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Fターム[2F065QQ16]の内容

光学的手段による測長装置 (194,290) | 信号処理 (28,761) | フーリエ変換;逆フーリエ変換 (544)

Fターム[2F065QQ16]に分類される特許

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【課題】制御系の演算処理に対する負荷を軽減しつつ、車両と共に移動する車載のカメラによる撮影画像から精度良く横断歩道を検出すること。
【解決手段】車両に搭載したカメラ60からの撮影画像の画像認識領域の部分をマイコン30でエッジ処理し、エッジ処理した画像信号を画像認識LSI51で高速フーリエ逆変換して、強周期性を有するゼブラパターンを画像認識領域中から抽出する。抽出したゼブラパターンの周期性が横断歩道の周期性の範囲内であれば、そのゼブラパターンを横断歩道であるとマイコン30が認識する。 (もっと読む)


【課題】樹脂製保持器に対して高精度に欠陥等を検出することができる樹脂製保持器の欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】転動体7が保持されるポケット8を周方向に沿って複数個有する樹脂製保持器1の欠陥を検査する。樹脂製保持器1をその軸心廻りに回転駆動させつつ、樹脂製保持器1のアキシャル方向及び/又はラジアル方向の変位を検出し、この変位量に基づいて良品判定を行う。 (もっと読む)


【課題】コストの増加を抑えながら参照面と被検面との間の光路長差の変化に起因する計測誤差を低減し、参照面と被検面との間の距離を計測する計測装置を提供する。
【解決手段】周波数を走査可能なn(n=2以上の整数)個の光源と、前記n個の光源からのそれぞれの光を分割し、参照面と被検面とに入射させる分割素子と、前記参照面で反射された光と、前記被検面で反射された光との干渉により形成されるn個の干渉光を検出して干渉信号を出力する検出部と、前記距離を求める処理部と、前記処理部は、前記n個の光源のうち1つの第1光源からの光の周波数を第1方向に第1走査速度で走査するように制御し、且つ、前記n個の光源のうち他の1つの第2光源からの光の周波数を第1方向とは逆の第2方向に前記第1走査速度とは異なる第2走査速度で走査するように制御し、前記n個の光源を制御している間の前記干渉信号に基づいて、前記距離を求める。 (もっと読む)


【課題】高速に移動する対象物の像を得ることができる観察装置を提供することを目的とする。
【解決手段】観察装置1は、光源部10、周波数変調部20、検出部40、及び演算部50を備える。周波数変調部は、第1の光又は第2の光を入力して、当該入力した光を、第1方向において互いに異なる複数の特定周波数Ωだけ遷移された周波数を有し、第2方向において同一の周波数を有する光に変調する。検出部40は、対象物2で生じた散乱光のうち、検出部40に到達した光を検出し、ドップラーシフト量に応じた周波数で時間的に変化する散乱光のデータを、各時刻に出力する。演算部50は、検出部40からの出力に対して、特定周波数Ωに基づいて複数の周波数領域に分割する処理と、時刻変数に関する1次元フーリエ変換と、周波数に関する1次元フーリエ変換とを行って得られたデータを対象物2の像として得る。 (もっと読む)


【課題】測定可能な膜厚の上限値を容易に変更することができる光干渉システム、基板処理装置及び計測方法を提供する。
【解決手段】光干渉システム1は、光源10、コリメータ12、単一の受光素子41、チューナブルフィルタ40及び演算装置15を備える。コリメータ12は、光源10からの測定光を測定対象物の第1主面へ出射するとともに、第1主面及び第2主面からの反射光を入射する。単一の受光素子41は、コリメータ12からの光の強度を取得する。チューナブルフィルタ40は、受光素子41に入射される光の波長を掃引する。演算装置15は、チューナブルフィルタ40及び受光素子41を用いて、波長に依存した強度分布であって第1主面及び第2主面からの反射光の強度分布である干渉強度分布を測定し、干渉強度分布をフーリエ変換して得られる波形に基づいて測定対象物の厚さ又は温度を計測する。 (もっと読む)


【課題】光ファイバの長手方向の曲率変動を容易かつ高精度に測定する方法を提供する。
【解決手段】光ファイバ1の一端を回転可能に把持し、該光ファイバ1の軸方向側面上の所定長離れた2点に対して、該軸方向にほぼ垂直かつ互いに平行な2本のビーム光線6を照射し、前記側面上で散乱した2つの散乱反射光7のそれぞれの代表位置を、該光ファイバ軸と平行な軸上の座標位置として計測し、得られた2つの座標位置の差分を求め、次いで、該光ファイバ1を所定角度回転させ、同様の操作を行って2つの座標位置の差分を求める操作を複数回繰返し、得られたそれぞれの角度での差分から正の値を取る振幅SAの代表値を求め、さらに振幅SAから曲率を求め、これを第1の光ファイバ長手位置の第1の曲率とし、さらに、光ファイバ1の長手方向にビーム光線を照射する位置を変え、同様の処理を複数回繰り返して前記第1から第mまでの曲率を求める。 (もっと読む)


【課題】オンライン測定において安定した測定ができる干渉式膜厚計を提供する。
【解決手段】投受光プローブ5から照射される光の焦点位置であり、かつ投受光プローブ5に入射する光の焦点位置である共通焦点位置を所定範囲内で走査させる焦点位置走査部7が設けられている。演算部13は、投受光プローブ5が受光した光の分光スペクトルデータを取得する分光データ取得部15と、分光スペクトルデータに基づいてパワースペクトルを算出するパワースペクトル算出部17と、パワースペクトルのデータに基づいて測定対象膜23の膜厚を算出する膜厚算出部19と、分光スペクトルデータもしくはパワースペクトルのデータ又はそれらの両方にしきい値を設け、しきい値以上のデータを抽出するデータ抽出部21と、を備えている。膜厚算出部19はデータ抽出部21が抽出したデータに対応する膜厚データを出力する。 (もっと読む)


【課題】参照面と被検面との間の距離の計測において、計測範囲の広範囲化の技術を提供する。
【解決手段】光源からの第1光を参照面に入射させ第2光を被検面に入射させる分割素子と、前記参照面で反射された前記第1光と前記被検面で反射された前記第2光との干渉光の位相をシフトさせる位相シフト部と、前記干渉光の強度を検出する検出部と、前記光源からの光の周波数を連続的に3つ以上の周波数に設定し前記3つ以上の周波数のそれぞれについて前記干渉光の位相をシフトさせながら前記干渉光の強度を検出するように前記検出部を制御し検出される前記干渉光の強度及び前記位相シフト部による前記干渉光の位相のシフト量に基づいて、前記参照面と前記被検面との間の光路長に相当する位相を特定し前記参照面と前記被検面との距離を求める処理部と前記処理部は前記3つ以上の周波数のそれぞれの間の周波数差が互いに異なるように前記3つ以上の周波数を設定する。 (もっと読む)


【課題】スカッフィングを精度よく検出できるとともに、スカッフィングの大きさを定量的に評価できるエンジンボア表面傷の評価方法を提供する。
【解決手段】解析画像データ41を取得して、第一周波数スペクトル42を求める工程S10・S20と、フィルタリングした第一周波数スペクトル42を復元し、二次元凹凸データ45を生成するステップS30〜S50と、二次元凹凸データ45から第二周波数スペクトル46を求めるとともに、スカッフィングW3を検出するステップS60・S70と、二次元凹凸データ45から第三周波数スペクトル47を求めるとともに、フィルタリングした第二周波数スペクトル46を復元するステップS80〜S110と、復元した二次元凹凸データ49よりスカッフィングW3を評価するステップS120〜S150とを行う。 (もっと読む)


【課題】より小型または簡単な構成で、より精度よく、半導体ウェハの表面に存在するソーマークの検出又は大きさの測定を行うことが可能な技術を提供する。
【解決手段】半導体ウェハWの表面に対して斜め方向から、入射面において平行光である光を照射し、ラインセンサカメラ3、4で半導体ウェハWの表面におけるライン状の領域3aを撮影する。このことで、半導体ウェハWの表面からの照射光の反射光または散乱光を検出し、この強度に基づいて、半導体ウェハWの表面における線状の凹凸を検出し、またはその大きさを測定する。光源装置1、2によって、ラインセンサカメラ3、4によって撮影されるライン状の領域3aのラインに平行な方向から光を照射し、線状の凹凸の方向がラインの方向に直交するように配置された状態で、半導体ウェハWの線状の凹凸を検出し、またはその大きさを測定する。 (もっと読む)


【課題】車両が走行しようとする路面を分析し、車両の安全性および制御を向上させる。
【解決手段】システム10は、シリコン網膜11のようなAERカメラを用いる。このシリコン網膜11を用いて、走行しようとする路面をモニタリングする。そして、処理ユニット12が、そのシリコン網膜によって提供された信号に基づいて、路面を分析する。路面分析方法は、上記のシステム10によって実行され、従来の分析方法を凌駕するものである。 (もっと読む)


【課題】屈折率が未知の誘電体薄膜の膜厚を正確に測定することができる膜厚測定装置および膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】膜厚測定装置は、第1の反射干渉光および第2の反射干渉光のそれぞれについて第1の波長分布および第2の波長分布を生成する波長分布生成部72と、第1の波長分布および第2の波長分布にもとづいて、それぞれ第1の入射角に対応する第1の光路差および第2の入射角に対応する第2の光路差を求める光路差算出部73と、入射角、膜厚および屈折率を変数とした関数として光路差を表した式を用いて、第1の入射角および第2の入射角ならびに光路差算出部73に算出された第1の光路差および第2の光路差を式に代入することにより、薄膜の膜厚および屈折率を求める膜厚屈折率算出部74と、を備える。 (もっと読む)


【課題】高精度に調整可能な露光装置の調整方法を提供することにある。
【解決手段】本発明の露光装置の調整方法は、鏡面部に光散乱部位を有する鏡面部材を有する露光装置の上記鏡面部に対し、レーザー光を照射する工程と、上記鏡面部の上記光散乱部位からの上記レーザー光の散乱光に基づき、上記光散乱部位までの距離を演算する工程と、上記演算工程に基づき上記鏡面部の形状を判定する工程と、上記判定結果に基づき、上記鏡面部の形状を調整する工程と、を有する。かかる方法によれば、鏡面部であっても光散乱により鏡面部の形状認識が可能となり、これに基づき、鏡面部の表面形状を調整することで、露光光の平行度の補正を効果的に行うことができる。 (もっと読む)


【課題】簡単な構成で、深度に関して解像度の良い、広い、三次元撮像方法の実現。
【解決手段】位相感知分光的符号化撮像を使用する、三次元表面測定値を得るための方法および装置が記述される。横方向および深度の両者についての情報は、単一モード光ファイバを介して送信され、本手法を小型プローブへの組み込むことが可能となる。 (もっと読む)


【課題】パターンのムラ欠陥の生じない描画条件を導出し、製品の歩留まりを向上する。
【解決手段】基板上に描画するパターンのムラ欠陥が発生しない描画条件を導出する方法であって、基板上に形成するパターンを生成するパターン情報生成工程S1と、パターンに対して、複数の描画項目の組み合わせによる、2通り以上の描画条件を設定する描画条件設定工程S2と、前記生成されたパターンを抜き取り、補助基板上に、前記各描画条件のもとに、矩形領域をなす補助パターンを形成する補助パターン描画工程S3と、補助基板に対して照明光を入射し、補助パターンから生じる回折光を光電変換素子にて画像として取得し、ムラ欠陥に関するムラ評価値とムラ発生周期とを求めことにより、複数の描画条件の中からムラ欠陥が生じない描画条件を導出する描画条件判定工程S4とを含むパターンの描画条件導出方法である。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成で参照面と被検面との間の絶対距離を高精度かつ高速に計測可能な計測装置を提供すること
【解決手段】波長走査干渉計は、複数の光源IL1〜IL3と、複数の光束を合成するビームスプリッタ103bと、ビームスプリッタ103bからの光を参照光束と被検光束に分割し、干渉計ユニット300によって検出された干渉信号に基づいて参照面と被検面との間の絶対距離を決定する処理部107と、を有する。干渉計ユニットは、複数の種類の光束に対応する複数の種類の干渉縞のそれぞれを、合成された干渉信号S100として検出する単一の光検出部106を有し、処理部は、合成された干渉信号に対してFFTを行って複数の種類の光束のそれぞれについて絶対距離L〜Lを取得し、取得した複数の絶対距離を演算して一つの絶対距離Lを出力する。 (もっと読む)


【課題】ノイズの少ない方法で、容易には測定できない位相特性を測定し、また、振幅特性を強調された方法で
測定する。
【解決手段】振幅及び位相を有する分析対象波面に対して、フーリエ変換処理を行い、該分析対象波面に対応する複数の異なる位相変化された変換波面を取得し、該複数の位相変化された変換波面の複数の強度マップを取得し、該複数の強度マップを用いて該分析対象の三次元画像形成波面の振幅及び位相を表示する出力を取得する。 (もっと読む)


【課題】測定対象物の形状を高精度で測定できる形状測定装置、形状測定方法、及び構造物の製造方法を提供すること。
【解決手段】被測定物に所定の光量分布を有するパターン光を形成する照明部と、光が被測定物に照射される照射方向と異なる方向から被測定物に照射されたパターン光の像を撮像する撮像素子を含む撮像部と、像の撮像信号を評価する評価部と、評価部の評価結果に基づき撮像部の撮像結果に対して所定の処理を行うことで被測定物の位置情報を算出する処理部と、を備える形状測定装置に関する。 (もっと読む)


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