【課題】ターゲット物質の出力位置の安定性が向上し、チャンバ外の異物がチャンバ内に侵入することを抑制し得るとともに、チャンバ内のターゲット物質がチャンバ外に放出されることを抑制し得るノズルのクリーニング機構を提供すること。
【解決手段】ＥＵＶ光生成装置１のノズル７１２のクリーニング機構９は、ＥＵＶ光２５２の生成が行われるチャンバ２内にターゲット物質２７１を出力するためのノズル７１２を、チャンバ２内で物理的にクリーニングしてもよい。 （もっと読む）

【課題】紫外線のレーザ光の波長の検出精度を高めた波長検出器を提供すること。
【解決手段】レーザ光を拡散させる拡散素子と、拡散素子の下流に設けられる集光光学系と、集光光学系の下流に設けられ、アパーチャを備える部材と、部材の下流に設けられ、貫通孔がそれぞれ形成された筒状のアノードおよびカソードを含み、アノードに直流電圧を印加した状態で所定の第１の波長のレーザ光がカソードの貫通孔を通過するときに、オプトガルバニック効果によってアノードとカソードの間の電気的特性が変化するように構成された放電管と、前記アノードに直流電圧を印加するよう構成された高圧直流電源とを備える。アパーチャを通過するレーザ光が放電管のカソードに直接照射することなくカソードの貫通孔を通過するように放電管が配置されている。 （もっと読む）

【課題】ターゲットの軌道を擾乱させることなく、ドロップレットターゲットをレーザ照射位置に高速に供給する機構と、プラズマから発生したイオン（帯電したデブリ）を磁場の作用によりトラップする機構とを両立させる。
【解決手段】極端紫外光源装置は、（ｉ）内部で極端紫外光が生成されるチャンバと、（ii）チャンバ内にターゲット物質を噴射するターゲットノズルと、（iii）ターゲットノズルから噴射されるターゲット物質を帯電させる電荷供給装置と、（iv）電磁石、超伝導磁石、及び、永久磁石の内のいずれかを含み、チャンバ内にミラー磁場を形成する１組の磁石と、ターゲット物質の軌道において該ミラー磁場の磁束線が略直線状且つターゲット物質の進入方向に対して略平行となるように、補助的な磁場を形成する少なくとも１つの補助磁場形成装置とを含む磁場形成装置とを有する。 （もっと読む）

【課題】安定したレーザ光を出力する。
【解決手段】チャンバ装置は、レーザ光を出力するレーザ装置とともに用いられるチャンバ装置であって、前記レーザ光を導入する導入口を備えるチャンバと、前記チャンバ内の所定領域にターゲット物質を供給するターゲット生成器と、前記レーザ光を前記所定領域に集光する集光光学系と、ガイド光を出力するガイド光出力装置と、前記ガイド光の光路の中心軸を前記レーザ光の光路の中心軸と一致させるとともに、前記ガイド光を前記ガイド光出力装置から前記所定領域を経由して前記集光光学系に入射させる光学系と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】安定したレーザ光を出力する。
【解決手段】レーザ装置は、それぞれシード光を出力する複数のマスタオシレータと、前記複数のマスタオシレータから出力された複数のシード光を再生増幅し得る再生増幅器と、前記複数のシード光を前記再生増幅器に入射し、且つ、前記複数のシード光のうち少なくとも１つを他のシード光と異なる入射角度で前記再生増幅器に入射する光学系と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光生成装置に用いた場合生成される極端紫外光の強度を安定化させる。
【解決手段】チャンバ装置は、少なくとも１つのレーザ装置と共に用いられるチャンバ装置であって、前記少なくとも１つのレーザ装置から出力される少なくとも１つのレーザ光を内部に導入するための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するためのターゲット供給部と、前記少なくとも１つのレーザ光を前記所定の領域で集光させるためのレーザ集光光学系と、前記少なくとも１つのレーザ光の前記所定の領域におけるビーム断面の光強度分布を補正するための光学素子と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】安定した極端紫外光を得る。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、第１レーザ光と第２レーザ光との光軸を実質的に一致させるビーム調節器と、前記第１および第２レーザ光を導入するウィンドウを含むチャンバと、前記チャンバ内の所定位置付近にターゲット物質を供給するターゲット供給装置と、前記所定位置付近に前記第１レーザ光を集光し前記ターゲット物質に前記第１レーザ光を照射するレーザ光集光光学系と、前記第２レーザ光と、前記ターゲット物質から生成されたプラズマから放射された放射光とを検出する光検出ユニットと、前記レーザ光集光光学系が前記第１レーザ光を集光する位置を補正する集光位置補正機構と、前記ターゲット供給装置が前記ターゲット物質を供給する位置を補正するターゲット供給位置補正機構と、前記第２レーザ光と前記放射光との検出結果に基づいて、集光位置補正機構およびターゲット供給位置補正機構を制御するコントローラと、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光生成装置のＣＥを向上させる。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、レーザ光生成システムと、前記レーザ光生成システムから出力される少なくとも１つのレーザ光の光強度および出力タイミングの少なくともいずれか一方を制御するレーザ制御システムと、前記レーザ光生成システムから出力される前記少なくとも１つのレーザ光を内部に導入するための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光放射後に発生するデブリが光学要素に付着して性能劣化することを抑制する。
【解決手段】極端紫外光生成装置１は、レーザ光を内部に入射させるための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバ１１と、チャンバに設けられ、チャンバ内の所定の領域にターゲット物質Ｄを供給するためのターゲット供給部１４ｂと、チャンバに接続される排気ポンプ１２と、チャンバ内に配置される少なくとも１つの光学要素Ｍ１〜Ｍ３と、チャンバに設けられ、チャンバ内でターゲット物質がレーザ光に照射される際に放出されて、少なくとも１つの光学要素に付着したターゲット物質のデブリを、エッチングするために導入されるエッチングガスが通過するエッチングガス導入部１６ａ〜１６ｃと、少なくとも１つの光学要素の温度を制御するための、少なくとも１つの温度調節機構Ｃ２，Ｃ４，Ｃ５と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ型ＥＵＶ光源装置のプラズマ発生室にターゲット物質を供給するターゲット物質供給装置において、ターゲット物質の温度を安定させる。
【解決手段】このターゲット物質供給装置は、外部から供給されるターゲット物質を冷却して液化するための液化室１０８と、液化室１０８において液化されたターゲット物質を噴出するためのノズル１０２と、液化室１０８内においてターゲット物質の温度を制御するためのロッド１０９、冷却装置１１０、ヒータ１１１、温度センサ１１２、及び、温度制御部１１３と、ノズル１０２内においてターゲット物質の温度を制御するためのロッド１１４、冷却装置１１５、ヒータ１１６、温度センサ１１７、及び、温度制御部１１８とを含む。 （もっと読む）