【課題】基板の凸凹を気泡なくラミネートさせ、感度向上効果を有する感光性樹脂積層体、該感光性樹脂積層体を用いて基板上にレジストパターンを形成する方法、及び該レジストパターンの用途を提供すること。
【解決手段】支持体上に、感光性樹脂層、保護層を順次積層してなる感光性樹脂積層体であって、該保護層は、感光性樹脂層と接する面の平均粗さ（Ｒａ）が０．５μｍ以上であり、該感光性樹脂層は、（ａ）カルボキシル基含有の熱可塑性共重合体２０〜９０質量％、（ｂ）分子内に少なくとも一つの重合可能な末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー５〜７５質量％、及び（ｃ）光重合開始剤０．０１〜３０質量％を含むドライフィルムレジストであり、そして該（ｃ）光重合開始剤としてヘキサアリールビスイミダゾール誘導体を含むことを特徴とする感光性樹脂積層体。 （もっと読む）

【課題】ビアもしくはトレンチへの埋め込みに好適であり、所望のパターンに基づいた形成が容易であり、エッチング耐性に優れるレジスト下層膜を与えるレジスト下層膜形成用組成物及びこの組成物を用いたデュアルダマシン構造の形成方法を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜形成用組成物は、（Ａ）アリール基を有する重合体、（Ｂ）アセチレン基を有する界面活性剤、及び、（Ｃ）溶剤を含有する。更に、（Ｄ）酸発生剤、（Ｅ）架橋剤等を含有することができる。 （もっと読む）

【課題】光導波路本体（コア部分やクラッド層）に用いて、優れた難燃性を有するフィルム状光導波路を形成することのできる感光性樹脂組成物、及び該フィルム状光導波路を提供する。
【解決手段】フィルム状光導波路は、コア部分及びクラッド層を有する光導波路であって、前記コア部分及び前記クラッド層のうち一以上が、（Ｂ）特定の式で表されるホスファゼン化合物、及び（Ｃ）光ラジカル重合開始剤を含む光導波路用感光性樹脂組成物の硬化物からなる。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＣの如き光透過性を有する基板材料上に所望のレジストパターンを精度よく且つ安定に形成することができるマスクパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】光透過性を有する半導体基板上に光反射膜を形成する。光反射膜の上にフォトレジストを形成する。半導体基板にフォーカス検出光を照射して光反射膜で反射される反射光に基づいて調整された焦点位置に原盤マスクを介して露光光を照射してフォトレジストを露光する。その後、フォトレジストの露光部分又は露光部分以外の部分を除去することによりフォトレジストにパターニング施す。 （もっと読む）

【課題】微小網点再現性と印刷適性の両立可能な直描型水なし平版印刷版原版を提供すること
【解決手段】基板上に、少なくとも断熱層、感熱層およびシリコーンゴム層をこの順に有する直描型水なし平版印刷版原版であって、該感熱層が少なくとも（Ａ）光熱変換物質、（Ｂ）金属含有有機化合物、（Ｃ）ノボラック樹脂および（Ｄ）ポリウレタン樹脂を含有し、かつ（Ｃ）ノボラック樹脂が重量平均分子量の異なる２種類のノボラック樹脂を含有し、ノボラック樹脂のＧＰＣ法による分子量分布が、一方は５百以上５千以下に、他方は１万以上５万以下に極大を有することを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】シート自立化のために支持体を導入してもイオン伝導性がほとんど低下せず、大面積を有する固体電解質シート及び電極シートを提供する。
【解決手段】固体電解質及び複数の開口を有する支持体を含み、前記固体電解質が、前記支持体の開口において、厚さ方向に連続貫通構造を有し、前記支持体が感光性樹脂からなる固体電解質シート。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、簡易にかつ安全に、更に自動現像機内のパーツを損傷することなく、自動現像機の現像槽の付着物を除去することのできる洗浄液を提供することにある。
【解決手段】エチレン性不飽和化合物と光重合開始剤として少なくとも有機ホウ素塩および前記有機ホウ素塩を３８０ｎｍ〜１３００ｎｍの波長領域に増感させる増感色素を含有する光重合系平版印刷版用の自動現像機の現像槽の洗浄液であって、該洗浄液にアルカノールアミンを０．４モル／Ｌ以上６モル／Ｌ以下含有することを特徴とする自動現像機の現像槽の洗浄液。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂層とカバーフィルムを均一に、かつ適度な接着力で貼り合わせることにより、膜厚が均一であり画像の欠けが防止された感光性樹脂転写材料を提供すること。
【解決手段】支持体上に、感光性樹脂層、中間層およびカバーフィルムをこの順に有する感光性樹脂転写材料の製造方法。支持体上に、着色剤、結合剤および感光性樹脂を含む感光性樹脂層形成用塗布液を塗布する感光性樹脂層塗布工程と、カバーフィルム上に熱可塑性樹脂を含む中間層形成用塗布液を塗布する中間層塗布工程と、前記支持体の感光性樹脂層形成用塗布液が塗布された面と、前記カバーフィルムの中間層形成用塗布液が塗布された面とを貼り合わせて感光性樹脂転写材料を得る貼り合わせ工程とを含み、前記中間層塗布工程と貼り合わせ工程との間に、前記中間層形成用塗布液が塗布されたカバーフィルムを加熱する加熱工程を更に含む。 （もっと読む）

【課題】帯電防止膜剥離時の剥離残りが防止され、現像後の面内均一性に優れたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】パターン形成方法が、レジスト膜を半導体基板上に形成する工程、前記レジスト膜上に帯電防止膜を形成する工程、前記レジスト膜に対して電子線を露光する工程、温度３０℃以上３５℃以下の剥離液を用いて前記帯電防止膜を剥離する工程、および前記レジスト膜に対して現像を行い所定のパターンを形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト膜の上に保護膜を形成した時でも、矩形の良好なレジストパターンをより確実に得られるレジスト保護膜材料、及びこのような材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、重合末端にアミノ基又はスルホンアミド基を有する下記一般式（１）で示される高分子化合物を含むものであることを特徴とするレジスト保護膜材料。並びに、少なくとも、基板上にフォトレジスト膜を形成する工程と、該フォトレジスト膜の上に、前記レジスト保護膜材料を用いてレジスト保護膜を形成する工程と、露光する工程と、現像液を用いて現像する工程を含むことを特徴とするパターン形成方法。
【化５２】
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【課題】優れた塗布性を有し、形成された反射防止膜が定在波効果を十分低減でき、しかも微細なマイクロバブルの発生を著しく抑制できる反射防止膜形成用組成物を提供する。【解決手段】反射防止膜形成用組成物は、（Ａ）２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸等で代表されるスルホン酸基含有アクリルアミド誘導体と２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート等で代表されるフルオロアルキル基含有アクリル酸エステル誘導体との共重合体（塩）、並びに（Ｂ）２，５，８，１１−テトラメチル−６−ドデシン−５，８−ジオール、５，８−ジメチル−６−ドデシン−５，８−ジオールや、これらのエチレンオキサイド付加誘導体等で代表されるアセチレン系化合物を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レーザー書き込みが可能な感光層上に、感光層の重合阻害を抑制し、現像除去性に優れ、平版印刷版原版を積層した場合の保護層表面と隣接する平版印刷版原版の支持体との接着を抑制し、保護層と支持体との間のこすりキズの発生がなく、高感度でしかもセーフライト適性に優れた平版印刷版原版の提供。
【解決手段】支持体表面に、感光層と保護層とを順次積層してなり、前記保護層が、ケン化度９１モル％以上で重合度が８００を超え２４００未満の酸変性ポリビニルアルコールと、前記保護層の全質量に対して５〜５０質量％の雲母化合物と、を含有し、好ましくは、更にケン化度９１モル％以上で重合度が１００以上５００未満の酸変性ポリビニルアルコールを含有する平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】 ＣＳＰと呼ばれる半導体装置において、柱状電極形成用メッキレジスト膜を剥離した際にレジスト残渣が発生しにくいようにする。
【解決手段】 まず、ノボラック系樹脂のポジ型の液状レジストからなる配線形成用メッキレジスト膜２３をそのまま残存させた状態で、電解メッキを行うことにより、アクリル系樹脂のネガ型のドライフィルムレジストからなる柱状電極形成用メッキレジスト膜２５の第１の開口部２６内の配線８の接続パッド部上に柱状電極９を形成する。次に、両メッキレジスト膜２３、２５をモノエタノールアミン系のレジスト剥離液を用いて同時に剥離する。この場合、柱状電極形成用メッキレジスト膜２５は、ダイシングライン２２に対応する部分に形成された第２の開口部２７の存在により、平面的な剥離面積が小さくなり、且つ、レジスト剥離液に浸される表面積が大きくなるので、剥離されやすくなる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、印刷時の検討合わせや休憩等でしばらく印刷機を停止した後、印刷再開時に非画像部に発生する微点状の汚れの防止を行なうことができる感光性平版印刷版および該感光性平版印刷版の処理方法を提供することにある。また、長期間処理をした場合に現像槽にたまるスラッジヘドロを低減し清掃作業の負担を減らすことができる感光性平版印刷版および該感光性平版印刷版の処理方法を提供することにある。
【解決手段】光重合組成物を主体として含有する光重合層、並びに該光重合層の上に水溶性重合体及び下記一般式（Ａ）で表される化合物を含有する保護層を有することを特徴とする感光性平版印刷版。
【化１】
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【課題】安価で大きな出力のレーザパワーが得られる赤色半導体レーザを用いても微細なパターンが露光可能なレジスト材料を提供することを目的とする。
【解決手段】半導体装置の製造の際、パターンを形成するために使用されるレジスト膜において、レーザ光の照射によって感光し性質が変化する感光膜１０２と、パターンを形成するためのマスク層１０４と、マスク層１０４を感光膜１０２から剥離するための剥離層１０３と、を有し、感光膜１０２は、遷移金属の不完全酸化物からなり、不完全酸化物は、酸素の含有量が遷移金属のとりうる価数に応じた化学量論組成の酸素含有量より小さい材料である。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト膜に対してエッチング選択比が高く、かつ無機性の緻密な膜を形成することにより上層のフォトレジスト膜が良好なパターンを形成でき、またウエットストリップが可能であり、さらに、保存安定性が高く、下層膜のエッチング時に優れたドライエッチング耐性を示して多層レジスト膜のレジスト中間層膜として好適な反射防止膜材料、及び、この反射防止膜をレジスト中間層膜として有する基板を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト中間層膜として用いる反射防止膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物をキレート化剤と反応させて得られる高分子化合物と、有機溶剤と、酸発生剤とを含有することを特徴とする反射防止膜材料。
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【解決手段】一般式（１）で示される繰り返し単位Ａ及び／又はＢを有する高分子化合物を含むレジスト保護膜材料。


【効果】レジスト膜上に形成されるレジスト保護膜が、非水溶性でアルカリ水溶液に溶解可能であり、しかもレジスト膜とミキシングしないものであるので、良好な液浸リソグラフィーを行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明では、ブラックマトリックスパターンやカラーフィルターを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物の洗浄用として少量で高い洗浄効果を発揮する洗浄剤を提供する。
【解決手段】 顔料分散型の感光性樹脂組成物を除去するための洗浄剤は、アルキルベンゼンを含有する芳香族系化合物を有することにより、上記課題の解決を図る。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ・システムにおいてフォトレジスト層と浸液の間の相互作用を阻止し、浸液の汚染物質が製造中の集積回路を汚染を防止すること。
【解決手段】基板を提供するステップ；前記基板を覆って前記フォトレジスト層を形成するステップ；前記フォトレジスト層を覆って汚染ゲッタリング上塗り層を形成するステップであって、前記汚染ゲッタリング上塗り層が１種または複数種のポリマーおよび１種または複数種のカチオン錯化剤を含むステップと；フォトレジスト層を化学線に露光するステップ、前記フォトレジスト層の前記露光領域または前記フォトレジスト層の前記非露光領域を除去するステップとを含む方法である。前記汚染ゲッタリング上塗り層は、１種または複数種のポリマーと、１種または複数種のカチオン錯化剤と、キャスティング溶媒とを含む。 （もっと読む）

本発明は、再使用可能なフィルムを用いて、レリーフ画像を有する物品を形成する方法に関する。先ず、画像形成されたフィルムを形成するために、少なくともマスク基体と画像形成性材料とを含む画像形成性フィルムを画像形成用輻射線に像様露光させる。該画像形成されたフィルムをその後、フレキソグラフィ印刷版先駆体のような画像形成性物品に転写する。得られた集成体を、硬化輻射線に露光させ、画像形成性物品上で感光性材料の露光された領域と露光されなかった領域とを生成させる。硬化輻射線に露光させた後、画像形成されたフィルムを画像形成性物品から除去する。そして、画像形成性物品を、好適な現像剤で現像してレリーフ画像を形成させる。その後、画像形成されたフィルムを再使用して、さらにレリーフ画像を有する物品を形成することができる。 （もっと読む）