【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量％でＳiＯ_２を７〜２０、Ｂ_２Ｏ_３を３２〜５０、ＺｎＯを２５〜４２、Ｒ_２Ｏ（Ｌi_２Ｏ＋Ｎa_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を７〜２０、ＣｕＯを０．１〜２含み、ＭｎＯ_２を０〜２、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を０〜１０含み、更にＢ_２Ｏ_３／ＺｎＯの重量比が０．８５以上２以下、（Ｂ_２Ｏ_３＋Ｒ_２Ｏ）／ＳｉＯ_２の重量比が２以上、７以下、Ｃｏ又はＭｎを酸化物として０〜２含むことを特徴とするＳiＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−Ｒ_２Ｏ−ＣｕＯ系無鉛低融点ガラスである。３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（６５〜９５）×10^−７／℃、軟化点が５００℃以上６００℃以下である特徴を有す。 （もっと読む）

【課題】粒状のＡｇを透明基板に形成してなる電波透過性波長選択ガラスにおいて、近赤外線遮蔽係数（Ｅｓ）を高くするために、共振波長を６００ｎｍ〜１５００ｎｍの範囲にすると、可視光の波長域において、乱反射が大きくなるという不具合があった。
【解決手段】透明基板に該透明基板の誘電率より大きい誘電率を有する透明誘電体層が、光学膜厚み２０ｎｍ〜６００ｎｍの範囲で成膜され、該透明誘電体層のうえにＡｇ微粒子から成る層を形成する。さらに、Ａｇ微粒子から成る層の上層に光学膜厚が２０ｎｍ〜２００ｎｍの透明誘電体膜を設ける。 （もっと読む）

【課題】印刷により透明板状体の周辺部の表面に塗膜が形成される印刷部と、塗膜が形成されていない非印刷部とを、検査の対象にして、印刷部のピンホールやかすれなどの印刷欠陥と、非印刷部分の印刷汚れを検出する方法を提供する
【解決手段】散乱光を用いて印刷物を照明し、印刷物の複数の画像を散乱光が透過する側からＣＣＤカメラで撮像し、該画像を合成して検査用画像とし、該検査用画像を暗部と明部とに２値化処理し、明部を面積の大きい順に順序づけし、面積の大きさが（ｍ＋１）番目以下（ｍは非印刷部の個数）となる明部を印刷欠陥とする。また、暗部を面積の大きい順に順序づけし、面積の大きさが（ｎ＋１）番目以下（ｎは印刷部の個数）となる暗部を印刷汚れとする。 （もっと読む）

【課題】 ガラス繊維コードに該ガラス繊維塗布液を塗布後乾燥させて被覆し被覆層としたゴム補強用ガラス繊維が、架橋されたＨＮＢＲに埋設し伝動ベルトとした際に、伝動ベルトに好適な優れた耐水性および耐熱性を与えることを目的とする。
【解決手段】 フェノール樹脂とビニルピリジン−スチレン−ブタジエン共重合体とクロロスルフォン化ポリエチレンとを水に分散させエマルジョンとしたガラス繊維コードに被覆するためのガラス繊維被覆用塗布液であって、前記フェノール樹脂が、モノヒドロキシベンゼンとホルムアルデヒドを反応させてなるモノヒドロキシベンゼン−ホルムアルデヒド樹脂であることを特徴とするガラス繊維被覆用塗布液、この塗布液を用いてなるゴム補強用繊維、この義務補強用ガラス繊維を耐熱ゴムに埋設させた伝動ベルト。 （もっと読む）

【課題】
自動車フロントガラスに旋光子を積層してなる光学機能性フィルムを設ける表示システムにおいて、透視歪みが大きくなり、光学機能性フィルムを挿入することが困難となる場合がある。
【解決手段】室内側と室外側の２枚の板ガラスを２枚の中間膜を用いて接着し、該２枚の中間膜の間に、厚みが１２〜２２μｍのフィルム状の旋光子を積層してなる光学機能フィルムを挿入する。旋光子の厚みは４〜５μｍである。２枚の中間膜の合計厚みは７６０μｍ以上とし、さらに、室内側中間膜の厚みを３８０μｍ以上、室外側中間膜の厚みが室内側中間膜の１〜２倍の厚みとする。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、気密性能、低融点特性を同時に満たす有機無機ハイブリッドガラス状物質が、種々の分野で求められていた。
【解決手段】出発原料を混合し、作成したゲルを有機溶媒に溶解後アルカリ水溶液を加え、有機層と水層に分離し、この有機層を乾燥後溶融することによって目的とする物質を得ることを特徴とする有機無機ハイブリッドガラス状物質の製造方法。ゾルゲル原料にフェニル基を持つ物質が少なくとも１種類含まれる特徴もある。また、この方法で製造されたことを特徴とする有機無機ハイブリッドガラス状物質。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイ装置用基板ガラスで、歪点が高く、かつ高耐熱性、高靭性、低密度のものが望まれている。
【解決手段】実質的に重量％表示で、ＳｉＯ_２が６３〜６９、Ａｌ_２Ｏ_３が０．５〜５、Ｎａ_２Ｏが２〜７、Ｋ_２Ｏが１４〜１７、ＭｇＯが１０〜１８、ＣａＯが０〜７、ＳｒＯが０〜３、ＢａＯが０〜３、ＺｒＯ_２が０．５〜７からなり、かつ歪点が５７０℃以上であることを特徴とするフラットパネルディスプレイ装置用基板ガラス。３０℃〜３００℃における平均線熱膨張係数が（８６〜９０）×１０^−７／℃、破壊靭性Ｋ_ＩＣが０．７ＭＰａ・ｍ^１／２以上で、密度が２．６ｇ／ｃｍ^３未満である特徴も有す。 （もっと読む）

【課題】塗布膜の一般的な形成方法であるスピンコート法やバーコート法には、基体の縁端部で塗布膜が厚くなってしまうという問題があり、この問題を回避するためには、最終製品の樹脂基板よりも広い基体の上に溶液を塗布し、乾燥、焼成工程を経て樹脂基板を形成した後、基体に接着した樹脂基板を必要なサイズに切断しなければならなかった。
【解決手段】溶液を全面に塗布する基体を保持する載置部、この基体に近接する溶液を一部にだけ塗布する基体とを保持する載置部、該載置部の少なくとも一方が上昇および下降する手段、基体の表面から所要のギャップをおいて近接するバー、などを有する塗布装置によって、溶液を塗布した後、溶液を全面に塗布する基体を保持する載置部または溶液を一部にだけ塗布する基体を保持する載置部の少なくとも一方を上昇または下降することによって塗布膜を切断し、溶液を全面に塗布する基体上に厚みが一定の塗布膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】
酸化インジウムをターゲットに用い、ガラス基板を非加熱の状態で、スパッタリング法によって酸化インジウム膜を形成した透明導電性基板は、該透明導電性基板を様々な温度で加熱処理すると、比抵抗が大きく変化してしまうという欠点を有していた。
【解決手段】
酸化インジウムターゲットを用いてスパッタリング法で非加熱のガラス基板上に酸化インジウム導電膜を成膜するときに、酸素ガスの量が２．５容積％以下のアルゴンガス雰囲気中で酸化インジウム膜を成膜し、酸化インジウムの成膜後、該酸化インジウムの成膜されたガラス基板を１００〜２００℃の温度で加熱処理し、酸化インジウムのシート抵抗を、５０〜１５０Ω／□とする酸化インジウム膜の製法。 （もっと読む）

【課題】
酸化インジウムをターゲットに用い、ガラス基板を非加熱の状態で、スパッタリング法によって酸化インジウム膜を形成した透明導電性基板は、該透明導電性基板を様々な温度で加熱処理すると、比抵抗が大きく変化してしまうという欠点を有していた。
【解決手段】
酸化インジウムターゲットを用いてスパッタリング法で非加熱のガラス基板上に酸化インジウム膜をアルゴンガス雰囲気中で成膜し、酸化インジウムの成膜後、該酸化インジウムの成膜されたガラス基板を２００〜３５０℃の温度で加熱処理し、酸化インジウムのシート抵抗を５０〜１５０Ω／□とすることを特徴とする透明導電膜の製法である。 （もっと読む）