説明

ギガフォトン株式会社により出願された特許

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【課題】LPP式EUV光生成装置のCEを向上させる。
【解決手段】チャンバ内にターゲット物質のドロップレットを供給するステップ(a)と、ドロップレットにプリパルスレーザ光を照射することによりドロップレットを拡散させて所望の拡散ターゲットを形成させるステップ(b)と、拡散ターゲットの照射位置において、メインパルスレーザ光のレーザ光軸に垂直な断面の形状を、レーザ光軸の方向から見た拡散ターゲットの形状と実質的に一致させて、メインパルスレーザ光を、所望の拡散ターゲットに照射することによりプラズマを生成して極端紫外光を生成するステップ(c)と、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】安定したレーザ光を得る。
【解決手段】レーザシステムは、パルスレーザ光を出力するマスタオシレータと、前記マスタオシレータから出力されたパルスレーザ光を増幅する増幅装置と、前記マスタオシレータから出力されるパルスレーザ光のタイミングを検出する第1のタイミング検出器と、前記増幅装置の放電タイミングを検出する第2のタイミング検出器と、前記第1のタイミング検出器と前記第2のタイミング検出器との検出結果に基づいて、前記パルスレーザ光が前記増幅装置の放電空間内を通過する際に該増幅装置が放電するように、前記マスタオシレータが前記パルスレーザ光を出力するタイミングおよび前記増幅装置が放電するタイミングのうち少なくとも一方を制御するコントローラと、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】安定したレーザ光を得る。
【解決手段】レーザシステムは、パルスレーザ光を出力するマスタオシレータと、該マスタオシレータから出力された前記パルスレーザ光を増幅する増幅装置と、前記マスタオシレータと前記増幅装置とを制御するコントローラとを備えてもよい。前記マスタオシレータは、励起光を出力するポンピングレーザと、前記励起光によってレーザ発振するシードレーザと、前記シードレーザから出力されたパルスレーザ光を前記励起光によって増幅する増幅器と、前記シードレーザと前記増幅器との間の光路上に設置された少なくとも1つの光シャッタと、を備えてもよい。前記コントローラが、前記光シャッタを通過したパルスレーザ光が前記増幅装置を通過する際に該増幅装置が放電するように、前記光シャッタの開閉と前記増幅装置の放電とを制御してもよい。 (もっと読む)


【課題】安定したレーザ光を得る。
【解決手段】レーザシステムは、パルスレーザ光を出力するマスタオシレータと、前記マスタオシレータから出力されたパルスレーザ光のコヒーレンスを低下させる低コヒーレンス化光学システムと、前記パルスレーザ光のスペックルが変化するように前記低コヒーレンス化光学システムを制御するコントローラと、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】安定してEUV光を生成する。
【解決手段】レーザ装置を備えた極端紫外光生成装置は、前記レーザ装置から出力されたレーザ光を導入するウィンドウを備えたチャンバと、前記チャンバ内部の所定位置付近にターゲットを出力するターゲット供給部と、前記所定位置付近に前記レーザ光を集光するレーザ集光光学系と、前記所定位置付近を通過したレーザ光の像を検出する検出器と、前記所定位置付近における前記ターゲットの通過位置を調整するターゲット位置調整装置と、前記所定位置付近における前記レーザ光の集光位置を調整するレーザ集光位置調整装置と、前記検出器で検出された像に基づいて、前記ターゲット位置調整装置と前記レーザ集光位置調整装置とを制御する制御部と、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】極端紫外光の生成において変換効率を向上させる。
【解決手段】極端紫外光生成方法は、チャンバ内にターゲット物質を供給するステップ(a)と、ターゲット物質にレーザビームを照射することにより、プラズマを生成して極端紫外光を生成するステップ(b)と、を備える。レーザビームの空間的な光強度分布は、ビーム軸の中心から所定距離の位置における光強度よりも低い光強度を有する低強度領域が前記ビーム軸の中心から前記所定距離の範囲内に存在する空間的な光強度分布を有してもよい。 (もっと読む)


【課題】安定したレーザ光を得る。
【解決手段】マスタオシレータは、励起光を出力するポンピングレーザと、前記励起光によってレーザ発振するシードレーザと、前記シードレーザから出力されたパルスレーザ光を前記励起光によって増幅する増幅器と、前記シードレーザと前記増幅器との間の光路上に設置された少なくとも1つの光シャッタと、前記ポンピングレーザを所定の繰返し周波数で継続的に発振させるとともに、前記光シャッタを開閉制御するコントローラと、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】ターゲット物質を効率よく加熱し、融点以上の温度を維持する。
【解決手段】ターゲット供給装置は、ターゲット物質を内部に収容したリザーバと、リザーバの内部に配置されたヒータであって、リザーバの内部に収容されたターゲット物質を加熱して溶融させるヒータと、ヒータに電流を供給するヒータ電源と、リザーバの内部において溶融したターゲット物質を外部に出力するターゲット出力部と、を含んでいてもよい。リザーバの周囲を外部から遮蔽する遮蔽部材であって、ターゲット出力部から出力されたドロップレットが通過する貫通孔を有する遮蔽部材をさらに含んでいてもよい。 (もっと読む)


【課題】レーザ光を安定させる。
【解決手段】レーザ装置は、外部装置と共に用いられるレーザ装置であって、パルスレーザ光を出力するマスターオシレータと、前記マスターオシレータに接続される第1の電源と、前記マスターオシレータから出力される前記パルスレーザ光の光路上に配置される少なくとも1つの増幅器と、前記少なくとも1つの増幅器に高周波電圧を印加する少なくとも1つの第2の電源と、前記マスターオシレータと前記少なくとも1つの増幅器との間の光路上に配置される少なくとも1つの光シャッタと、前記外部装置からの信号に基づいて、前記レーザ装置を制御するレーザコントローラと、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】EUV集光ミラーを再現性よく位置決めするとともに、EUV集光ミラーにおける歪みの発生を抑制する。
【解決手段】基板材と、基板材の第1の面に設けられた反射膜と、基板材の第1の面と異なる第2の面に設けられた複数の突起部とを含むミラーと、複数の突起部をそれぞれ支持する複数の支持部であって、複数の突起部をガイドするための複数の溝がそれぞれ形成された複数の支持部と、複数の突起部を、複数の支持部の溝に向けてそれぞれ押し付ける複数のクランプ部と、を備えていても良い。 (もっと読む)


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