けられた前記基材を横断するように延びる複数の突起とを備えている。前記各突起は、頂部からつま先側および踵側にそれぞれ延びる前方面および後方面を備えており、前記前方面は、幅方向に垂直な断面における頂部から底部までの長さが、前記後端面のそれよりも短く設定されている。
【０００９】
本発明の履き物用パッドは、種々の履き物に対して使用できるが、ミュール、ハイヒール、サンダル、パンプスなど、踵が高く、また裸足で履くことの多い履き物に対して使用した場合に、顕著な足の前滑り防止効果を得られる。
【００１０】
上記した構成の履き物用パッドを装着した履き物を履いて歩行すると、各突起によって足裏が支持されるが、各突起に足の荷重がかかると、各突起は、その後方面の方が前方面よりも頂部から底部までの長さが長く設定されているので、前方に倒れるようにして圧縮変形する。このとき、足裏には、圧縮変形した各突起の元の状態に復元しようとする弾性復元力が踵方向へ前滑りの反発力として作用する。これと同時に、各突起の後方面が足裏と密に接触して、足裏と後方面との間に摩擦力が生じるため、前記反発力が足裏に対して有効に作用する。これにより、荷重によってつま先側にかかる力が各突起に受け止められる結果、足の前滑りが抑制される。よって、歩行時に、足がつま先側に偏りすぎてしまうことを効果的に防止でき、足を当初の位置に保持できる。
【００１１】
さらに、各突起の間には溝が形成され、この各溝によって足裏と基材との間に通気間隙が形成されるため、発汗の蒸発が促進され、蒸れ防止に有効に機能するので、長時間使用しても足の前滑り防止効果を維持することができる。加えて、圧縮により生じる各突起の頂部の弾性反発力によって足裏が押圧されることにより、マッサージ効果および血行促進効果が生じ、むくみが減少するなど、歩行による足の疲れも緩和される。
【００１２】
なお、各突起は、平面視において、直線形状、波形状など種々の形状に形成することができるが、波形状に形成すると、各突起に足の荷重がかかった際に、足裏と各突起の後方面との接触面積が増加するのでより好ましい。また、つま先方向に強い力がかかった場合には、パッドの下面の接着力がそれに耐えられずにパッドが捲れやすくなる傾向があるが、これを有効に防止する点から、各突起を波形状に形成した場合においては、力のかかりやすい基材中央付近でつま先側に向かって平面視凸形状とすることがさらに好ましい。
【００１３】
本発明の好ましい実施態様においては、前記基材上には、足の指の基節骨が当たる位置に前記各突起よりも高さの高い第１の丘状部が形成されている。この実施態様によると、第１の丘状部が足裏の指の基節骨部分に形成されている窪みに嵌り込むので、第１の丘状部がストッパーとなって、足の前滑りを防止する。加えて、第１の丘状部を足裏の基節骨部分の窪みに合わせることにより、足裏に対するパッドの位置決めを容易に行うことができる。
【００１４】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記基材上には、足の第２および第３中足骨が当たる位置に前記各突起よりも高さの高い第２の丘状部が形成されている。前記第２の丘状部は、前記基材上から隆起するように形成され、足裏と当接する上面が前記基材の下面と平行な平坦面となっているのが好ましく、また、つま先側の最前縁が上面からほぼ垂下するように形成されているのがさらに好ましい。
【００１５】
この実施態様によると、第２の丘状部は、歩行時には第２中足骨の骨頭部から第３中足骨の骨頭部にかけて形成されている足裏のアーチ部に接触してこれを支持する。第２の丘状部は足の荷重により前記アーチ部内で圧縮変形するが、特に足裏からの荷重が最もかかる第２の丘状部のつま先側では、最前縁が上面からほぼ垂下して形成されているため、その底部（基材との接続部）が支点となって前方に倒伏するように押しつぶされて、上面が前記アーチ部の形状に沿うように圧縮変形する。これにより、第２の丘状部は、特につま先側において、圧縮による弾性復元力を足裏の踵側へ前滑りの反発力として作用させる。これと同時に、第２の丘状部の上面が足裏のアーチ部と密に接触して摩擦力が生じるため、前記反発力が足裏に対して有効に作用する。その結果、足の前滑りを強固に抑制し、第２の丘状部によっても足を当初の位置に保持可能となっている。
【発明の効果】
【００１６】
本発明に係る履き物用パッドによれば、履き物における足の前滑り、特に踵の高い履き物や裸足など滑りやすい状態で履くことが多い履き物において使用した場合であっても足の前滑りを有効に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の一実施例である履き物用パッドの平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図３】本発明の一実施例である履き物用パッドを足の骨格とともに示した平面図である。
【図４】本発明の他の実施例である履き物用パッドの平面図である。
【図５】本発明の他の実施例である履き物用パッドの平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態について、添付図面を参照して説明する。図１〜図２は、本発明の一実施例である履き物用パッド（以下、単に「パッド」という。）１の構成を示している。また、図３は、本実施例のパッド１の外形を足の骨格（鎖線で示す）とともに示している。なお、図示例のパッド１は右足用であるが、左足用についても同様の構成であり、ここでは図示並びに説明を省略する。
【００１９】
本実施例のパッド１は、履き物７の中底８上に装着して使用することにより、歩行時に足がつま先側へ向かって滑るのを防止するためのものであり、種々の履き物７に対して使用できるが、特にミュール、パンプス、ハイヒール、サンダルなど、踵が高かったり、裸足で履くことが覆い履き物７に対して使用した場合に顕著な効果が得られる。
【００２０】
このパッド１は、薄板状の基材２と、基材２上に設けられた複数の突起３および第１、第２の各丘状部４，５とを備えている。基材２、各突起３、および第１、第２の各丘状部４，５は、柔軟な弾性体からなるものであり、前記弾性体としては、本実施例では、例えば熱可塑性エラストマーやゴムなどの弾力性、粘着性を有する素材を例示することができる。
【００２１】
熱可塑性エストラマーとしては、スチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、エステル系エラストマー、フッ素系エラストマー、シリコン系エラストマー、ポリアミド系エラストマーなどが挙げられる。
【００２２】
また、ゴムとしては、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、エチレンプロピレンゴム、クロロプロピレンゴム、クロロスルホン化ポリエチレン、ウレタンゴム、アクリルゴム、シリコンゴムなどが挙げられる。
【００２３】
弾性体の硬度としては、特に制限されないが、１０〜３０度の範囲から選択することが好ましく、１５〜２５度の範囲から選択することがより好ましい。このような範囲とすることで、足の荷重がかかると、足裏が摩擦力により各突起３、および第１、第２の各丘状部４，５に食いつき、足裏の動きに合わせて追随しやすくなるとともに、足の荷重により圧縮変形した場合において、各突起３および第１、第２の各丘状部４，５から足裏に対して弾性復元力による踵側への適度な反発力を作用させることができるようになり、足の前滑りを効果的に防止することができる。この硬度は、ＳＲＩＳ０１０１に準じて、アスカー硬度計Ｃ型（高分子計器株式会社製）により測定される。
【００２４】
前記基材２は、人の足裏の前方領域、例えば足の骨格で言うところの中足骨１０ａ〜１０ｅから各指の基節骨１１ａ〜１１ｅ、末節骨１２ａ〜１２ｅ、中節骨１３ｂ〜１３ｅに至る領域に対応する大きさおよび形状に形成されている。この基材２は、履き物７の先端部に取り付けられ、歩行時において、足裏が履き物７の中底８と接触する接触面部を十分に支持している。基材２の下面２０は平坦面となっており、基材２は粘着性を有しているので、下面２０を履き物７の中底８上にそのまま載置するだけ履き物７に対して着脱可能となっている。
【００２５】
基材２の厚みは、約１ｍｍに設定されている。ここで、基材２の厚みは、特に制限されないが、０．５〜３ｍｍの範囲から選択することが好ましく、０．８〜２ｍｍの範囲から選択することがより好ましい。このような範囲とすることで、歩行によって足裏に加わる衝撃を吸収しつつ、履き物７を履いた際に、異物感や違和感を覚えることがなく良好な履き心地を維持することができる。
【００２６】
前記各突起３は、基材２に一体形成されており、基材２の前後方向（足のつま先側から踵側に沿った基材２の長手方向）に沿って複数列に、基材２の一方の側縁から他方の側縁にわたって基材２上を横断するように延びている。
【００２７】
各突起３は、断面形状が三角形状に形成されており、線状の頂部３０と、頂部３０からつま先側および踵側にそれぞれ延びる前方面３１および後方面３２とを備えている。前方面３１は、基材２と接触する底部３３が、前方に位置する突起３の後方面３２の底部３４と連なっており、各突起３は、隣接した状態で基材２上に配設されている。なお、前方面３１の底部３３と後方面３２の底部３４との間に所定の間隔を設けるようにしてもよい。
【００２８】
各突起３の厚み、すなわち、基材２上における頂部３０の高さは、約１ｍｍに設定されている。ここで、頂部３０の高さは特に限定されないが、０．３〜２ｍｍの範囲から選択することが好ましく、０．５〜１．５ｍｍの範囲から選択することがより好ましい。このような範囲とすることで、突起３の弾性復元力による足の前滑り防止効果が効果的に得られるとともに、履き物７を履いた際に、異物感や違和感を覚えることなく良好な履き心地を維持することができる。
【００２９】
また、各突起３は、突起３の幅方向（突起３が延びる方向）に対して垂直な断面において、前方面３１における頂部３０から底部３３までの長さＬ１が、後端面３２における頂部３０から底部３４までの長さＬ２よりも短く設定されている。
【００３０】
このような構成とすることにより、各突起３は、足の荷重が作用した場合に、前方に倒伏するように押しつぶされた状態で圧縮変形する。このとき、足裏には、各突起３の圧縮による弾性復元力が踵側方向へ前滑りの反発力として作用する。これと同時に、後方面３２が足裏と密に接触して摩擦力が生じるため、前記反発力が足裏に対して有効に作用する。その結果、荷重によってつま先側にかかる力が各突起に受け止められて、足がつま先側へ向かって前滑りするのを防止する。
【００３１】
また、足裏は、各突起３の頂部３０の前記反発力によりつま先側から踵側に向かって押圧されるため、マッサージ効果および血行促進効果が生じて、むくみが減少するなど、足の疲れも緩和されるようになっている。
【００３２】
なお、各突起３は、本実施例では平面視において波形状に形成されているが、必ずしもこれに限られるものではなく、直線形状など、種々の形状に形成することができる。各突起３を平面視波形状とすると、例えば各突起３を平面視直線形状とした場合と比較して、足の荷重によって各突起３が圧縮変形した場合において、各突起３の後方面３２と足裏とが接触する領域の面積が増大する。これにより、足裏に作用する各突起３の後方面３２との間の摩擦力が大きくなる結果、足の前滑りをより確実に抑制することができる。
【００３３】
また、つま先方向により強い力がかかると、下面２０の接着力がそれに耐えられずにパッド１が捲れやすくなる傾向があるが、これを有効に防止する観点から、各突起３は、基材２を横断する波形状において、より力のかかりやすいパッド中央付近でつま先側に向かって平面視凸形状となっていることがより好ましい。
【００３４】
また、基材２上には、各突起３の間に、略Ｖ字形状の溝６が、基材２の幅方向（図１の左右方向）に沿って形成されている。この各溝６によって足裏と基材２との間に通気間隙が形成されるため、発汗の蒸発が促進され、蒸れ防止に有効に機能する。その結果、長時間、履き物７を使用したとしても、汗の蒸れによって生じる足の前滑りを有効に防止することができる。
【００３５】
基材２上の足の指の付け根部分、すなわち、指の基節骨が当たる位置には、前記第１の丘状部４が突設されている。この第１の丘状部４は、本実施例では、基材２上から隆起するように基材２に一体形成しているが、基材２とは別素材を用いて形成し、基材２上に接着するようにしても構わない。
【００３６】
本実施例では、第１の丘状部４は、各指の基節骨１１ａ〜１１ｅのうち、第１基節骨１１ａを除く第２〜第５基節骨１１ｂ〜１１ｅ下に位置しており、第２基節骨１１ｂから第５基節骨１１ｅまでわたって連続して延びる１本の長い柱状体により構成されている。
【００３７】
第１の丘状部４の厚みは、各突起３の厚みよりも厚くなっており、０．５ｍｍ〜４．５ｍｍの範囲から選択することが好ましく、本実施例では２．５ｍｍに設定されている。また、第１の丘状部４の幅は、３ｍｍ〜７ｍｍの範囲から選択することが好ましく、本実施例では５ｍｍに設定されている。この幅および厚みに設定することで、第１の丘状部４が足裏の基節骨部分に形成されている窪み（図示せず）に違和感なく嵌り込むので、第１の丘状部４を足裏の基節骨部分の窪みに合わせることにより、足裏に対するパッド１の位置決めを容易に行うことができる。
【００３８】
また、第１の丘状部４が足裏の基節骨部分に形成されている窪みに嵌り込むことによって、第１の丘状部４自体がストッパーとなって足の前滑りを規制するので、第１の丘状部４によっても足を当初の位置に保持できるようになっている。
【００３９】
なお、第１の丘状部４は、必ずしも第２基節骨１１ｂから第５基節骨１１ｅまでわたって連続して延びるような形状とする必要はなく、基材２上の各基節骨１１ｂ〜１１ｅが当たる箇所にだけ位置するよう、部分的に欠如された飛び飛びの形状としてもよい。
【００４０】
また、図４に示すように、第１の丘状部４を、平面視で「く」の字状に屈曲させて、基材２上の第１基節骨１１ａが当たる位置まで延びるように形成してもよい。さらに、図示例では、第１の丘状部４の上面を平坦面としているが、上記した足裏の基節骨部分の窪みの形状に沿うように、頂部位置を最大肉厚とし、頂部位置から周辺に向かうに伴って肉薄となるアーチ形状とすることもできる。
【００４１】
図１〜図３に戻って、前記第２の丘状部５は、基材２上の足の第２および第３中足骨１０ｂ，１０ｃが当たる位置に設けられており、歩行時には足裏の第２中足骨１０ｂの骨頭部から第３中足骨１０ｃの骨頭部にかけて形成されているアーチ部（図示せず）に接触してこれを支持する。この第２の丘状部５は、本実施例では、基材２上から隆起するように基材２に一体形成されているが、基材２とは別素材を用いて形成し、基材２上に接着するようにしても構わない。
【００４２】
第２の丘状部５の平面視形状は、図示例では、上記した足裏のアーチ部の形状に沿うように形成されているが、特に限定されず、例えば、略楕円形状や略矩形状であってもよい。第２の丘状部５の足裏と当接する上面５０は、基材２の下面２０と平行な平坦面となっている。また、第２の丘状部５は、少なくとも、歩行時に足裏からの荷重が最もかかるつま先側の最前縁５１が、前記上面５０からほぼ垂下するように形成されている。ここで、「ほぼ垂下」とは、具体的には上面５０と最前縁５１とによって形成される角部の角度が８０〜１１０度程度であることを意味し、好ましくは８５〜１００度、より好ましくは８５〜９５度程度である。
【００４３】
このような構成とすることにより、第２の丘状部５は足の荷重により前記アーチ部内で圧縮変形するが、上面５０が基材２の下面２０と平行な平坦面となっているため、アーチ部の浅いつま先側に接触する最前縁５１付近において強く圧縮される。また、最前縁５１が上面５０から垂下しているので、最前縁５１の上面が、最前縁５１の底部（基材２との接続部）を支点として、前方に倒伏するように押しつぶされて、上面５０が前記アーチ部の形状に沿うように圧縮変形する。これにより、第２の丘状部５は、特につま先側において、圧縮による弾性復元力を足裏の踵側へ前滑りの反発力として作用させる。これと同時に、上面５０が足裏のアーチ部と密に接触して摩擦力が生じるため、前記反発力が足裏に対して有効に作用する。その結果、足の前滑りを強固に抑制し、この第２の丘状部５によっても、足を当初の位置に保持できるようになっている。なお、第２の丘状部５の周縁全体を、上面５０からほぼ垂下するように形成してもよい。
【００４４】
また、この第２の丘状部５が、その反発力により足裏の前記アーチ部にある「湧泉（ゆうせん）」と呼ばれる足ツボを適度に押圧刺激することにより、足つぼのマッサージ効果も得られるようになっている。なお、第２の丘状部５の厚みは、各突起３の厚みよりも厚くなっており、０．５ｍｍ〜４．５ｍｍの範囲から選択することが好ましく、本実施例では、約２ｍｍに設定されている。
【００４５】
上記した構成のパッド１が装着された履き物７を履いて歩行すると、各突起３によって足裏が支持されるが、各突起３に足の荷重がかかると、各突起３は、その後方面３２の方が前方面３１よりも頂部３０から底部３４までの長さが長く設定されているので、前方に倒れるようにして圧縮変形する。このとき、足裏には、圧縮変形した各突起３が元の状態に復元しようとする弾性復元力が踵方向へ前滑りの反発力として作用する。これと同時に、各突起３の後方面３２が足裏と密に接触して、足裏と後方面３２との間の摩擦力が生じるため、前記反発力が足裏に対して有効に作用する。その結果、荷重によってつま先側にかかる力が各突起３によって受け止められるので、足の前滑りを抑制することができる。よって、歩行時に、足がつま先側に偏りすぎてしまうことを効果的に防止でき、足を当初の位置に保持できる。これにより、足がつま先側に偏ることがなく、足の各部に無理な負担がかからない結果、靴擦れやタコ、ウオノメ、巻き爪、外反母趾などの足の障害を引き起こすことを防止できる。
【００４６】
さらに、足裏は、各突起３および第２の丘状部５の弾性反発力によりつま先側から踵側に向かって適度に押圧されるため、マッサージ効果およびび血行促進効果が生じて、むくみが減少するなど、歩行による足の疲れも緩和されるようになっている。
【００４７】
以上、本発明の実施例について説明したが、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて、種々の変更が可能である。例えば、上記した実施例では、基材２は人の足裏の前半部に対応する大きさおよび形状に形成されているが、図５に示すように、基材２を足裏の全体に対応する大きさおよび形状に形成してもよい。
【００４８】
図５に示す実施例では、各突起３は、基材２上の足裏が接触する領域、具体的には、図３に示す中足骨１０ａ〜１０ｅから各指の基節骨１１ａ〜１１ｅ、末節骨１２ａ〜１２ｅ、中節骨１３ｂ〜１３ｅに至る前方領域の他に、踵骨１４を中心とする後方領域にも形成することができる。この実施例では、基材２の後方領域に形成された突起３によっても足がつま先側へ向かって滑るのが抑制されるので、より強固に足の前滑りを防止できる。なお、基本的な構成は上記した実施例の構成と同様であり、ここでは対応する構成には同一の符号を付することで説明を省略している。
【符号の説明】
【００４９】
１ 履き物用パッド
２ 基材
３ 突起
４ 第１の丘状部
５ 第２の丘状部
７ 履き物
８ 中底
２０ 下面
３０ 頂部
３１ 前方面
３２ 後方面
３３ 前方面の底部
３４ 後方面の底部
５０ 上面
５１ 最前縁
【技術分野】
【０００１】
本発明は、履き物の中底上に装着されて足がつま先側へ前滑りするのを防止する履き物用パッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、ハイヒールやミュール、女性用サンダルなどの踵の高い履物を履いた場合、足のつま先側に過度の体重がかかるために、足が履き物の中底上を前方に向かって滑り、足がつま先側に偏ってしまう結果、靴擦れやタコ、ウオノメ、ひどいときには巻き爪や外反母趾などの足の障害を起こすことが知られている。
【０００３】
そこで、上記した障害の発生を予防するために、従来から、履き物の中底上に弾性体からなるパッドを装着して、足が履き物の中底上を前方に向かって滑るのを防ぐようにしたものが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
特許文献１では、柔軟なエラストマーからなる薄い平らなパッドを、ハイヒールなど履き物のつま先側に装着している。足裏と当接するパッド表面には、その踵側に多数の凸状部が設けられてあり、足裏が凸状部にひっかかることによって生じる摩擦力により、足が履き物の中底上を前方に向かって滑るのを防止している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１４８８６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に記載のパッドでは、より踵の高い履き物においては、いまだ前方への滑りを効果的に抑制することはできなかった。また、ハイヒール、ミュール、サンダルなど裸足で履くことが多い履き物において使用する場合、汗をかいて足裏が湿ってしまうと、凸状部による滑り止め効果が損なわれて、足の前滑りが生じてしまう。
【０００７】
本発明は、上記した問題に着目してなされたものであり、履き物における足の前滑り、特に踵が高かったり、裸足など滑りやすい状態で履くことが多い履き物において使用する場合であっても、足の前滑りを有効に防止できる履き物用パッドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の履き物用パッドは、柔軟な弾性体からなり、履き物の中底上に装着して使用されるものであって、下面が履き物の中底上に載置される薄板状の基材と、前記基材上の少なくとも足裏と接触する領域に設けられた前記基材を横断するように延びる複数の突起とを備えている。前記各突起は、頂部からつま先側および踵側にそれぞれ延びる前方面および後方面を備えており、前記前方面は、幅方向に垂直な断面における頂部から底部までの長さが、前記後端面のそれよりも短く設定されている。
【０００９】
本発明の履き物用パッドは、種々の履き物に対して使用できるが、ミュール、ハイヒール、サンダル、パンプスなど、踵が高く、また裸足で履くことの多い履き物に対して使用した場合に、顕著な足の前滑り防止効果を得られる。
【００１０】
上記した構成の履き物用パッドを装着した履き物を履いて歩行すると、各突起によって足裏が支持されるが、各突起に足の荷重がかかると、各突起は、その後方面の方が前方面よりも頂部から底部までの長さが長く設定されているので、前方に倒れるようにして圧縮変形する。このとき、足裏には、圧縮変形した各突起の元の状態に復元しようとする弾性復元力が踵方向へ前滑りの反発力として作用する。これと同時に、各突起の後方面が足裏と密に接触して、足裏と後方面との間に摩擦力が生じるため、前記反発力が足裏に対して有効に作用する。これにより、荷重によってつま先側にかかる力が各突起に受け止められる結果、足の前滑りが抑制される。よって、歩行時に、足がつま先側に偏りすぎてしまうことを効果的に防止でき、足を当初の位置に保持できる。
【００１１】
さらに、各突起の間には溝が形成され、この各溝によって足裏と基材との間に通気間隙が形成されるため、発汗の蒸発が促進され、蒸れ防止に有効に機能するので、長時間使用しても足の前滑り防止効果を維持することができる。加えて、圧縮により生じる各突起の頂部の弾性反発力によって足裏が押圧されることにより、マッサージ効果および血行促進効果が生じ、むくみが減少するなど、歩行による足の疲れも緩和される。
【００１２】
なお、各突起は、平面視において、直線形状、波形状など種々の形状に形成することができるが、波形状に形成すると、各突起に足の荷重がかかった際に、足裏と各突起の後方面との接触面積が増加するのでより好ましい。また、つま先方向に強い力がかかった場合には、パッドの下面の接着力がそれに耐えられずにパッドが捲れやすくなる傾向があるが、これを有効に防止する点から、各突起を波形状に形成した場合においては、力のかかりやすい基材中央付近でつま先側に向かって平面視凸形状とすることがさらに好ましい。
【００１３】
本発明の好ましい実施態様においては、前記基材上には、足の指の基節骨が当たる位置に前記各突起よりも高さの高い第１の丘状部が形成されている。この実施態様によると、第１の丘状部が足裏の指の基節骨部分に形成されている窪みに嵌り込むので、第１の丘状部がストッパーとなって、足の前滑りを防止する。加えて、第１の丘状部を足裏の基節骨部分の窪みに合わせることにより、足裏に対するパッドの位置決めを容易に行うことができる。
【００１４】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記基材上には、足の第２および第３中足骨が当たる位置に前記各突起よりも高さの高い第２の丘状部が形成されている。前記第２の丘状部は、前記基材上から隆起するように形成され、足裏と当接する上面が前記基材の下面と平行な平坦面となっているのが好ましく、また、つま先側の最前縁が上面からほぼ垂下するように形成されているのがさらに好ましい。
【００１５】
この実施態様によると、第２の丘状部は、歩行時には第２中足骨の骨頭部から第３中足骨の骨頭部にかけて形成されている足裏のアーチ部に接触してこれを支持する。第２の丘状部は足の荷重により前記アーチ部内で圧縮変形するが、特に足裏からの荷重が最もかかる第２の丘状部のつま先側では、最前縁が上面からほぼ垂下して形成されているため、その底部（基材との接続部）が支点となって前方に倒伏するように押しつぶされて、上面が前記アーチ部の形状に沿うように圧縮変形する。これにより、第２の丘状部は、特につま先側において、圧縮による弾性復元力を足裏の踵側へ前滑りの反発力として作用させる。これと同時に、第２の丘状部の上面が足裏のアーチ部と密に接触して摩擦力が生じるため、前記反発力が足裏に対して有効に作用する。その結果、足の前滑りを強固に抑制し、第２の丘状部によっても足を当初の位置に保持可能となっている。
【発明の効果】
【００１６】
本発明に係る履き物用パッドによれば、履き物における足の前滑り、特に踵の高い履き物や裸足など滑りやすい状態で履くことが多い履き物において使用した場合であっても足の前滑りを有効に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の一実施例である履き物用パッドの平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図３】本発明の一実施例である履き物用パッドを足の骨格とともに示した平面図である。
【図４】本発明の他の実施例である履き物用パッドの平面図である。
【図５】本発明の他の実施例である履き物用パッドの平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態について、添付図面を参照して説明する。図１〜図２は、本発明の一実施例である履き物用パッド（以下、単に「パッド」という。）１の構成を示している。また、図３は、本実施例のパッド１の外形を足の骨格（鎖線で示す）とともに示している。なお、図示例のパッド１は右足用であるが、左足用についても同様の構成であり、ここでは図示並びに説明を省略する。
【００１９】
本実施例のパッド１は、履き物７の中底８上に装着して使用することにより、歩行時に足がつま先側へ向かって滑るのを防止するためのものであり、種々の履き物７に対して使用できるが、特にミュール、パンプス、ハイヒール、サンダルなど、踵が高かったり、裸足で履くことが覆い履き物７に対して使用した場合に顕著な効果が得られる。
【００２０】
このパッド１は、薄板状の基材２と、基材２上に設けられた複数の突起３および第１、第２の各丘状部４，５とを備えている。基材２、各突起３、および第１、第２の各丘状部４，５は、柔軟な弾性体からなるものであり、前記弾性体としては、本実施例では、例えば熱可塑性エラストマーやゴムなどの弾力性、粘着性を有する素材を例示することができる。
【００２１】
熱可塑性エストラマーとしては、スチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、エステル系エラストマー、フッ素系エラストマー、シリコン系エラストマー、ポリアミド系エラストマーなどが挙げられる。
【００２２】
また、ゴムとしては、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、エチレンプロピレンゴム、クロロプロピレンゴム、クロロスルホン化ポリエチレン、ウレタンゴム、アクリルゴム、シリコンゴムなどが挙げられる。
【００２３】
弾性体の硬度としては、特に制限されないが、１０〜３０度の範囲から選択することが好ましく、１５〜２５度の範囲から選択することがより好ましい。このような範囲とすることで、足の荷重がかかると、足裏が摩擦力により各突起３、および第１、第２の各丘状部４，５に食いつき、足裏の動きに合わせて追随しやすくなるとともに、足の荷重により圧縮変形した場合において、各突起３および第１、第２の各丘状部４，５から足裏に対して弾性復元力による踵側への適度な反発力を作用させることができるようになり、足の前滑りを効果的に防止することができる。この硬度は、ＳＲＩＳ０１０１に準じて、アスカー硬度計Ｃ型（高分子計器株式会社製）により測定される。
【００２４】
前記基材２は、人の足裏の前方領域、例えば足の骨格で言うところの中足骨１０ａ〜１０ｅから各指の基節骨１１ａ〜１１ｅ、末節骨１２ａ〜１２ｅ、中節骨１３ｂ〜１３ｅに至る領域に対応する大きさおよび形状に形成されている。この基材２は、履き物７の先端部に取り付けられ、歩行時において、足裏が履き物７の中底８と接触する接触面部を十分に支持している。基材２の下面２０は平坦面となっており、基材２は粘着性を有しているので、下面２０を履き物７の中底８上にそのまま載置するだけ履き物７に対して着脱可能となっている。
【００２５】
基材２の厚みは、約１ｍｍに設定されている。ここで、基材２の厚みは、特に制限されないが、０．５〜３ｍｍの範囲から選択することが好ましく、０．８〜２ｍｍの範囲から選択することがより好ましい。このような範囲とすることで、歩行によって足裏に加わる衝撃を吸収しつつ、履き物７を履いた際に、異物感や違和感を覚えることがなく良好な履き心地を維持することができる。
【００２６】
前記各突起３は、基材２に一体形成されており、基材２の前後方向（足のつま先側から踵側に沿った基材２の長手方向）に沿って複数列に、基材２の一方の側縁から他方の側縁にわたって基材２上を横断するように延びている。
【００２７】
各突起３は、断面形状が三角形状に形成されており、線状の頂部３０と、頂部３０からつま先側および踵側にそれぞれ延びる前方面３１および後方面３２とを備えている。前方面３１は、基材２と接触する底部３３が、前方に位置する突起３の後方面３２の底部３４と連なっており、各突起３は、隣接した状態で基材２上に配設されている。なお、前方面３１の底部３３と後方面３２の底部３４との間に所定の間隔を設けるようにしてもよい。
【００２８】
各突起３の厚み、すなわち、基材２上における頂部３０の高さは、約１ｍｍに設定されている。ここで、頂部３０の高さは特に限定されないが、０．３〜２ｍｍの範囲から選択することが好ましく、０．５〜１．５ｍｍの範囲から選択することがより好ましい。このような範囲とすることで、突起３の弾性復元力による足の前滑り防止効果が効果的に得られるとともに、履き物７を履いた際に、異物感や違和感を覚えることなく良好な履き心地を維持することができる。
【００２９】
また、各突起３は、突起３の幅方向（突起３が延びる方向）に対して垂直な断面において、前方面３１における頂部３０から底部３３までの長さＬ１が、後端面３２における頂部３０から底部３４までの長さＬ２よりも短く設定されている。
【００３０】
このような構成とすることにより、各突起３は、足の荷重が作用した場合に、前方に倒伏するように押しつぶされた状態で圧縮変形する。このとき、足裏には、各突起３の圧縮による弾性復元力が踵側方向へ前滑りの反発力として作用する。これと同時に、後方面３２が足裏と密に接触して摩擦力が生じるため、前記反発力が足裏に対して有効に作用する。その結果、荷重によってつま先側にかかる力が各突起に受け止められて、足がつま先側へ向かって前滑りするのを防止する。
【００３１】
また、足裏は、各突起３の頂部３０の前記反発力によりつま先側から踵側に向かって押圧されるため、マッサージ効果および血行促進効果が生じて、むくみが減少するなど、足の疲れも緩和されるようになっている。
【００３２】
なお、各突起３は、本実施例では平面視において波形状に形成されているが、必ずしもこれに限られるものではなく、直線形状など、種々の形状に形成することができる。各突起３を平面視波形状とすると、例えば各突起３を平面視直線形状とした場合と比較して、足の荷重によって各突起３が圧縮変形した場合において、各突起３の後方面３２と足裏とが接触する領域の面積が増大する。これにより、足裏に作用する各突起３の後方面３２との間の摩擦力が大きくなる結果、足の前滑りをより確実に抑制することができる。
【００３３】
また、つま先方向により強い力がかかると、下面２０の接着力がそれに耐えられずにパッド１が捲れやすくなる傾向があるが、これを有効に防止する観点から、各突起３は、基材２を横断する波形状において、より力のかかりやすいパッド中央付近でつま先側に向かって平面視凸形状となっていることがより好ましい。
【００３４】
また、基材２上には、各突起３の間に、略Ｖ字形状の溝６が、基材２の幅方向（図１の左右方向）に沿って形成されている。この各溝６によって足裏と基材２との間に通気間隙が形成されるため、発汗の蒸発が促進され、蒸れ防止に有効に機能する。その結果、長時間、履き物７を使用したとしても、汗の蒸れによって生じる足の前滑りを有効に防止することができる。
【００３５】
基材２上の足の指の付け根部分、すなわち、指の基節骨が当たる位置には、前記第１の丘状部４が突設されている。この第１の丘状部４は、本実施例では、基材２上から隆起するように基材２に一体形成しているが、基材２とは別素材を用いて形成し、基材２上に接着するようにしても構わない。
【００３６】
本実施例では、第１の丘状部４は、各指の基節骨１１ａ〜１１ｅのうち、第１基節骨１１ａを除く第２〜第５基節骨１１ｂ〜１１ｅ下に位置しており、第２基節骨１１ｂから第５基節骨１１ｅまでわたって連続して延びる１本の長い柱状体により構成されている。
【００３７】
第１の丘状部４の厚みは、各突起３の厚みよりも厚くなっており、０．５ｍｍ〜４．５ｍｍの範囲から選択することが好ましく、本実施例では２．５ｍｍに設定されている。また、第１の丘状部４の幅は、３ｍｍ〜７ｍｍの範囲から選択することが好ましく、本実施例では５ｍｍに設定されている。この幅および厚みに設定することで、第１の丘状部４が足裏の基節骨部分に形成されている窪み（図示せず）に違和感なく嵌り込むので、第１の丘状部４を足裏の基節骨部分の窪みに合わせることにより、足裏に対するパッド１の位置決めを容易に行うことができる。
【００３８】
また、第１の丘状部４が足裏の基節骨部分に形成されている窪みに嵌り込むことによって、第１の丘状部４自体がストッパーとなって足の前滑りを規制するので、第１の丘状部４によっても足を当初の位置に保持できるようになっている。
【００３９】
なお、第１の丘状部４は、必ずしも第２基節骨１１ｂから第５基節骨１１ｅまでわたって連続して延びるような形状とする必要はなく、基材２上の各基節骨１１ｂ〜１１ｅが当たる箇所にだけ位置するよう、部分的に欠如された飛び飛びの形状としてもよい。
【００４０】
また、図４に示すように、第１の丘状部４を、平面視で「く」の字状に屈曲させて、基材２上の第１基節骨１１ａが当たる位置まで延びるように形成してもよい。さらに、図示例では、第１の丘状部４の上面を平坦面としているが、上記した足裏の基節骨部分の窪みの形状に沿うように、頂部位置を最大肉厚とし、頂部位置から周辺に向かうに伴って肉薄となるアーチ形状とすることもできる。
【００４１】
図１〜図３に戻って、前記第２の丘状部５は、基材２上の足の第２および第３中足骨１０ｂ，１０ｃが当たる位置に設けられており、歩行時には足裏の第２中足骨１０ｂの骨頭部から第３中足骨１０ｃの骨頭部にかけて形成されているアーチ部（図示せず）に接触してこれを支持する。この第２の丘状部５は、本実施例では、基材２上から隆起するように基材２に一体形成されているが、基材２とは別素材を用いて形成し、基材２上に接着するようにしても構わない。
【００４２】
第２の丘状部５の平面視形状は、図示例では、上記した足裏のアーチ部の形状に沿うように形成されているが、特に限定されず、例えば、略楕円形状や略矩形状であってもよい。第２の丘状部５の足裏と当接する上面５０は、基材２の下面２０と平行な平坦面となっている。また、第２の丘状部５は、少なくとも、歩行時に足裏からの荷重が最もかかるつま先側の最前縁５１が、前記上面５０からほぼ垂下するように形成されている。ここで、「ほぼ垂下」とは、具体的には上面５０と最前縁５１とによって形成される角部の角度が８０〜１１０度程度であることを意味し、好ましくは８５〜１００度、より好ましくは８５〜９５度程度である。
【００４３】
このような構成とすることにより、第２の丘状部５は足の荷重により前記アーチ部内で圧縮変形するが、上面５０が基材２の下面２０と平行な平坦面となっているため、アーチ部の浅いつま先側に接触する最前縁５１付近において強く圧縮される。また、最前縁５１が上面５０から垂下しているので、最前縁５１の上面が、最前縁５１の底部（基材２との接続部）を支点として、前方に倒伏するように押しつぶされて、上面５０が前記アーチ部の形状に沿うように圧縮変形する。これにより、第２の丘状部５は、特につま先側において、圧縮による弾性復元力を足裏の踵側へ前滑りの反発力として作用させる。これと同時に、上面５０が足裏のアーチ部と密に接触して摩擦力が生じるため、前記反発力が足裏に対して有効に作用する。その結果、足の前滑りを強固に抑制し、この第２の丘状部５によっても、足を当初の位置に保持できるようになっている。なお、第２の丘状部５の周縁全体を、上面５０からほぼ垂下するように形成してもよい。
【００４４】
また、この第２の丘状部５が、その反発力により足裏の前記アーチ部にある「湧泉（ゆうせん）」と呼ばれる足ツボを適度に押圧刺激することにより、足つぼのマッサージ効果も得られるようになっている。なお、第２の丘状部５の厚みは、各突起３の厚みよりも厚くなっており、０．５ｍｍ〜４．５ｍｍの範囲から選択することが好ましく、本実施例では、約２ｍｍに設定されている。
【００４５】
上記した構成のパッド１が装着された履き物７を履いて歩行すると、各突起３によって足裏が支持されるが、各突起３に足の荷重がかかると、各突起３は、その後方面３２の方が前方面３１よりも頂部３０から底部３４までの長さが長く設定されているので、前方に倒れるようにして圧縮変形する。このとき、足裏には、圧縮変形した各突起３が元の状態に復元しようとする弾性復元力が踵方向へ前滑りの反発力として作用する。これと同時に、各突起３の後方面３２が足裏と密に接触して、足裏と後方面３２との間の摩擦力が生じるため、前記反発力が足裏に対して有効に作用する。その結果、荷重によってつま先側にかかる力が各突起３によって受け止められるので、足の前滑りを抑制することができる。よって、歩行時に、足がつま先側に偏りすぎてしまうことを効果的に防止でき、足を当初の位置に保持できる。これにより、足がつま先側に偏ることがなく、足の各部に無理な負担がかからない結果、靴擦れやタコ、ウオノメ、巻き爪、外反母趾などの足の障害を引き起こすことを防止できる。
【００４６】
さらに、足裏は、各突起３および第２の丘状部５の弾性反発力によりつま先側から踵側に向かって適度に押圧されるため、マッサージ効果およびび血行促進効果が生じて、むくみが減少するなど、歩行による足の疲れも緩和されるようになっている。
【００４７】
以上、本発明の実施例について説明したが、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて、種々の変更が可能である。例えば、上記した実施例では、基材２は人の足裏の前半部に対応する大きさおよび形状に形成されているが、図５に示すように、基材２を足裏の全体に対応する大きさおよび形状に形成してもよい。
【００４８】
図５に示す実施例では、各突起３は、基材２上の足裏が接触する領域、具体的には、図３に示す中足骨１０ａ〜１０ｅから各指の基節骨１１ａ〜１１ｅ、末節骨１２ａ〜１２ｅ、中節骨１３ｂ〜１３ｅに至る前方領域の他に、踵骨１４を中心とする後方領域にも形成することができる。この実施例では、基材２の後方領域に形成された突起３によっても足がつま先側へ向かって滑るのが抑制されるので、より強固に足の前滑りを防止できる。なお、基本的な構成は上記した実施例の構成と同様であり、ここでは対応する構成には同一の符号を付することで説明を省略している。
【符号の説明】
【００４９】
１ 履き物用パッド
２ 基材
３ 突起
４ 第１の丘状部
５ 第２の丘状部
７ 履き物
８ 中底
２０ 下面
３０ 頂部
３１ 前方面
３２ 後方面
３３ 前方面の底部
３４ 後方面の底部
５０ 上面
５１ 最前縁
【特許請求の範囲】
【請求項１】
柔軟な弾性体からなり、履き物の中底上に装着して使用される履き物用パッドであって、
下面が履き物の中底上に載置される薄板状の基材と、前記基材上の少なくとも足裏と接触する領域に設けられた前記基材を横断するように延びる複数の突起とを備え、
前記各突起は、頂部からつま先側および踵側にそれぞれ延びる前方面および後方面を備えており、前記前方面は、幅方向に垂直な断面における頂部から底部までの長さが、前記後端面のそれよりも短く設定されている履き物用パッド。
【請求項２】
前記基材上には、足の指の基節骨が当たる位置に前記各突起よりも高さの高い第１の丘状部が形成されている請求項１に記載の履き物用パッド。
【請求項３】
前記基材上には、足の第２および第３の中足骨が当たる位置に前記各突起よりも高さの高い第２の丘状部が形成されている請求項１または２に記載の履き物用パッド。
【請求項４】
前記第２の丘状部は、前記基材上から隆起するように形成されており、足裏と当接する上面が前記基材の下面と平行な平坦面となっている請求項３に記載の履き物用パッド。
【請求項５】
前記第２の丘状部は、つま先側の最前縁が前記上面からほぼ垂下するように形成されている請求項４に記載の履き物用パッド。
【請求項６】
前記各突起は、平面視において波形状に形成されている請求項１〜５のいずれかに記載の履き物用パッド。
【請求項１】
柔軟な弾性体からなり、履き物の中底上に装着して使用される履き物用パッドであって、
下面が履き物の中底上に載置される薄板状の基材と、前記基材上の少なくとも足裏と接触する領域に設けられた前記基材を横断するように延びる複数の突起とを備え、
前記各突起は、頂部からつま先側および踵側にそれぞれ延びる前方面および後方面を備えており、前記前方面は、幅方向に垂直な断面における頂部から底部までの長さが、前記後端面のそれよりも短く設定されている履き物用パッド。
【請求項２】
前記基材上には、足の指の基節骨が当たる位置に前記各突起よりも高さの高い第１の丘状部が形成されている請求項１に記載の履き物用パッド。
【請求項３】
前記基材上には、足の第２および第３の中足骨が当たる位置に前記各突起よりも高さの高い第２の丘状部が形成されている請求項１または２に記載の履き物用パッド。
【請求項４】
前記第２の丘状部は、前記基材上から隆起するように形成されており、足裏と当接する上面が前記基材の下面と平行な平坦面となっている請求項３に記載の履き物用パッド。
【請求項５】
前記第２の丘状部は、つま先側の最前縁が前記上面からほぼ垂下するように形成されている請求項４に記載の履き物用パッド。
【請求項６】
前記各突起は、平面視において波形状に形成されている請求項１〜５のいずれかに記載の履き物用パッド。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２０１０−２６４１４１（Ｐ２０１０−２６４１４１Ａ）
【公開日】平成２２年１１月２５日（２０１０．１１．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１１９３２７（Ｐ２００９−１１９３２７）
【出願日】平成２１年５月１５日（２００９．５．１５）
【出願人】（０００１８６５８８）小林製薬株式会社 (518)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１１月２５日（２０１０．１１．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年５月１５日（２００９．５．１５）
【出願人】（０００１８６５８８）小林製薬株式会社 (518)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]