【課題】研磨装置の稼働率を低下させることなく渦電流センサの較正を行うことができ、精度の高い膜厚監視を可能とする研磨監視方法および研磨装置を提供する。
【解決手段】回転する研磨テーブル１上の研磨面２ａに研磨対象の基板Ｗを押圧して基板Ｗ上の導電膜ｍｆを研磨し、研磨中に研磨テーブル１に設置された渦電流センサ５０により導電膜ｍｆの厚さを監視する研磨監視方法であって、研磨中の渦電流センサ５０の出力信号を取得し、渦電流センサ５０の上方に基板Ｗが存在しない時の出力信号を用いて渦電流センサ５０の出力調整量を算出し、出力調整量を用いて渦電流センサ５０の上方に基板Ｗが存在する時の出力信号を補正して基板Ｗ上の導電膜ｍｆの厚さを監視する。 （もっと読む）

【課題】空間分解能が高く、高精度な計測を可能にする曲げセンサーを提供する事。
【解決手段】曲げセンサーは、可撓性を有する基板に第一薄膜トランジスターと第二薄膜トランジスターとを備え、基板は可撓領域と非可撓領域とを含み、第一薄膜トランジスターと第二薄膜トランジスターとは差動トランジスター対をなし、第一薄膜トランジスターは可撓領域に形成され、第二薄膜トランジスターは非可撓領域に形成されている。薄膜トランジスターはマイクロメーター単位で形成できるため、空間分解能が数マイクロメーターと極めて高い曲げセンサーを実現できる。 （もっと読む）

【課題】膜厚測定の対象測定領域内の絶縁性薄膜の膜厚の空間分布を得る。
【解決手段】試料と、カンチレバーに保持された探針との間に可変直流電圧を印加する原子間力顕微鏡を用いて、絶縁性薄膜の膜厚分布を測定する膜厚評価方法で、試料の測定領域に電圧を変化させて印加するとともに、発生電流および絶縁破壊電圧を測定し、前記測定領域のうち任意の１点の膜厚を基準値として、各測定点の絶縁破壊電圧および（１）式の関係に基づいて、前記測定領域内の相対膜厚の分布を求めることとする。
膜厚＝絶縁破壊電圧÷絶縁破壊電場強度 （１） （もっと読む）

【課題】基板を汚染することなく非接触で保持する基板保持装置では、基板の自重によるたわみが発生したり、使用条件の中で回転動作の風圧による基板のたわみが発生するために、各種処理の障害になっている。
【解決手段】基板の上面を所望の面高さに保持したり、あるいは平面度を保持したりするために、基板上面に基板面の高さを測る非接触の変位センサを設置し、また、載せ台上面には複数の溝と障壁を設け、基板と乗せ台の間にエアーを供給してその圧力によって基板の変位を可能として、さらに、変位センサの出力をフィードバックすることで基板を任意の凸，凹形状に変形したり、平面化することを可能とする構造を持つ基板搭載装置。 （もっと読む）

【課題】サンプルに形成された薄膜の除去工程中に該薄膜に関する情報を、渦電流プローブを使用して実状態で取得する方法を開示する。
【解決手段】渦電流プローブに検出コイルを設ける。渦電流プローブの検出コイルに交流電圧を印加する。渦電流プルーブの検出コイルがサンプルの薄膜に近接したときには、該検出コイルで第１の信号を測定する。該検出コイルが、既知の組成を有しおよび／または該コイルから離れて設けられた基準部材に近接する位置にあるときには、該検出コイルで第２の信号を測定する。第１の信号に含まれる利得及び／又は位相の歪みを第２の信号に基づいて校正する。校正した第１の信号に基づいて薄膜の特性値を決定する。上述の方法を実行する装置を更に開示する。加えて、研磨剤でサンプルを研磨し、このサンプルを監視する化学機械研磨（ＣＭＰ）システムを開示する。このＣＭＰシステムは、研磨テーブルと、研磨テーブル上でサンプルを保持する構成であるサンプルキャリヤと、渦電流プローブとを含む。 （もっと読む）

２つ以上の静電容量センサ(３０ａ、３０ｂ)と、静電容量センサにエネルギを与える１つ以上のＡＣ電力源（３０６ａ、３０６ｂ）と、静電容量センサからの信号を処理する信号処理回路とを具備する、静電容量感知システム。センサは、ペアで配置されている。１つ以上のＡＣ電力源は、センサのペアのうちの第１のセンサに、センサのペアのうちの第２のセンサの電流又は電圧に対して位相が１８０度ずれている交流電流（３０７）又は電圧で、エネルギを与えるように構成されている。センサのペアは、１つの測定距離値に対する測定ユニットを備えている。信号処理回路は、ペアのうちの各センサから出力信号を受信し、ペアのセンサとターゲット（９）との間の平均の距離に関係する測定値を生成する。 （もっと読む）

薄膜構造を有するセンサ（３０）を具備する静電容量感知システムであって、薄膜構造は、第１の絶縁層（３４）と、第１の絶縁層（３４）の第１の表面上に形成されている感知電極（３１）を備える第１の導電膜と、背部ガード電極（３５）を備える第２の導電膜と、を具備している。背部ガード電極は、１つの平面で形成されており、平面に外周部分を備えていてもよく、第１の絶縁層（３４）の第２の表面と、保護層（３８）又は第２の絶縁層（４３）の第１の表面との上に配置されている。背部ガード電極の外周部分は、各感知電極を越えて延在し、側部ガード電極を形成し得る。側部ガード電極は、感知電極を実質的に又は完全に囲んでいる。 （もっと読む）

【課題】可撓性を有する表示装置において、湾曲時の湾曲量に応じた表示制御を行うことで湾曲時の表示信頼性を確保することが可能な、新規かつ改良された表示装置及び表示装置の制御方法を提供する。
【解決手段】可撓性を有する基板と、前記基板に配列された複数の発光素子を有し、映像信号に応じた画像を表示する表示部と、前記基板の表面又は裏面の少なくともいずれかに設けられ、前記基板の湾曲状態を検知する変位センサと、前記変位センサにより前記基板の湾曲が検知された場合に、前記表示部へ画像を分割して表示する制御を実行する制御部と、を備える、表示装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】可撓性を有する表示装置が湾曲した場合に表示状態を補償する。
【解決手段】可撓性を有する基板１０２，１０３と、基板に配列された複数の発光素子を有し、映像信号に応じた画像を表示する表示部１１０と、基板１０２，１０３の表面又は裏面に設けられ、基板１０２，１０３の湾曲状態を検知する変位センサ１０６と、基板１０２，１０３の表示部１１０が設けられた面に設けられ、光量を検出する受光部１１２，１１４と、変位センサ１０６により基板１０２，１０３の湾曲が検知された場合に、光量に基づいて画像を表示するための映像信号を制御する出力制御部１３０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】渦電流センサが配置される周囲構造物の材料に影響されることなく、簡単な構成で高感度で且つ安定して導電性膜厚を検出できる渦流センサ及び該渦電流センサを提供すること。
【解決手段】導電性膜が形成された基体の近傍に配置されたセンサコイルを備え、該センサコイルに交流電流を通電することにより、前記導電性膜に渦電流を誘起し、該渦電流により発生する磁束変化をセンサコイルに誘起される誘起電圧により検出して前記導電性膜の膜厚を測定する渦電流センサにおいて、センサコイル２１、２２、２３はセンサヘッド２４に配置されており、センサコイル２１、２２、２３はそれぞれＡ側とＢ側の一対のコイルからなり、一対のコイルの各コイルに通電した際に、センサヘッド２４の一方のコイル周囲を周回する電流Ｉａが、他方のコイル周囲を周回する電流Ｉｂと絶対値が同じで流れの向きが逆になるように配置した。 （もっと読む）

基板上の導電層の厚さを監視する装置は、導電層を有する基板を保持する支持部と、第１の複数のコア部分を含む渦電流監視システムと、支持部と渦電流監視システムとを互いに対して動かすことにより、第１の複数のコア部分を横切って、第１の軸を画定する方向に基板を移動させるモータとを含む。少なくとも１つのコア部分が、第２の軸から、少なくとも２つの他のコア部分よりもさらに遠くに配置される。第２の軸は、第１の軸と直交する。
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【課題】 試料に印加する交流磁界の発生磁束が磁心全般に広がるため検知される空間分解能（測定分解能）が低下する。
【解決手段】 磁心が磁気特性に加えて誘電特性が顕著となる材料製である渦電流センサを使用し、磁気及び誘電特性の複合作用によって生ずる磁心内部の電磁波が定在波となる周波数（寸法共鳴が生ずる周波数）又はその近傍の周波数で前記渦電流センサを作動させて（磁心を励磁して）定在波の山の部分に磁束を集中させて、その磁界（磁束断面積）を磁心の磁路断面積より小さくし、その磁束を渦電流センサの磁心に与えるようにした。渦電流センサの磁心を、磁気特性に加えて誘電特性が顕著となる材料製として、励磁時の磁気及び誘電特性の複合作用によって生ずる磁心内部の電磁波が定在波となる周波数で作動させると、発生磁束が定在波の山の部分に集中するようにした。磁心材料をＭｎ−Ｚｎフェライトとすることができる。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハーなどの表面の金属イオンによる汚染やアース電極の接触によるキズを避けなければならない場合や表面の汚染やアース電極の接触によるキズをそれほど考慮しなくてもよいような場合などの被測定体の測定条件に応じて、上記アース電極と上記被測定体とを接触状態又は非接触状態に切り替えることができる。
【解決手段】被測定体Ｗの測定部位Ｐを境にして対向する位置に所定の対向距離Ｇ_Sを置いて一対の静電容量式距離検出センサＳ₁・Ｓ₂を配置し、被測定体の複数の測定部位Ｐ₁、Ｐ₂、Ｐ₃の厚みを多点測定する静電容量式厚み多点測定装置において、アース電極８と被測定体とを被測定体の測定条件に応じて接触状態又は非接触状態に切替可能な接離機構１３を設けてなる。 （もっと読む）

【課題】導電性膜内の微細な配線に強い磁束によるジュール熱損を及ぼすことなく、研磨終了時点を精度よく予測する。
【解決手段】ウェーハWの導電性膜を除去する研磨工程において、ウェーハ上の導電性膜に二次元平面のインダクタ型センサ34を近接させて、インダクタ型センサによりウェーハの導電性膜に誘起される磁束をモニタする。インダクタの形状、インダクタと導電性膜との距離、発振周波数などの条件を導電性膜に表皮効果が働く程度に適正化し、研磨終了の直前に磁束のピークが出現するように構成する。研磨終了の直前では導電性膜を磁束が殆ど貫通せず、ウェーハ内の微細配線などを損傷する虞がなくなる。 （もっと読む）

【課題】半導体素子端面の反射率を精度よく測定するとともに、測定値に基づいて該半導体素子端面の反射率をより設計値に近づけた半導体素子を得ることを可能とする半導体素子端面の誘電体薄膜膜厚評価方法を提供する。
【解決手段】TiO₂膜およびSiO₂膜を備え、半導体素子の光出射端面に設けられるＨＲ膜の膜厚を、ＨＲ膜に対して半導体素子の光出射端面外部から照射された励起光によって生成された光励起電流を測定し、光励起電流の測定値に基づいて光励起電流の変動率Ｉ_phを算出し、光励起電流の変動率Ｉ_phの算出結果と、予め参考値として計算したTiO₂膜の設計膜厚と実際の膜厚のずれ及びSiO₂膜の設計膜厚と実際の膜厚のずれに対する変動率の関係とを比較し、TiO₂膜の実際の膜厚とSiO₂膜の実際の膜厚の取り得る領域（I）、（II）と（IV）を決定することによって求めるようにした。 （もっと読む）

【課題】測定精度が可動物体の動作によって引き起こされる妨害によって実質的にほとんど影響されない、位置信号を測定するように構成されたエンコーダ型高精度測定システムを提供する。
【解決手段】可動物体の位置信号を測定するように構成され、可動物体の上に取付け可能な少なくとも１つのセンサと、実質的に静止したフレームの上に取付け可能なセンサターゲット物体と、実質的に静止したフレームの上にセンサターゲット物体を取付けるように構成された取付けデバイスとを含む。さらに、実質的に静止したフレームに対するセンサターゲット物体の移動および／または変形を補償するように構成された補償デバイスを含む。補償デバイスは受動型または能動型制振デバイスおよび／またはフィードバック位置制御システムを含むことができる。補償デバイスは、可動物体の運動中にセンサターゲット物体の位置を固定する把持デバイスを含むこともできる。 （もっと読む）

【課題】渦電流損失測定センサ、膜厚測定装置、膜厚測定方法およびコンピュータ読取り可能な記録媒体を提供する。
【解決手段】高周波磁界を励磁して導電性膜９に渦電流を励起させるコイルと、渦電流に起因する渦電流損失の影響を受けた高周波電流を出力するコイルとを有する渦電流損失測定センサ２０と、コイルが出力する高周波電流から渦電流損失測定センサ２０のインピーダンスの変化、高周波電流の電流値の変化または高周波電流の位相の変化を測定して渦電流損失量を測定するインピーダンスアナライザ４８と、導電性膜９と渦電流損失測定センサとの距離を測定する光学式変位センサ３２と、インピーダンスアナライザ４８と光学式変位センサ３２の各測定結果に基づいて導電性膜９の膜厚を算出する膜厚演算部５４を含む制御コンピュータ４２と、を備える膜厚測定装置１。 （もっと読む）

【課題】炭化ケイ素（ＳｉＣ）表面を有する部品上にアルミナコーティングを作製する方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、炭化ケイ素（ＳｉＣ）表面を有する部品上にアルミナコーティングを堆積する方法に関する。方法は、ａ）化学気相溶射によってＳｉＣ表面上にシリコン接着下層（２０）を堆積するステップと、ｂ）常圧溶射によってシリコン接着下層（２０）上にコーティング（３０）を堆積するステップと、を含む。
本発明はまた、変形を測定する装置を提供し、装置は、部品の基材を被覆する炭化ケイ素層上に堆積されたシリコン接着下層上への常圧溶射によって得られた第１のアルミナコーティング（３０）と、コーティング（３０）上に置かれたフリーフィラメントひずみゲージ（４０）と、ひずみゲージ上への常圧溶射によって得られたさらなるアルミナコーティングと、を含む。 （もっと読む）

【課題】炭化ケイ素（ＳｉＣ）の表面を有する部品上にコーティングを作製する方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、炭化ケイ素（ＳｉＣ）からなる表面を有する部品にコーティングを堆積する方法に関する。方法は、（ａ）上記表面の粗さを増加させる目的で、レーザー衝突を重ねることにより、ＳｉＣ表面にレーザー処理を適用するステップと、（ｂ）常圧溶射によってＳｉＣ表面上にコーティング（３０）を堆積するステップと、を含む。
本発明はまた、変形を測定する装置を提供し、装置は、レーザー衝突を重ねることによって処理された後、部品の基材を被覆する炭化ケイ素層上の、常圧溶射によって得られた第１のアルミナコーティング（３０）と、コーティング（３０）上に置かれたフリーフィラメントひずみゲージ（４０）と、ひずみゲージ上への常圧溶射によって得られたさらなるアルミナコーティングと、を含む。 （もっと読む）

【課題】加速度を検出する検出部としての変位可能な可動電極を有する加速度センサ装置において、検出部の機械的な破損に対して冗長性を持たせることで信頼性の向上が図れるようにする。
【解決手段】検出部１〜４は、検出対象として加速度を検出するものであって、可動部としての可動電極２０とこの可動電極２０に対向して配置された固定電極３０、４０とを有するとともに、加速度の印加時には、可動電極２０と固定電極３０、４０との間の容量が変化し、この容量変化が検出部１〜４の信号として出力されるものである。このような検出部１〜４を、１つの半導体チップ１０に複数個設けることで、１個の検出部が機械的に破損したとしても、他の検出部からの出力信号により検出を行うことができる。 （もっと読む）