【課題】測定感度および測定精度が高く、効率の良い、半導体ウェハプロセス用希ふっ酸溶液の不純物分析方法を提供すること。
【解決手段】希ふっ酸溶液を浸漬槽から採取するＡ工程と、液中のＳｉの質量数２８、Ｐの質量数３１およびＰＯ不純物の質量数４７の質量スペクトル強度を計測するＢ工程と、採取した希ふっ酸溶液を乾燥濃縮して固形化するＣ−１工程、この固形物中のＳｉ、Ｐ、ＰＯ元素の真空中でのエネルギー強度を測定するＣ−２工程と、前記固形物の真空中での質量スペクトル強度を計測するＣ−３工程、Ｃ−３工程で求めた目的の不純物の質量スペクトル強度とマトリックス質量のスペクトル強度とを合わせたスペクトル強度と目的の不純物の質量スペクトル強度との強度比を求め、この強度比によって前記Ｂ工程で求めた質量スペクトル強度を補正して、希ふっ酸溶液中のＳｉ、Ｐ，ＰＯの真の不純物量を求める。 （もっと読む）

【課題】表面処理を行ったフィルム、ここでは薬剤による化学的処理や微細形状加工などを除く、不安定で失効しやすい表面改質処理を行なったポリマーフィルムを対象とした評価を行うに当り、測定用装置によって生じたダメージに起因する誤差を修正して、より正確な初期表面状態を容易かつ簡便に評価可能な技術を提供することを課題とする。
【解決手段】コロナ処理など不安定な表面改質処理を行ったポリマーフィルムについて、その表面状態を定量的に評価するに際し、測定用装置によって生じたダメージに起因する誤差を修正して、より正確な初期表面状態の評価を行う。 （もっと読む）

【課題】タンパク質結晶に損傷を与えることなく、かつ、簡便に、Ｘ線回折実験に適用するためのタンパク質結晶試料の調製方法を提供する。
【解決手段】タンパク質及びゲル化剤を含む溶液をイオン架橋形成溶液に加えて、タンパク質溶液を内包したイオン架橋ゲルカプセルを形成させる工程を含む、タンパク質結晶化用カプセルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】迅速に、かつ正確な方法で使用する石炭灰のアルカリシリカ反応の抑制効果を評価することのできる方法、およびそれを用いたセメントおよびコンクリートの製造方法を提供する。
【解決手段】電子顕微鏡を用いた粒子解析により、使用する石炭灰中に含まれる特定の種類の粒子の比表面積を算出し、予め収集した産地の異なる石炭灰を混合したモルタルによるアルカリシリカ反応性試験の膨張率のデータとを比較し、使用する石炭灰のアルカリシリカ反応の抑制効果を評価する。さらに、使用する石炭灰中に含まれる特定の種類の粒子の比表面積と石炭灰のセメント置換率を乗じた積の値をアルカリシリカ反応抑制の指標として用い、使用する石炭灰のセメントおよびコンクリートへの必要な配合量を算出する。 （もっと読む）

【課題】
ディスクブレーキやドラムブレーキに使用される摩擦材において、摩擦材内部の気孔の状態や亀裂による空隙の有無を迅速、正確、且つ容易に観察することができる摩擦材の分析方法を提供すること。
【解決手段】
摩擦材の成分に含まれず、且つＸ線に対する感度の高い元素である塩素を含む物質を含浸させ、Ｘ線分析装置を用いて摩擦材内部に侵入した塩素を検出し、検出した塩素の分布状態を分析する。
前記塩素を含む物質は、４,４’-メチレンビス（２-クロロアニリン）が好ましい。
摩擦材の内部構造を分析することにより、要求される摩擦特性や振動特性を得るための好適な製造条件を求めることができ、所望の特性の摩擦材を容易に製造することができる。 （もっと読む）

【課題】 蛍光Ｘ 線分析装置において高精度な分析結果を得る方法及び装置を提供する。
【解決手段】 半導体基板を酸蒸気に暴露する工程と、酸蒸気に暴露された前記半導体基板の表面の不純物を酸溶液で走査回収する工程と、前記走査回収した酸溶液を前記半導体基板上で濃縮乾燥させ濃縮乾燥物に変える工程と、前記濃縮乾燥物を全反射蛍光Ｘ線分析で測定し第一の測定値を得る工程と、前記半導体基板を酸蒸気に暴露する工程の後に、前記半導体基板上で前記濃縮乾燥物の位置とは異なる位置を全反射蛍光Ｘ線分析で測定し第二の測定値を得る工程と、前記第二の測定値を用いて前記第一の測定値の精度の確認を行う工程とにより半導体基板の分析を行う方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は水中の重金属イオンを検出する方法及び装置について開示したものである。
【解決手段】当該方法は、以下のステップを含むものである。（ａ）検出用材料を提供するステップ、上記検出用材料は親水層を備え、上記親水層の少なくとも一部は疎水層によって覆われ、上記疎水層は長鎖チオール、長鎖脂肪酸及びそれらの組み合わせから選択される長鎖化合物によって形成され、上記疎水層によって覆われた領域を検出区域とし、上記検出区域の表面と水との初期接触角は約１２０°以上であり、（ｂ）上記検出用材料の検出区域と検出対象水溶液とを接触させるステップ、（ｃ）検出対象水溶液と接触した後の上記検出用材料の検出区域の表面に疎水性―親水性変化が起きているかを判断するステップ、及び（ｄ）上記判断に基づき検出対象水溶液中において重金属イオンが存在するかを判断するステップ。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、X線等による回折測定時の含水結晶の乾燥を防ぎ、適切な試料凍結を行う方法及びそのための装置の提供を目的とする。
【解決手段】
結晶を水溶性ポリマーで包み込む工程を含む含水結晶のＸ線回折測定方法。 （もっと読む）

【課題】
多元素同時分析を可能とし、運転に必要とされる洗浄作業や消耗品交換の保守作業を低減し、測定データをオンライン伝送する水質管理システムにも好適な蛍光Ｘ線水質計を提供する。
【解決手段】
測定試料の一部は脱泡槽１４の下部からノズル１３に導かれ、大気中に噴出することでセル等を用いずに流束を形成し、Ｘ線発生素子５からＸ線を投影する。陰極電圧可変用電源装置６はＸ線発生素子５が発生するＸ線のエネルギーが測定目的の元素に固有の蛍光Ｘ線エネルギーより大きくなるように調整され、流束から放射される固有の蛍光Ｘ線を半導体Ｘ線検出素子７で検出し、信号処理装置９で処理することで測定試料中に含まれる複数の元素を同時に測定し、その測定データを管理センターに伝送することで水質管理システムを構成する。 （もっと読む）

【課題】濃度に拘わらずに液体試料中の元素の定量分析を行うことができる蛍光Ｘ線分析方法及び蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】本発明においては、平坦な試料台２上に所定量の液体試料を滴下し、乾燥させ、残渣試料（残渣）３１を作成する。蛍光Ｘ線装置は、駆動部４１で試料台２を移動しながらＸ線源１１から試料台２へＸ線を照射することにより、残渣試料３１を含む試料台２上をＸ線で走査する。検出部１２は、蛍光Ｘ線を検出する。分析部１３は、特定の元素に起因する蛍光Ｘ線の強度分布を生成し、蛍光Ｘ線の強度の積算値を計算し、予め記憶部１６に記憶された検量線を用いて、積算値から液体試料中の特定の元素の濃度を計算する。液体試料の濃度に拘わらず、残渣試料３１の全体にＸ線が照射され、液体試料に含まれる特定の元素の定量分析が可能となる。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で重元素に対する組成分析を行う。
【解決手段】レーザーコンプトン光１００が試料２００に照射される。このレーザーコンプトン光１００及びこのレーザーコンプトン光１００が試料２００を透過した後の透過光１１０がＸ線検出器１２０で検出され、その検出信号がデータ処理部１３０で処理される。このレーザーコンプトン光発生装置２０は、準単色あるいは単色のＸ線をレーザーコンプトン光１００として出力する。ここでは、周回軌道で加速された高エネルギー電子２１とレーザー光２２とが衝突部２３で衝突する設定とされる。レーザー光源２９から発せられたレーザー光２２は、交差角調整部３０でその交差角が制御され、衝突部２３に導入され、高エネルギー電子２１と衝突する。交差角調整部３０によってこの交差角を制御することによって、レーザーコンプトン光１００のエネルギーを制御することができる。 （もっと読む）

【課題】無機酸化物系材料中のエトリンガイト量を精度良く定量する。
【解決手段】無機酸化物系材料を、5ｍｍより小さい粒度まで粗粉砕し、150μｍ以下の粒度のものを篩いとり、全体に対する150μｍ以下の粒度の質量割合を測定した上で、前記150μｍ以下の粒度の材料中に含まれるエトリンガイトの量を定量分析し、それを質量割合で割り戻すことにより、無機酸化物系材料中のエトリンガイトの量を測定することができる。 （もっと読む）

【課題】効率的な試料表面検査システムを提供する。
【解決手段】試料の表面を平坦化する表面平坦化機構と、試料上に抵抗膜を形成する抵抗膜コーティング機構と、試料表面の評価を行う表面検査機構を備えている。表面検査機構は、紫外線発生源３０と、電磁波を試料表面に斜め方向から導く光学系と、試料表面から放出された電子を試料表面に直交する方向に導く写像光学系４０と、検出器５０と、画像形成／信号処理回路６０とを備えている。写像光学系は、３つのレンズ系４１〜４３と、アパーチャ４４とを備えている。紫外線源の代わりにＸ線源を用いてもよい。また、電子線源から生成された電子線を試料の表面上に導く装置を設け、電磁波照射装置及び電子線照射装置の一方又は両方を駆動して、電磁波又は電子線の一方又は両方を試料の表面に照射するようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】、マスク上の欠陥とそれがウェハに及ぼす影響、修正による改善の程度まで推定可能な欠陥推定装置と欠陥推定方法を提供する。欠陥判定処理を容易にし、マスク上の欠陥とウェハ像への波及を推定可能な検査装置と検査方法を提供する。
【解決手段】マスク検査結果２０５のうち、欠陥箇所のマスク採取データは、模擬修正回路３００に送られて模擬修正が行われる。模擬修正されたマスク採取データは、マスク検査結果２０５に戻された後、対応する箇所の参照画像とともにウェハ転写シミュレータ４００に送られる。ウェハ転写シミュレータ４００で推定されたウェハ転写像は比較回路３０１に送られ、比較回路３０１で欠陥と判定されると、その座標と、欠陥判定の根拠となったウェハ転写像とが、転写像検査結果２０６として保存される。マスク検査結果２０５と転写像検査結果２０６はレビュー装置５００に送られる。 （もっと読む）

【課題】バイオマスメタン発酵施設などにおける含水状態の有機汚泥の全体組成を迅速に評価することができる有機汚泥の組成推定方法を提供することにある。
【解決手段】有機汚泥の組成推定方法において、蛍光Ｘ線法を用いて測定されたリンとカルシウムの量からリン酸カルシウム系化合物量を推定する工程と、前記リン酸カルシウム系化合物に含まれなかったカルシウム残量から炭酸カルシウム量を推定する工程とを備える。有機汚泥としてはメタン発酵汚泥であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 クロメート処理された製品の６価クロム含有クロメート処理皮膜を判別し、皮膜の膜質を把握することを迅速に行えるクロメート処理皮膜質量測定方法を提供する。
【解決手段】 クロメート皮膜を有する製品のクロメート処理皮膜質量測定装置であって、前記製品のクロメート処理皮膜からクロム含有の抽出液を抽出する抽出部１００と、前記抽出部１００で抽出された抽出液に６価クロムが含有することを同定し、定量分析によって前記クロメート処理皮膜中の６価クロムの絶対質量を求める定量部２００と、前記抽出部１００で前記クロム含有抽出液が抽出された後の前記製品の前記クロメート処理皮膜の質量を測定する質量測定部３００とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板表面などに存在する被測定物を反応性ガスにより溶解後、その基板に溶液を滴下して保持具で保持しながら基板表面で移動させ、被測定物を回収後乾燥させて基板表面に保持する試料前処理装置などにおいて、溶液の残量の影響を受けずに、所望の一定の滴下量が得られ、被測定物の回収が正しく行われるものを提供する。
【解決手段】溶液４の残量、弁８２の開放時間および溶液４の滴下量の相関関係をあらかじめ記憶するとともに、溶液４の残量を検知し、その検知した溶液４の残量と相関関係とに基づいて、溶液４を滴下するための弁８２の開放時間を決定する。 （もっと読む）

【課題】複雑な波形分離を用いることなく、固体材料の表面に存在する官能基をより幅広く且つより正確に測定できるようにする。
【解決手段】官能基の測定する方法は、炭素質膜からなる複数の評価用試料を準備する工程（ａ）と、各官能基に対する反応率をあらかじめ測定した複数の標識試薬を準備する工程（ｂ）と、評価用試料と標識試薬とをそれぞれ反応させる工程（ｂ）と、工程（ｂ）よりも後に、評価用試料のそれぞれについてその表面に導入された標識試薬の導入量をＸ線光電子分光測定法により測定する工程（ｃ）と、炭素質膜の表面に存在する各官能基の量を、Ｇ＝Ｒ^-1Ｑに基づいて算出する工程（ｄ）とを備えている。但し、Ｇは各官能基の量を示す行列であり、Ｒは各標識試薬の各官能基に対する反応率を示す行列であり、Ｑは各標識試薬の導入量を示す行列である。 （もっと読む）

【課題】リサイクル樹脂の臭素濃度を精度良く測定する。
【解決手段】少なくとも樹脂片を含む分別対象物を重ならずに移動させる搬送装置と、複数の分別対象物に同時にＸ線あるいは電子線を照射する照射線発生装置と、複数の樹脂片中の臭素から同時に放出される蛍光Ｘ線を検出する検出装置と、検出された蛍光Ｘ線のデータを処理するデータ処理部と、該データ処理部からの信号に基づいて臭素濃度を測定する臭素濃度測定装置であって、前記データ処理部は、検出された蛍光Ｘ線のデータを樹脂片の所定単位毎に積算するように構成する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線を高い効率で「水の窓」領域を含む０．６〜６ｎｍの波長領域の軟Ｘ線に変換すること及び荷電粒子線の試料内での拡散範囲を狭く抑えて試料へのダメージを抑制すること。
【解決手段】
本発明の試料支持部材（１１）は、窒化シリコン膜またはカーボン膜の試料支持膜（１１ａ）の一方主面に、電子線照射により０．６〜６．０ｎｍの波長領域の特性Ｘ線を放射する金属膜（１１ｂ）が設けられている。これは、電子線の照射を受けた金属膜（１１ｂ）から軟Ｘ領域の特性Ｘ線を高効率（高強度）で放射させるためであり、このような高強度の特性Ｘ線を試料（１０）に照射させることにより、観察画像のＳＮ比を向上させることができる。また、金属膜（１１ｂ）には、試料支持膜（１１ａ）内での電子の拡散範囲を抑制するという効果もあるため、入射電子線の加速電圧を高めることが可能となり、ＳＮ比の向上のみならず分解能の向上にも効果がある。 （もっと読む）